[發明專利]光刻膠薄膜的制作方法無效
| 申請號: | 201310203712.9 | 申請日: | 2013-05-27 |
| 公開(公告)號: | CN103293859A | 公開(公告)日: | 2013-09-11 |
| 發明(設計)人: | 賴寶玲 | 申請(專利權)人: | 蘇州揚清芯片科技有限公司 |
| 主分類號: | G03F7/16 | 分類號: | G03F7/16 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 215000 *** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光刻 薄膜 制作方法 | ||
1.光刻膠薄膜的制作方法,其特征在于該薄膜是通過將光刻膠溶液填充到兩個平行的基板中,加熱烘干制備而成。
2.按權利要求1所述的光刻膠薄膜的制作方法,其特征在于,所述的光刻膠溶液是由感光樹脂、增感劑和溶劑組成的混合液體。
3.按權利要求1所述的光刻膠薄膜的制作方法,其特征在于,所述的基板的材料可以是聚四氟乙烯、硅、玻璃、金屬。上下兩基板的材料可以相同,也可以不相同。
4.按權利要求1和3所述的光刻膠薄膜的制作方法,其特征在于,所述的上基板和光刻膠接觸的表面需要經過疏水化處理,以保證和固化后的光刻膠沒有粘性,便于剝離。
5.按權利要求1所述的光刻膠薄膜的制作方法,其特征在于,所述的兩個平行基板之間由特定厚度的邊欄隔離,內部形成一個密閉的腔體。
6.按權利要求1和5所述的光刻膠薄膜的制作方法,其特征在于,所述的邊欄可以是聚四氟乙烯,也可以是表面經疏水化處理的硅、玻璃、石英等。所述的腔體,是利用夾具將兩個基板和邊欄夾緊固定構成。
7.按權利要求1所述的光刻膠薄膜的制作方法,其特征在于,所述的加熱烘干溫度為50~150攝氏度。
8.按權利要求1所述的光刻膠薄膜的制作方法,其特征在于,所述的光刻膠薄膜的厚度為10微米~1毫米。
9.按權利要求1所述的光刻膠薄膜的制作方法,特征在于,本發明所提供的制作方法簡便易行,材料成本和加工成本十分低廉。
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