[發明專利]真空離心鑄造方法及其裝置

有效

• 申請號: 201310206945.4
• 申請日: 2013-05-29
• 公開（公告）號: CN104209488A
• 公開（公告）日: 2014-12-17
• 發明（設計）人: 蔣銘瑞
• 申請（專利權）人: 復盛精密科技股份有限公司
• 主分類號: B22D13/06
• 分類號: B22D13/06;B22D13/10;B22D18/06
• 代理公司: 北京匯智英財專利代理事務所(普通合伙) 11301
• 代理人: 潘光興

1.一種真空離心鑄造方法，其特征在于，其包含步驟：

將一個殼模定位放置于一個旋轉平臺，該殼模包含相連通的一個坩堝部及一個模穴部，且該旋轉平臺連接于一個可軸向旋轉的轉軸；

將金屬錠放置于該殼模的坩堝部，并于真空環境下將該金屬錠加熱熔融成金屬液；驅動該轉軸以連動該旋轉平臺轉動，使熔融的金屬液流入該殼模的模穴部中；

緩速停止該轉軸，并取下該澆鑄完成的殼模；

破壞該殼模以取得鑄件。

2.如權利要求1所述的真空離心鑄造方法，其特征在于：該金屬錠為活性金屬。

3.如權利要求1所述的真空離心鑄造方法，其特征在于：該殼模的成型步驟包含：準備一個蠟胚，該蠟胚包含一個坩堝胚及一個鑄件胚，該坩堝胚的環周面設有一個第一連接部，該鑄件胚設有一個第二連接部，該第一連接部與該第二連接部相對連接成一體；于該蠟胚的表面形成一個包覆層；對該蠟胚及包覆層加熱，以將蠟熔出；將該脫蠟完成的包覆層以高溫燒結而形成該殼模，并使該殼模具有一體相連的坩堝部與模穴部。

4.如權利要求1所述的真空離心鑄造方法，其特征在于：該殼模的面層材料為氧化釔、安定氧化鋯或氧化鋁等耐火材料。

5.如權利要求1所述的真空離心鑄造方法，其特征在于：該殼模的背層材料為莫來石混合物，其三氧化二鋁的含量為45%～60%，二氧化硅的含量為55%～40%。

6.如權利要求1所述的真空離心鑄造方法，其特征在于：該殼模的背層材料為二氧化硅混合物，其二氧化硅的含量達95%以上。

7.一種真空離心鑄造裝置，其特征在于，包含：

一個真空爐，內部具有一個容室；

一個轉軸，可軸向轉動地設于該容室中；

一個旋轉平臺，設有相連接的一個軸接部及一個定位部，該旋轉平臺由該軸接部連接該轉軸，以與該轉軸同步旋轉；

一個殼模，具有相連通的一個坩堝部及一個模穴部，該殼模定位放置于該旋轉平臺的定位部，且該殼模的坩堝部較模穴部鄰近該旋轉平臺的軸接部；及

一個加熱器，設于該容室中，用以對該殼模的坩堝部加熱。

8.如權利要求7所述的真空離心鑄造裝置，其特征在于：該轉軸分為一個本體及一個止轉部，該本體與止轉部的徑向截面形狀不同，以于兩者交界處形成一個抵靠部，該旋轉平臺結合于該止轉部并抵接于該抵靠部。

9.如權利要求8所述的真空離心鑄造裝置，其特征在于：該旋轉平臺的軸接部設有一個穿孔，該穿孔的徑向截面形態與該轉軸的止轉部的徑向截面形態相匹配，該旋轉平臺由該軸接部的穿孔套合連接該轉軸的止轉部。

10.如權利要求7所述的真空離心鑄造裝置，其特征在于：該旋轉平臺的定位部包含一個坩堝定位部及一個模穴定位部，該坩堝定位部位于該軸接部與該模穴定位部之間，該軸接部、坩堝定位部及模穴定位部依該轉軸的徑向延伸排列。

11.如權利要求10所述的真空離心鑄造裝置，其特征在于：該坩堝定位部設有一個穿置孔，該殼模的坩堝部穿伸于該穿置孔中，該模穴定位部則設有一個容槽，以容置該殼模的模穴部。

12.如權利要求7所述的真空離心鑄造裝置，其特征在于：該殼模的坩堝部內部具有一個容置空間，該坩堝部的環周面設有一個第一連接管，該第一連接管連通該容置空間；該殼模的模穴部內部具有一個模穴，該模穴部設有一個第二連接管，該第二連接管連通該模穴；該第一連接管與該第二連接管相對接以連通該容置空間與該模穴。

13.如權利要求12所述的真空離心鑄造裝置，其特征在于：該殼模的坩堝部與模穴部呈一體相連的形態。

14.如權利要求12所述的真空離心鑄造裝置，其特征在于：該殼模相互對接的第一連接管與第二連接管由一個套環連接固定。

15.如權利要求12、13或14所述的真空離心鑄造裝置，其特征在于：該殼模的坩堝部在內側壁面凸設一個環唇，該環唇位于該坩堝部頂緣與第一連接管之間。

16.如權利要求15所述的真空離心鑄造裝置，其特征在于：該環唇是沿著該坩堝部的徑向延伸。

17.如權利要求15所述的真空離心鑄造裝置，其特征在于：該第一連接管連接于該坩堝部的頂緣處，該環唇設于該坩堝部的頂緣。

18.如權利要求7至14的任一項所述的真空離心鑄造裝置，其特征在于：該加熱器為一個高周波線圈，并由一個升降控制器帶動該加熱器在該容室中移動，以控制該加熱器環繞于該殼模的坩堝部外周與否。