[發明專利]一種制備高分子超薄膜納米起皺圖案的方法

有效

• 申請號: 201310201454.0
• 申請日: 2013-05-27
• 公開（公告）號: CN103304827A
• 公開（公告）日: 2013-09-18
• 發明（設計）人: 傅強;何亮;陳楓
• 申請（專利權）人: 四川大學
• 主分類號: C08J3/28
• 分類號: C08J3/28;C08J3/24;C08J5/18;C08L25/06;C08L83/04;C08L53/02;C08L75/04;C08L67/04
• 代理公司: 北京世譽鑫誠專利代理事務所(普通合伙) 11368
• 代理人: 郭官厚

1.一種制備高分子超薄膜納米起皺圖案的方法，其特征在于包括如下步驟：

步驟一、將聚合物中加入對應溶劑配置成1wt％-4wt％的溶液，然后超聲處理加速溶解，溶解完全后封好試劑瓶備用；

步驟二、將配置好的溶液用旋涂法成膜，旋涂的轉速從1000轉/min-3000轉/min，旋涂時間30s，根據不同的轉速、不同的溶液濃度可以調控得到不同厚度的聚合物薄膜，膜厚20nm-1μm，最后放置24h讓溶劑完全揮發；

步驟三、將旋涂好的單層聚合物薄膜用超熱氫技術處理，誘導聚合物上層發生交聯，超熱氫的條件是電壓和處理時間，電壓為100V至300V、處理時間1min-10min，不同的電壓和處理時間組合可以得到不同的交聯效果的聚合物雙層薄膜；

步驟四、進行熱退火處理，退火的溫度為100℃-180℃，保持在該退火溫度進行6h的退火處理，退火后取出樣品讓其在室溫下自由冷卻，就可以得到起皺圖案。

2.根據權利要求1所述制備高分子超薄膜納米起皺圖案的方法，其特征在于：所述步驟二中旋涂法得到的是單層的聚合物薄膜，超熱氫處理之后可以得到上層是交聯的硬層而下層是軟層的雙層聚合物薄膜體系。

3.根據權利要求1所述制備高分子超薄膜納米起皺圖案的方法，其特征在于：所述起皺圖案起皺的周期50nm-500nm，起皺的振幅10nm-500nm。

4.根據權利要求1至3任一權利要求所述制備高分子超薄膜納米起皺圖案的方法，其特征在于所述的聚合物為無定性均聚物、結晶聚合物。

5.根據權利要求4所述制備高分子超薄膜納米起皺圖案的方法，其特征在于，所述的無定性均聚物為聚苯乙烯、聚二甲基硅氧烷，嵌段聚合物聚苯乙烯異戊二烯三嵌段共聚物、聚苯乙烯丁二烯三嵌段共聚物和聚氨酯。

6.根據權利要求4所述制備高分子超薄膜納米起皺圖案的方法，其特征在于，所述的結晶聚合物為聚乳酸、間規聚苯乙烯。

7.根據權利要求5或6所述制備高分子超薄膜納米起皺圖案的方法，其特征在于所述的溶劑為甲苯或三氯甲烷。