[發明專利]可調節LED發光角度的圖形襯底及其制備方法

有效

• 申請號: 201310218789.3
• 申請日: 2013-06-04
• 公開（公告）號: CN103325906A
• 公開（公告）日: 2013-09-25
• 發明（設計）人: 許南發;李睿;黃慧詩
• 申請（專利權）人: 江蘇新廣聯科技股份有限公司
• 主分類號: H01L33/16
• 分類號: H01L33/16;H01L33/22;H01L33/00
• 代理公司: 無錫市大為專利商標事務所 32104
• 代理人: 曹祖良

1.一種可調節LED發光角度的圖形襯底，包括襯底本體（1）；其特征是：所述襯底本體（1）上設有若干圖形凸起（2），所述圖形凸起（2）包括第一晶面體（3）及與所述第一晶面體（3）晶面不同的第二晶面體（4），所述第二晶面體（4）位于第一晶面體（3）上。

2.根據權利要求1所述的可調節LED發光角度的圖形襯底，其特征是：所述圖形凸起（2）中第二晶面體（4）的高度為H1，第一晶面體（3）與第二晶面體（4）的總高度為H2；所述高度H1與高度H2的比值范圍為0.1~10；高度H1與高度H2的高度之和為0.1~5μm。

3.根據權利要求1所述的可調節LED發光角度的圖形襯底，其特征是：所述襯底本體（1）的材料包括藍寶石。

4.根據權利要求1所述的可調節LED發光角度的圖形襯底，其特征是：所述圖形凸起（2）在襯底本體（1）上呈陣列排布。

5.一種可調節LED發光角度的圖形襯底的制備方法，其特征是，所述圖形襯底的制備方法包括如下步驟：

（a）、提供襯底本體（1），并在所述襯底本體（1）上設置掩膜層（5）；

（b）、選擇性地掩蔽和刻蝕所述掩膜層（5），以在所述掩膜層（5）上得到所需的第二刻蝕窗口（8），所述第二刻蝕窗口（8）貫通掩膜層（5）；

（c）、利用第二刻蝕窗口（8）及掩膜層（5）對襯底本體（1）進行濕法腐蝕，以在襯底本體（1）上得到第二晶面體（4）；濕法腐蝕時利用第一腐蝕溶液，所述第一濕法腐蝕液為濃H₂SO₄與濃H₃PO₄的混合溶液，其中，濃H₂SO₄與濃H₃PO₄的體積配比范圍為1:10~10:1，第一腐蝕溶液的溫度為260~330℃；

（d）、去除襯底本體（1）上的掩膜層（5）；

（e）、對上述襯底本體（1）進行再次濕法腐蝕，以在襯底本體（1）上得到第一晶面體（3），所述第一晶面體（3）位于第二晶面體（4）的下方，第一晶面體（3）與第二晶面體（4）共同形成圖形凸起（2）；其中，濕法腐蝕時利用第二腐蝕溶液，所述第二濕法腐蝕液為濃H₂SO₄與濃H₃PO₄的混合溶液，濃H₂SO₄與濃H₃PO₄的體積配比范圍為1:10~10:1，混合溶液的溫度范圍為260~330℃；且第二腐蝕溶液中濃H₂SO₄與濃H₃PO₄的體積配比與第一腐蝕溶液中濃H₂SO₄與濃H₃PO₄的體積配比不同。

6.根據權利要求5所述可調節LED發光角度的圖形襯底的制備方法，其特征是：所述掩膜層（5）為二氧化硅層，掩膜層（5）的厚度為100à~5000à。

7.根據權利要求5所述可調節LED發光角度的圖形襯底的制備方法，其特征是，所述步驟（b）中，包括如下步驟：

（b1）、在掩膜層（5）上涂覆光刻膠（6），并對所述光刻膠（6）進行曝光顯影，以在光刻膠（6）上得到第一刻蝕窗口（7）；

（b2）、利用光刻膠（6）及第一刻蝕窗口（7）對掩膜層（5）進行刻蝕，在掩膜層（5）上得到第二刻蝕窗口（8），所述第二刻蝕窗口（8）與第一刻蝕窗口（7）相對應分布，且第一刻蝕窗口（7）與第二刻蝕窗口（8）相連通。

8.根據權利要求5所述可調節LED發光角度的圖形襯底的制備方法，其特征是：所述圖形凸起（2）中第二晶面體（4）的高度為H1，第一晶面體（3）與第二晶面體（4）的總高度為H2；所述高度H1與高度H2的比值范圍為0.1~10；高度H1與高度H2的高度之和為0.1~5μm。