[發明專利]一種玻璃微通道的制作方法無效
| 申請號: | 201310203219.7 | 申請日: | 2013-05-27 |
| 公開(公告)號: | CN103265179A | 公開(公告)日: | 2013-08-28 |
| 發明(設計)人: | 葉嘉明 | 申請(專利權)人: | 蘇州揚清芯片科技有限公司 |
| 主分類號: | C03C15/00 | 分類號: | C03C15/00 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 215000 *** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 玻璃 通道 制作方法 | ||
1.一種玻璃微通道的制備方法,其特征在于包括以下步驟:
1)用計算機輔助設計軟件設計和繪制微通道圖形,并在雙面膠基材上加工出鏤空的微通道結構;
2)將加工好的雙面膠掩膜和玻璃基片粘貼封合;
3)將玻璃基片放入氫氟酸腐蝕液中進行濕法刻蝕,刻蝕至所需深度后取出,將雙面膠從基片表面剝離,得到具有微凹槽結構的玻璃基片。
2.如權利要求1所述的玻璃微通道的制備方法,其特征在于在步驟1)中,所述的雙面膠的微通道加工方法包括激光刻蝕或其他切割方式。
3.如權利要求1所述的玻璃微通道的制備方法,其特征在于在步驟2)中,所述的雙面膠和玻璃粘貼后,玻璃基片的表面只有微通道區域暴露在外,其他區域被雙面膠覆蓋。
4.如權利要求1所述的玻璃微通道的制備方法,其特征在于在步驟3)中,所述的氫氟酸的濃度為0.01~3摩爾/升,可以包含HNO3、HCl、NH4F等其它物質。
5.如權利要求1所述的玻璃微通道的制備方法,其特征在于在步驟3)中,所述的微凹槽的深度為0.1~1000微米。
6.如權利要求1所述的玻璃微通道的制備方法,其特征在于在制備過程無需使用光刻方法所需的試劑與設備,加工快速簡便,成本低,特別適合于玻璃微流控芯片快速、大批量的制備。
7.使用本發明提供的方法還可以應用于硅、石英或金屬基底上的微通道制作。
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