[發(fā)明專利]包含可控開關(guān)的滅弧裝置及滅弧方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310203149.5 | 申請(qǐng)日： | 2013-05-28 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN103326328A | 公開（公告）日： | 2013-09-25 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 唐建華 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 北京聯(lián)動(dòng)天翼科技有限公司 |
| 主分類號(hào)： | H02H7/22 | 分類號(hào)： | H02H7/22 |
| 代理公司： | 北京市盛峰律師事務(wù)所 11337 | 代理人： | 趙建剛 |
| 地址： | 100044 北*** | 國(guó)省代碼： | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 包含 可控 開關(guān) 裝置 方法 | ||
1.一種包含可控開關(guān)的滅弧裝置，其特征在于，所述滅弧裝置包括吸收電路、可控開關(guān)和直流機(jī)械開關(guān)；所述直流機(jī)械開關(guān)安裝在直流供電線路上，所述吸收電路并聯(lián)安裝到所述直流機(jī)械開關(guān)的兩端；所述可控開關(guān)串聯(lián)在所述直流機(jī)械開關(guān)和所述吸收電路之間；所述吸收電路為并聯(lián)的RC電路。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的包含可控開關(guān)的滅弧裝置，其特征在于，所述直流機(jī)械開關(guān)安裝在所述直流供電線路的正線側(cè)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的包含可控開關(guān)的滅弧裝置，其特征在于，所述直流機(jī)械開關(guān)安裝在所述直流供電線路的負(fù)線側(cè)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的包含可控開關(guān)的滅弧裝置，其特征在于，所述直流機(jī)械開關(guān)包括第一直流機(jī)械開關(guān)和第二直流機(jī)械開關(guān)；所述第一直流機(jī)械開關(guān)安裝在所述直流供電線路的正線側(cè)，所述第二直流機(jī)械開關(guān)安裝在所述直流供電線路的負(fù)線側(cè)；所述可控開關(guān)包括第一可控開關(guān)和第二可控開關(guān)；所述吸收電路包括第一吸收電路和第二吸收電路；
所述第一吸收電路并聯(lián)安裝到所述第一直流機(jī)械開關(guān)的兩端；所述第一可控開關(guān)串聯(lián)在所述第一直流機(jī)械開關(guān)和所述第一吸收電路之間；
所述第二吸收電路并聯(lián)安裝到所述第二直流機(jī)械開關(guān)的兩端；所述第二可控開關(guān)串聯(lián)在所述第二直流機(jī)械開關(guān)和所述第二吸收電路之間。
5.一種基于包含可控開關(guān)的滅弧裝置的滅弧方法，其特征在于，包括以下步驟：
S1，當(dāng)所述直流機(jī)械開關(guān)處于斷開狀態(tài)時(shí)，控制所述可控開關(guān)為單向?qū)顟B(tài)，所述RC電路中電容C的電壓為直流供電電壓；其中，所述單向?qū)顟B(tài)為直流機(jī)械開關(guān)斷開時(shí)，通過直流機(jī)械開關(guān)的直流電流對(duì)吸收電路充電的方向；
S2，t1時(shí)刻，所述直流機(jī)械開關(guān)閉合；閉合后，電容C的電壓通過電阻R逐漸消耗，當(dāng)達(dá)到t2時(shí)刻時(shí)，電容C的電壓降為0，此時(shí)，控制所述可控開關(guān)為雙向?qū)顟B(tài)；
S3，t3時(shí)刻，所述直流機(jī)械開關(guān)開始斷開，在所述直流機(jī)械開關(guān)斷開的過程中，所述直流機(jī)械開關(guān)產(chǎn)生能量，該能量被電容C吸收，電容C將該能量吸收完畢的時(shí)刻為t4；t4時(shí)刻，控制所述可控開關(guān)為單向?qū)顟B(tài)，所述直流機(jī)械開關(guān)為S1所述的斷開狀態(tài)。
6.根據(jù)權(quán)利要求6所述的滅弧方法，其特征在于，t1時(shí)刻和t2時(shí)刻之間的延遲時(shí)間間隔為500納秒～60秒。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的滅弧方法，其特征在于，t3時(shí)刻和t4時(shí)刻之間的延遲時(shí)間間隔為500納秒～60秒。
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