[發(fā)明專利]多波束半導(dǎo)體激光裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310211067.5 | 申請日: | 2013-05-31 |
| 公開(公告)號: | CN103545708B | 公開(公告)日: | 2017-06-13 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 仙庭靖久;神津孝一;臼田周一;反町進(jìn);原英樹 | 申請(專利權(quán))人: | 優(yōu)志旺光半導(dǎo)體有限公司 |
| 主分類號: | H01S5/042 | 分類號: | H01S5/042;H01S5/40 |
| 代理公司: | 北京銀龍知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司11243 | 代理人: | 張敬強(qiáng),嚴(yán)星鐵 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 波束 半導(dǎo)體 激光 裝置 | ||
1.一種多波束半導(dǎo)體激光裝置,其具備:具備三個以上波束的半導(dǎo)體芯片;以及安裝上述半導(dǎo)體芯片的支撐基板,
該多波束半導(dǎo)體激光裝置的特征在于,
上述半導(dǎo)體芯片具有:
形成在半導(dǎo)體基板的主面上的第一導(dǎo)電式包覆層;
形成在上述第一導(dǎo)電式包覆層的上部的活性層;
形成在上述活性層的上部的第二導(dǎo)電式包覆層;
分別包括上述第二導(dǎo)電式包覆層與形成在上述第二導(dǎo)電式包覆層上部的第二導(dǎo)電式觸點(diǎn)層、且以上述波束間為30μm-50μm的方式排列的三個以上的隆起部;
形成在上述隆起部的各個的兩側(cè)的上述第二導(dǎo)電式包覆層上的一對凹槽;
與上述隆起部的各個電連接,以覆蓋上述隆起部的各個的上部與形成在其兩側(cè)的上述一對凹槽的上部的方式連續(xù)地形成的表面電極;
形成在上述表面電極的上部的第一導(dǎo)電層;
形成在上述第一導(dǎo)電層的上部,面積比上述第一導(dǎo)電層小的第二導(dǎo)電層;以及
形成在上述半導(dǎo)體基板的背面的背面電極,
上述表面電極、上述第一導(dǎo)電層、以及上述第二導(dǎo)電層分別與上述隆起部的數(shù)量相同地形成,
在上述支撐基板的芯片安裝面形成與上述隆起部的數(shù)量相同的第一電極,在上述第一電極的各個的表面形成焊料,
上述半導(dǎo)體基板通過熔融接合上述第二導(dǎo)電層與上述焊料,安裝在上述支撐基板的上述芯片安裝面上,
在上述隆起部與上述支撐基板之間設(shè)置間隙,上述隆起部與上述第一電極配置為沿隆起部的排列方向交錯開,
上述第二導(dǎo)電層在形成在上述隆起部的兩側(cè)的上述一對凹槽的一方的上部與上述焊料接觸,
上述第二導(dǎo)電層與上述焊料之間的與上述隆起部的數(shù)量相同的接合部均相對于上述隆起部形成在同側(cè),
沿上述隆起部的排列方向的上述第二導(dǎo)電層疊的寬度比上述焊料的寬度窄。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多波束半導(dǎo)體激光裝置,其特征在于,
上述第二導(dǎo)電層的寬度相對于上述焊料的寬度的比是0.7以下。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多波束半導(dǎo)體激光裝置,其特征在于,
上述第二導(dǎo)電層的寬度相對于上述焊料的寬度的比是0.5以上。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多波束半導(dǎo)體激光裝置,其特征在于,
上述波束的個數(shù)是偶數(shù)個,上述第二導(dǎo)電層在形成在上述隆起部的兩側(cè)的上述一對凹槽的一方的上部與上述焊料接觸。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多波束半導(dǎo)體激光裝置,其特征在于,
上述波束的個數(shù)是偶數(shù)個,上述隆起部及上述第二導(dǎo)電層相對于偶數(shù)個上述波束的中心配置為線對稱。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多波束半導(dǎo)體激光裝置,其特征在于,
上述第一導(dǎo)電層及上述第二導(dǎo)電層由Au構(gòu)成,上述焊料由Au-Sn合金構(gòu)成。
7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的多波束半導(dǎo)體激光裝置,其特征在于,
在上述半導(dǎo)體芯片的表面與背面形成在將上述半導(dǎo)體芯片安裝在上述支撐基板上時用于對準(zhǔn)的識別標(biāo)記。
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