[發(fā)明專利]記錄介質(zhì)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310221696.6
• 申請日: 2013-06-05
• 公開（公告）號: CN103465670A
• 公開（公告）日: 2013-12-25
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 淺尾昌也
• 申請（專利權(quán)）人: 佳能株式會社
• 主分類號: B41M5/50
• 分類號: B41M5/50
• 代理公司: 北京魏啟學律師事務(wù)所 11398
• 代理人: 魏啟學

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及一種記錄介質(zhì)。

背景技術(shù)

已經(jīng)有研究向墨接收層中引入各種材料，以賦予記錄介質(zhì)期望的性能(日本專利特開2008-254430和2011-218580)。日本專利特開2008-254430公開了具有含如下化合物的墨接收層的記錄介質(zhì)，該記錄介質(zhì)可以增強墨的定影性和圖像的清晰度，所述化合物通過含氨基的硅烷偶聯(lián)劑與鋯化合物反應(yīng)而制備并且因而具有氨基并含有鋯和硅。日本專利特開2011-218580公開了具有含如下化合物的墨接收層的記錄介質(zhì)，該記錄介質(zhì)可以增強圖像的顯色性(color?developability)和耐臭氧性，并減少在高溫和高濕下保存的圖像中的滲色(bleeding)，所述化合物含有硅和選自元素周期表第2族和第3族元素的至少一種元素。

日本專利特開2011-201147公開了具有墨接收層的記錄介質(zhì)，所述墨接收層含有Al/Si比為不小于5并且OH/Al比為1至2的水溶性鋁硅酸鹽氯化物、無機細顆粒和水溶性樹脂，該記錄介質(zhì)可以增強耐臭氧性和耐水性而不降低圖像濃度。日本專利特開61-116579公開了在其表面上或者在其表面內(nèi)含有兩層結(jié)構(gòu)的微晶頁硅酸鹽的記錄介質(zhì)，該記錄介質(zhì)顯示出高墨吸收性。日本專利特開2010-222151公開了一種二氧化硅系材料，其含有：硅，鋁，選自由鐵、鈷、鎳和鋅組成的組的至少一種第四周期元素，以及選自由堿金屬元素、堿土金屬元素和稀土元素組成的組的至少一種堿性元素；此類二氧化硅系材料表現(xiàn)出高的機械強度和大的比表面積。日本專利特開2000-154017公開了二氧化硅系非晶質(zhì)材料，其含有：二氧化硅，0-15wt%的選自Na、K、Ca和Mg的至少一種組分的氧化物，以及0-15wt%的選自Zr、Ti、Ge、Ga和Al的至少一種組分的氧化物；此類二氧化硅系非晶質(zhì)材料表現(xiàn)出高的機械強度和大的比表面積。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明提供一種記錄介質(zhì)，其可以增強圖像的顯色性和耐臭氧性，并減少在高溫和高濕下長期保存的圖像中的滲色。

本發(fā)明一方面提供了一種記錄介質(zhì)，其包括基材和形成在所述基材的至少一個表面上的墨接收層，其中所述墨接收層含有無機顏料，粘結(jié)劑，以及含有鋁、硅和選自元素周期表第2族和第3族元素的至少一種元素的化合物，并且相對于無機顏料的含量，所述化合物的含量在0.1質(zhì)量%-30質(zhì)量%范圍內(nèi)。

本發(fā)明能夠提供一種記錄介質(zhì)，其可以增強圖像的顯色性和耐臭氧性，并減少在高溫和高濕下長期保存的圖像中的滲色。

參照附圖，由下列示例性實施方案的描述，本發(fā)明進一步的特征將變得顯而易見。

附圖說明

圖1是示出根據(jù)本發(fā)明實施方案的記錄介質(zhì)的示意性截面圖。

圖2示出本發(fā)明中使用的復(fù)合化合物實例的X-射線衍射(XRD)圖。

具體實施方案

現(xiàn)在將參照實施方案詳細描述本發(fā)明的各個方面。

本發(fā)明人已經(jīng)進行了研究并發(fā)現(xiàn)，在日本專利特開2008-254430和2011-218580中公開的典型的記錄介質(zhì)不能在圖像的顯色性和耐臭氧性以及減少在高溫和高濕下長期保存的圖像中的滲色的所有方面都提供顯著的優(yōu)點。

在日本專利特開2008-254430中公開的記錄介質(zhì)中，增強了圖像的顯色性；相反，圖像的耐臭氧性差，并且在高溫和高濕下保存的圖像中引起滲色。

在日本專利特開2011-218580中公開的記錄介質(zhì)中，增強了圖像的顯色性和耐臭氧性；然而，在高溫和高濕下長期保存的圖像中引起滲色。

在日本專利特開2011-201147和61-116579中公開的記錄介質(zhì)中，和在日本專利特開2010-222151和2000-154017中公開的具有含二氧化硅系材料的墨接收層的記錄介質(zhì)中，圖像的耐臭氧性差。

圖1是示出本發(fā)明的記錄介質(zhì)的實例的示意性截面圖，其中記錄介質(zhì)102包括基材100和在基材100的一個表面上形成的墨接收層101。墨接收層可以形成在基材的兩個表面上。墨接收層101包括含有鋁、硅和選自元素周期表第2族和第3族元素的至少一種元素的化合物(下文簡稱為“復(fù)合化合物”)。所述選自元素周期表第2族和第3族元素的至少一種元素也稱為“第2或第3族元素”，并且含有選自元素周期表第2族和第3族元素的至少一種元素的化合物也稱為“第2或第3族元素化合物”。

現(xiàn)在將描述本發(fā)明是如何完成的以及獲得其中本發(fā)明的記錄介質(zhì)可以增強圖像的顯色性和耐臭氧性并減少在高溫和高濕下長期保存的圖像中的滲色的優(yōu)異效果的推測機理。