[發(fā)明專利]一種基于鍺鎵碲硫鹵玻璃薄膜的探測(cè)系統(tǒng)及其搭建方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310218226.4 | 申請(qǐng)日: | 2013-06-04 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN103344606A | 公開(kāi)(公告)日: | 2013-10-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王麗;蘇雪瓊;王榮平;魯毅;甘渝林 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 北京工業(yè)大學(xué) |
| 主分類號(hào): | G01N21/39 | 分類號(hào): | G01N21/39 |
| 代理公司: | 北京思海天達(dá)知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11203 | 代理人: | 張慧 |
| 地址: | 100124 *** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 基于 鍺鎵碲硫鹵 玻璃 薄膜 探測(cè) 系統(tǒng) 及其 搭建 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種基于鍺鎵碲硫鹵玻璃薄膜的探測(cè)系統(tǒng)及其搭建方法,屬于探測(cè)系統(tǒng)技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)
中紅外“分子指紋”區(qū)(波長(zhǎng)在2.5-25μm范圍內(nèi))被認(rèn)為是化學(xué)物質(zhì)傳感與檢測(cè)的非常重要的光譜區(qū)。在此光譜范圍內(nèi),所有重要的氣體分子均具有強(qiáng)烈的窄帶吸收線,該吸收線與分子的轉(zhuǎn)動(dòng)與振動(dòng)相對(duì)應(yīng)。同時(shí),大的有機(jī)分子也在指紋區(qū)吸收光,對(duì)這段光譜的探測(cè)也可識(shí)別其化學(xué)組分。理論上,通過(guò)測(cè)量樣品對(duì)于指紋區(qū)大量不同波長(zhǎng)的光波吸收,所有化合物的成分以及各化合物的含量均可被測(cè)試出來(lái)。那么,中紅外光譜范圍對(duì)于加工過(guò)程監(jiān)控、危險(xiǎn)物質(zhì)的探測(cè)、環(huán)境的分析以及生物醫(yī)學(xué)領(lǐng)域都是非常重要的,可發(fā)現(xiàn)與追蹤大部分有毒有害或非法的材料,例如:烴類化合物、殺蟲(chóng)劑、毒品、爆炸物以及一氧化碳和甲烷等危險(xiǎn)氣體。波導(dǎo)結(jié)構(gòu)的鍺鎵碲硫鹵玻璃薄膜應(yīng)用于一次性的化學(xué)傳感器上,該傳感器聯(lián)結(jié)基于量子級(jí)聯(lián)激光器的新型可調(diào)諧的激光光源,同時(shí)連接基于量子井帶間與帶內(nèi)躍遷的窄禁帶半導(dǎo)體材料碲鎘汞(HgCdTe)的新型探測(cè)器,可對(duì)毒品、生物戰(zhàn)劑、爆炸物和空氣與水中的污染物進(jìn)行探測(cè),造價(jià)便宜,可測(cè)試大范圍材料種類,便攜式探測(cè)器正是現(xiàn)階段迫切需要的。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種可探測(cè)中紅外分子指紋區(qū)光譜、基于鍺鎵碲硫鹵玻璃微納波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中紅外傳感器的探測(cè)系統(tǒng)。
本發(fā)明的一種基于鍺鎵碲硫鹵玻璃薄膜的探測(cè)系統(tǒng),它是以可調(diào)諧量子級(jí)聯(lián)激光器作為光源、微納波導(dǎo)結(jié)構(gòu)的鍺鎵碲硫鹵玻璃薄膜作為傳感器、碲鎘汞探測(cè)器作為接收器分析中紅外吸收光譜、以中紅外光纖作為信號(hào)傳輸介質(zhì),其中鍺鎵碲玻璃薄膜波導(dǎo)結(jié)構(gòu)兩頭大中間細(xì),便于光纖耦合;鍺鎵碲玻璃薄膜厚度優(yōu)選1~10μm,鍺鎵碲玻璃薄膜波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中間細(xì)的部分寬度優(yōu)選350~700nm。
本發(fā)明的基于鍺鎵碲硫鹵玻璃薄膜的探測(cè)系統(tǒng)的搭建包括以下步驟:
1)采用熔融淬法,經(jīng)過(guò)石英安瓿的預(yù)處理、起始原料的稱量、真空封接、熔制、退火、切割、研磨和拋光過(guò)程,制備的高純(不低于99%)鍺鎵碲塊體硫系玻璃為熱蒸發(fā)源;
2)用去離子水、酒精,反復(fù)清洗硅襯底三遍,用氮?dú)獯蹈桑怀檎婵罩?0-6Torr,利用熱蒸鍍法在直徑為100mm硅襯底上制備出厚度1~10μm的鍺鎵碲薄膜;
3)在直徑為100mm硅片上制備與待制備的鍺鎵碲玻璃薄膜波導(dǎo)結(jié)構(gòu)相符的微納波導(dǎo)結(jié)構(gòu)模板;
此為現(xiàn)有技術(shù),一般為利用熱氧化方法在直徑為100mm硅片上生長(zhǎng)1~10μm厚的二氧化硅薄膜,再利用真空熱蒸發(fā)的方法在二氧化硅表面沉積500nm厚的MgO薄膜,經(jīng)過(guò)光刻、腐蝕后MgO薄膜的形狀與待制備的鍺鎵碲玻璃薄膜波導(dǎo)結(jié)構(gòu)的形狀相同,經(jīng)ICP等離子體刻蝕,形成二氧化硅薄膜波導(dǎo)結(jié)構(gòu)模板;
4)利用步驟3)的二氧化硅薄膜波導(dǎo)結(jié)構(gòu)模板采用氣壓印法和在步驟2)的鍺鎵碲硫鹵玻璃薄膜上制備厚度1~10μm,中間細(xì)部分的寬度350~700nm微納波導(dǎo)結(jié)構(gòu)圖案;
5)依次在光學(xué)平臺(tái)上搭建可調(diào)諧量子級(jí)聯(lián)激光器、高頻斬波器、單色儀、透鏡、中紅外光纖、波導(dǎo)結(jié)構(gòu)的硫鹵玻璃薄膜傳感器、偏振器、鎘碲汞探測(cè)器、計(jì)算機(jī)系統(tǒng),保證光路暢通,各個(gè)節(jié)點(diǎn)耦合。
步驟4)制備波導(dǎo)結(jié)構(gòu)的設(shè)備和方法如下:采用的裝置為熱膜氣壓印裝置,包括金屬外罩和金屬內(nèi)罩,金屬外罩由分別獨(dú)立的外罩上蓋和外罩下底座組成,外罩下底座是底面開(kāi)孔的桶狀結(jié)構(gòu),金屬內(nèi)罩在金屬外罩底座的空腔內(nèi),金屬內(nèi)罩為上端開(kāi)口、下端與外罩下底座密封連接的空腔結(jié)構(gòu),外罩下底座的開(kāi)孔與金屬內(nèi)罩的下端口一樣,外罩上蓋設(shè)有通氣管(S1);金屬內(nèi)罩的空腔內(nèi)設(shè)有加熱板,加熱板與金屬內(nèi)罩密封焊接在一起,在金屬內(nèi)罩的側(cè)面設(shè)有通氣管(S2),通氣管(S2)位于加熱板之上,金屬內(nèi)罩的通氣管(S2)從金屬內(nèi)罩伸出,延伸至外罩外部,金屬內(nèi)罩的上端口蓋有獨(dú)立的具有微納級(jí)波導(dǎo)結(jié)構(gòu)的模板(A1),加熱板與金屬內(nèi)罩上端口(A3)垂直距離為5mm,金屬外罩和金屬內(nèi)罩均為圓筒狀;加熱板是金屬管與金屬內(nèi)罩焊接而成的傳熱金屬板,對(duì)硫系玻璃薄膜加熱,同時(shí)還起到密封的作用。
使用方法,包括以下步驟:
(1)按照所需的波導(dǎo)結(jié)構(gòu)形狀、寬度和深度,制備微納級(jí)波導(dǎo)結(jié)構(gòu)模板A1;
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- 專利分類
G01N 借助于測(cè)定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見(jiàn)光或紫外光來(lái)測(cè)試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測(cè)試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測(cè)試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測(cè)試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長(zhǎng)發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測(cè)試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)





