[發(fā)明專利]氣室管組件有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310205522.0 | 申請日: | 2013-05-28 |
| 公開(公告)號: | CN103323397A | 公開(公告)日: | 2013-09-25 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 鄧志溢;蘇啟源;區(qū)定玉;黎鴻智 | 申請(專利權(quán))人: | 佛山市南華儀器股份有限公司 |
| 主分類號: | G01N21/15 | 分類號: | G01N21/15 |
| 代理公司: | 北京瑞恒信達知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11382 | 代理人: | 苗青盛;黃慶芳 |
| 地址: | 528251 廣*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 氣室管 組件 | ||
1.一種氣室管組件,所述氣室管組件包括:
氣室管;
上構(gòu)件,所述上構(gòu)件設(shè)置在所述氣室管上部;
下構(gòu)件,所述下構(gòu)件設(shè)置在所述氣室管下部;和
至少一個加熱裝置,所述至少一個加熱裝置設(shè)置在所述上構(gòu)件和所述下構(gòu)件中的至少一個上,
其中所述氣室管被設(shè)置在所述上構(gòu)件和所述下構(gòu)件之間,所述至少一個加熱裝置用于對所述氣室管進行加熱。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣室管組件,其中所述上構(gòu)件和/或所述下構(gòu)件中的至少一個具有至少一個向內(nèi)凹入的弧面,所述弧面用于與所述氣室管的外表面接觸。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣室管組件,其中所述上構(gòu)件和/或所述下構(gòu)件中的至少一個具有凹槽,所述至少一個加熱裝置被容納在所述凹槽中。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣室管組件,其中所述上構(gòu)件和所述下構(gòu)件通過螺釘連接而結(jié)合在一起,從而將所述氣室管夾持在所述上構(gòu)件和所述下構(gòu)件之間。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣室管組件,還包括:
至少一個壓板,所述至少一個壓板壓設(shè)在所述加熱裝置外部,用于使所述加熱裝置與容納所述加熱裝置的上構(gòu)件和/或下構(gòu)件接觸。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的氣室管組件,其中設(shè)置在加熱裝置外部的壓板通過螺釘與上構(gòu)件接合,從而使所述加熱裝置與所述上構(gòu)件充分接觸。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的氣室管組件,其中所述壓板蓋設(shè)在所述上構(gòu)件的凹槽上。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣室管組件,其中所述加熱裝置具有條形形狀、塊狀形狀、和環(huán)形形狀中的至少一種。
9.根據(jù)權(quán)利要求5所述的氣室管組件,其中所述加熱裝置通過所述壓板與所述下構(gòu)件充分接觸。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的氣室管組件,其中所述加熱裝置是加熱膜。
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G01N 借助于測定材料的化學或物理性質(zhì)來測試或分析材料
G01N21-00 利用光學手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測試或分析材料
G01N21-01 .便于進行光學測試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學反應(yīng)的系統(tǒng),測試反應(yīng)的進行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)





