[發(fā)明專利]光致抗蝕劑組合物

在審

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310218296.X
• 申請日: 2013-06-04
• 公開（公告）號: CN103488048A
• 公開（公告）日: 2014-01-01
• 發(fā)明（設計）人: 河村麻貴;中西潤次
• 申請（專利權(quán)）人: 住友化學株式會社
• 主分類號: G03F7/004
• 分類號: G03F7/004;G03F7/039;G03F7/00
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 李新紅

1.一種光致抗蝕劑組合物，所述光致抗蝕劑組合物包含：

樹脂，所述樹脂顯示通過酸的作用在堿性水溶液中的溶解度增加；

酸生成劑；

增塑劑；和

溶劑，所述溶劑的量為所述光致抗蝕劑組合物的總量的40至75質(zhì)量％。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光致抗蝕劑組合物，其中所述樹脂是通過將以下三者反應而獲得的樹脂：

酚醛清漆樹脂，

具有兩個以上乙烯氧基的化合物，和

樹脂，所述樹脂包含由式(a1-2)表示的結(jié)構(gòu)單元或由式(a2-1)表示的結(jié)構(gòu)單元，或者同時包含這兩種結(jié)構(gòu)單元：

其中R^a1’和R^a2’各自獨立地表示氫原子或其中的亞甲基任選已經(jīng)被氧原子或硫原子代替的C1-C12烴基，R^a3’表示其中的亞甲基任選已經(jīng)被氧原子或硫原子代替的C1-C20烴基，或

R^a1’和R^a2’中的一個與R^a3’連接而形成其中的亞甲基任選已經(jīng)被氧原子或硫原子代替的C2-C20二價烴基，并且另一個表示氫原子或其中的亞甲基任選已經(jīng)被氧原子或硫原子代替的C1-C12烴基，

R^a5表示氫原子或甲基，

R^a6表示C1-C6烷基或C1-C6烷氧基，并且m表示0至4的整數(shù)，

R^a7表示氫原子或甲基，

R^a10表示C1-C6烷基或C1-C6烷氧基，并且m′表示0至4的整數(shù)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光致抗蝕劑組合物，所述光致抗蝕劑組合物還包含酚醛清漆樹脂。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光致抗蝕劑組合物，其中所述酸生成劑是由式(b5)表示的化合物：

其中R^b1表示其中的氫原子任選已經(jīng)被氟原子代替并且其中的亞甲基任選已經(jīng)被氧原子或羰基代替的C1-C18烴基。

5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光致抗蝕劑組合物，其中所述增塑劑是選自由以下各項組成的組中的一種：鄰苯二甲酸酯、脂族烴羧酸酯和芳香族磺酰胺。

6.一種用于制備厚度為3μm至150μm的光致抗蝕劑膜的光致抗蝕劑組合物，所述光致抗蝕劑組合物包含：

樹脂，所述樹脂顯示通過酸的作用在堿性水溶液中的溶解度增加；

酸生成劑；

增塑劑；和

溶劑。

7.一種厚度為3μm至150μm的光致抗蝕劑膜，所述光致抗蝕劑膜通過向基板涂敷光致抗蝕劑組合物得到，所述光致抗蝕劑組合物包含：

樹脂，所述樹脂顯示通過酸的作用在堿性水溶液中的溶解度增加；

酸生成劑；

增塑劑；和

溶劑。

8.一種用于制備光致抗蝕劑圖案的方法，所述方法包括：

(1)將根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的光致抗蝕劑組合物涂敷在基板上的步驟，

(2)通過干燥所述光致抗蝕劑組合物而形成光致抗蝕劑組合物膜的步驟，

(3)將所述光致抗蝕劑組合物膜曝光的步驟，以及

(4)將所曝光的光致抗蝕劑組合物膜顯影的步驟。