[發(fā)明專利]一種顯示基板及其制備方法、顯示裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201310202912.2
• 申請(qǐng)日: 2013-05-28
• 公開（公告）號(hào): CN103323968A
• 公開（公告）日: 2013-09-25
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王孟杰;杜玙璠;陳玉瓊
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;北京京東方顯示技術(shù)有限公司
• 主分類號(hào): G02F1/1333
• 分類號(hào): G02F1/1333;G02F1/1335
• 代理公司: 北京中博世達(dá)專利商標(biāo)代理有限公司 11274
• 代理人: 申健

1.一種顯示基板，包括襯底基板以及位于所述襯底基板上的顯示元件結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述襯底基板具有晶粒沿預(yù)設(shè)方向排列的晶體層。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示基板，其特征在于，所述晶體層位于所述襯底基板的一個(gè)表面層。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示基板，其特征在于，所述晶體層的厚度等于整個(gè)所述襯底基板的厚度。

4.根據(jù)權(quán)利要求1至3任一項(xiàng)所述的顯示基板，其特征在于，所述晶體層為鈮酸鍶鋇晶體層。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示基板，其特征在于，所述顯示基板為陣列基板，所述襯底基板上的顯示元件結(jié)構(gòu)包括薄膜晶體管和像素電極。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示基板，其特征在于，所述顯示面板為彩膜基板，所述襯底基板上的顯示元件結(jié)構(gòu)包括黑矩陣和彩膜。

7.一種顯示基板的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：

制備襯底基板，其中，所述襯底基板具有晶粒沿預(yù)設(shè)方向排列的晶體層；

在所述襯底基板上形成所述顯示元件結(jié)構(gòu)。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的顯示基板的制備方法，其特征在于，所述制備襯底基板，包括：所述晶體層形成在所述襯底基板的一個(gè)表面。

9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的顯示基板的制備方法，其特征在于，所述制備襯底基板，包括：所述晶體層充滿整個(gè)所述襯底基板。

10.根據(jù)權(quán)利要求8或9所述的顯示基板的制備方法，其特征在于，所述制備襯底基板，具體為：

加熱原始玻璃，使所述原始玻璃中形成晶核；

對(duì)形成晶核的原始玻璃加熱，使晶粒成長(zhǎng)；

當(dāng)達(dá)到析晶溫度范圍時(shí)進(jìn)行晶粒定向微晶化處理，在所述襯底基板中形成晶粒沿預(yù)設(shè)方向排列的晶體層。

11.一種顯示裝置，其特征在于，所述顯示裝置包括如權(quán)利要求1至6任一項(xiàng)所述的顯示基板。

12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的顯示裝置，其特征在于，所述顯示基板為陣列基板和/或彩膜基板；

所述顯示裝置還包括設(shè)置于所述陣列基板和所述彩膜基板之間的液晶層。

13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的顯示裝置，其特征在于，位于所述陣列基板中的襯底基板和位于所述彩膜基板中的襯底基板的晶體層的偏光方向互相垂直。

14.根據(jù)權(quán)利要求12或13所述的顯示裝置，其特征在于，所述陣列基板中的襯底基板中的晶體層位于所述陣列基板遠(yuǎn)離所述液晶層一側(cè)；

所述彩膜基板中的襯底基板中的晶體層位于所述彩膜基板遠(yuǎn)離所述液晶層一側(cè)。