[發明專利]連續式真空蒸發鍍膜裝置

有效

• 申請號: 201310196857.0
• 申請日: 2013-05-23
• 公開（公告）號: CN103290364A
• 公開（公告）日: 2013-09-11
• 發明（設計）人: 劉潺
• 申請（專利權）人: 深圳市生波爾機電設備有限公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24
• 代理公司: 深圳市世紀恒程知識產權代理事務所 44287
• 代理人: 胡海國

1.一種連續式真空蒸發鍍膜裝置，包括：鍍膜室、工件架和膜料架，其特征在于，

所述鍍膜室一端連通第一過渡室，另一端連通第二過渡室；

所述第一過渡室、鍍膜室、第二過渡室內分別設有傳輸所述工件架的第一軌道和傳輸所述膜料架的第二軌道；

所述第一過渡室兩端和第二過渡室兩端分別設有可開關的用于隔離氣體的插板閥；

所述第一過渡室、鍍膜室、第二過渡室分別配置有獨立的抽氣系統。

2.根據權利要求1所述的連續式真空蒸發鍍膜裝置，其特征在于，

所述第一過渡室的第一軌道與鍍膜室的第一軌道由置納插板閥的空隙隔離，二者延長部分相互重疊；鍍膜室的第一軌道和第二過渡室的第一軌道由置納插板閥的空隙隔離，二者延長部分相互重疊；

所述第一過渡室的第二軌道與鍍膜室的第二軌道由置納插板閥的空隙隔離，二者延長部分相互重疊；鍍膜室的第二軌道和第二過渡室的第二軌道由置納插板閥的空隙隔離，二者延長部分相互重疊。

3.根據權利要求2所述的連續式真空蒸發鍍膜裝置，其特征在于，所述第一過渡室包括：上第一過渡室，與上第一過渡室連通的下第一過渡室；上第一過渡室內設有所述第一軌道；所述下第一過渡室內設有所述第二軌道；

所述第二過渡室包括：上第二過渡室，與上第二過渡室連通的下第二過渡室；上第二過渡室內設有所述第一軌道；所述下第二過渡室內設有所述第二軌道。

4.根據權利要求3所述的連續式真空蒸發鍍膜裝置，其特征在于，所述插板閥包括：上插板閥和下插板閥；

所述上第一過渡室兩端和上第二過渡室兩端均設置有上插板閥；

所述下第一過渡室兩端和下第二過渡室兩端均設置有下插板閥。

5.根據權利要求1至4任一項所述的連續式真空蒸發鍍膜裝置，其特征在于，所述第一軌道包括：第一滑輪，該第一滑輪的一側設置有第一齒輪；

所述工件架包括：工件架本體，該工件架本體的頂部設置有與所述第一滑輪適配的第一滑塊，該第一滑塊一側設有與所述第一齒輪嚙合的第一齒條。

6.根據權利要求1至4任一項所述的連續式真空蒸發鍍膜裝置，其特征在于，所述第二軌道包括：第二滑輪，該第二滑輪的一側設置有第二齒輪；所述膜料架包括：膜料架本體，該膜料架本體的底部設置有與所述第二滑輪適配的第二滑塊，所述第二滑塊的一側設有與所述第二齒輪嚙合的第二齒條。

7.根據權利要求1至4任一項所述的連續式真空蒸發鍍膜裝置，其特征在于，還包括第一底架、平移架，以及用于運輸平移架的第二底架；所述第一過渡室、鍍膜室以及第二過渡室置于所述第一底架上；所述第二底架兩端分別與所述第一底架的兩端連接，二者的頂部外表面處于同一水平面上；

所述平移架上分別設置有第一軌道和第二軌道；當所述平移架置于第二底架上與第一底架上設有第一過渡室的一端連接的一端時，所述平移架的第一軌道與第一過渡室的第一軌道由置納插板閥的空隙隔離，二者延長部分相互重疊。

8.根據權利要求7所述的連續式真空蒸發鍍膜裝置，其特征在于，還包括：

用于蒸發膜料的蒸發器；

用于對上第一過渡室、鍍膜室的加熱器；

用于對基材進行清洗的離子轟擊裝置。

9.根據權利要求7所述的連續式真空蒸發鍍膜裝置，其特征在于，還包括：

用于監測基材鍍膜厚度的膜厚監控儀器；

用于監測第一過渡室、鍍膜室、第二過渡室的真空度的復合真空計。