[發明專利]一種中空玻璃及其制造方法

無效

• 申請號: 201310215793.4
• 申請日: 2013-06-03
• 公開（公告）號: CN103276847A
• 公開（公告）日: 2013-09-04
• 發明（設計）人: 林嘉佑
• 申請（專利權）人: 林嘉佑
• 主分類號: E04C2/54
• 分類號: E04C2/54;E06B3/66;C03C17/34
• 代理公司: 北京連和連知識產權代理有限公司 11278
• 代理人: 王光輝

1.一種中空玻璃，其特征在于，所述中空玻璃包括：

功能玻璃，所述功能玻璃之第一面淀積低輻射層，所述功能玻璃之異于所述Low-E低輻射層的第二面淀積二氧化鈦自潔層；

配片，所述配片通過所述連接框與所述功能玻璃圍閉形成密閉空間，所述Low-E低輻射層收容在所述密閉空間內，以構成所述中空玻璃。

2.如權利要求1所述的中空玻璃，其特征在于，所述配片為現有浮法玻璃或鋼化玻璃的其中之一，其透光率大于85%。

3.如權利要求1所述的中空玻璃，其特征在于，所述中空玻璃之密閉空間內進一步通入氬氣Ar。

4.一種如權利要求1-3之一所述的中空玻璃的制造方法，其特征在于，所述中空玻璃的制造方法，包括：

步驟S1：通過磁控濺射法在所述功能玻璃之第一面淀積Low-E低輻射層；

步驟S2：?提供配片，并通過連接框將所述功能玻璃和所述配片圍閉形成密閉空間，所述Low-E低輻射層并收容在所述密閉空間內；

步驟S3：通過化學氣相沉積CVD法在所述功能玻璃之第二面淀積二氧化鈦自潔層。

5.如權利要求4所述的中空玻璃的其制造方法，其特征在于，所述化學氣相沉積CVD法淀積二氧化鈦自潔層的方法進一步包括：

步驟S31：提供具有反應器的化學氣相沉積爐，并在所述反應器處設置通過連接框連接的所述功能玻璃和所述配片；?

步驟S32：對所述二氧化鈦自潔層之前驅物鈦酸異丙酯進行油浴加熱，所述油浴溫度為100～120℃；

步驟S33：將所述氧氣O₂和水蒸氣加熱至100～120℃；

步驟S34：通過氮氣N₂載氣，將所述二氧化鈦自潔層之前驅物鈦酸異丙酯帶入所述化學氣相沉積爐之反應器處；

步驟S35：在所述反應器處將所述氧氣O₂和水蒸氣與所述二氧化鈦自潔層之前驅物鈦酸異丙酯混合，以在所述中空玻璃上沉積二氧化鈦自潔層。

6.一種如權利要求1-3之一所述的中空玻璃的制造方法，其特征在于，所述中空玻璃的制造方法，包括：

步驟S1’：通過化學氣相沉積CVD法在所述功能玻璃之第二面淀積二氧化鈦自潔層；

步驟S2’：通過磁控濺射法在所述功能玻璃之第一面淀積Low-E低輻射層；

步驟S3’：提供配片，并通過連接框將所述功能玻璃和所述配片圍閉形成密閉空間，所述Low-E低輻射層并收容在所述密閉空間內。

7.如權利要求6所述的中空玻璃的其制造方法，其特征在于，所述化學氣相沉積CVD法淀積二氧化鈦自潔層的方法進一步包括：

步驟S11’：提供具有反應器的化學氣相沉積爐，并在所述反應器處設置具有Low-E低輻射層的功能玻璃；?

步驟S12’：對所述二氧化鈦自潔層之前驅物鈦酸異丙酯進行油浴加熱，所述油浴溫度為100～120℃；

步驟S13’：將所述氧氣O₂和水蒸氣加熱加熱至100～120℃；

步驟S14’：通過氮氣N₂載氣，將所述二氧化鈦自潔層之前驅物鈦酸異丙酯帶入所述化學氣相沉積爐之反應器處；

步驟S15’：在所述反應器處將所述氧氣O₂和水蒸氣與所述二氧化鈦自潔層之前驅物鈦酸異丙酯混合，以在所述功能玻璃上沉積二氧化鈦自潔層。