[發(fā)明專利]旋轉(zhuǎn)異形靶陰極機構(gòu)及磁控濺射鍍膜裝置

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310192574.9
• 申請日: 2013-05-22
• 公開（公告）號: CN103409725A
• 公開（公告）日: 2013-11-27
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 劉國利;范振華
• 申請（專利權(quán)）人: 東莞宏威數(shù)碼機械有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 廣州三環(huán)專利代理有限公司 44202
• 代理人: 張艷美;郝傳鑫

1.一種旋轉(zhuǎn)異形靶陰極機構(gòu)，設(shè)置于磁控濺射鍍膜裝置的旋轉(zhuǎn)陰極腔體內(nèi)，其特征在于：包括支撐桿、磁鋼部件、靶管及靶材，所述支撐桿固定連接于所述所述旋轉(zhuǎn)陰極腔體內(nèi)，所述磁鋼部件呈密封設(shè)置并連接于所述支撐桿上，且所述磁鋼部件相對于豎直方向偏離設(shè)置，所述靶管轉(zhuǎn)動地套設(shè)于所述支撐桿及所述磁鋼部件外，所述靶管內(nèi)的空隙形成冷卻水通道，所述靶材設(shè)于所述靶管外，且所述靶材呈異形靶面結(jié)構(gòu)。

2.如權(quán)利要求1所述的旋轉(zhuǎn)異形靶陰極機構(gòu)，其特征在于：所述靶材的兩端形成有錐形臺階，從而使所述靶材呈異形靶面結(jié)構(gòu)。

3.如權(quán)利要求1所述的旋轉(zhuǎn)異形靶陰極機構(gòu)，其特征在于：還包括一橡膠材質(zhì)的連接座，所述連接座的一端卡合于所述支撐桿上，所述磁鋼部件連接于所述連接座的另一端，所述連接座與所述靶管之間的空隙形成所述冷卻水通道。

4.如權(quán)利要求3所述的旋轉(zhuǎn)異形靶陰極機構(gòu)，其特征在于：所述連接座上開設(shè)有相連通的第一卡槽及第二卡槽，所述第一卡槽與所述支撐桿相對應，所述第二卡槽與所述磁鋼部件相對應，所述第一卡槽卡合于所述支撐桿上，所述磁鋼部件卡合于所述第二卡槽內(nèi)。

5.如權(quán)利要求1所述的旋轉(zhuǎn)異形靶陰極機構(gòu)，其特征在于：還包括密封體，所述密封體呈全密封地焊接于所述磁鋼部件外。

6.如權(quán)利要求1所述的旋轉(zhuǎn)異形靶陰極機構(gòu)，其特征在于：所述磁鋼部件相對于豎直方向偏離8度。

7.一種磁控濺射鍍膜裝置，包括旋轉(zhuǎn)陰極腔體、真空腔體、驅(qū)動機構(gòu)及兩旋轉(zhuǎn)異形靶陰極機構(gòu)，所述旋轉(zhuǎn)陰極腔體與所述真空腔體密封連接從而形成濺鍍室，所述旋轉(zhuǎn)陰極腔體與所述真空腔體之間設(shè)置有供基片進出的入口及出口，且所述真空腔體與抽真空系統(tǒng)連接，兩所述旋轉(zhuǎn)異形靶陰極機構(gòu)均設(shè)置于所述旋轉(zhuǎn)陰極腔體內(nèi)，所述驅(qū)動機構(gòu)設(shè)置于所述轉(zhuǎn)陰極腔體外，其特征在于：所述旋轉(zhuǎn)異形靶陰極機構(gòu)如權(quán)利要求1-6任一項所述，且兩所述旋轉(zhuǎn)異形靶陰極機構(gòu)的磁鋼部件相向偏離，兩所述旋轉(zhuǎn)異形靶陰極機構(gòu)的靶管可相對轉(zhuǎn)動。

8.如權(quán)利要求7所述的磁控濺射鍍膜裝置，其特征在于：所述濺鍍室內(nèi)還設(shè)置有傳輸機構(gòu)，所述傳輸機構(gòu)與所述入口、所述出口相對應并位于兩所述旋轉(zhuǎn)異形靶陰極機構(gòu)的下方，所述傳輸機構(gòu)用于傳輸基片。

9.如權(quán)利要求7所述的磁控濺射鍍膜裝置，其特征在于：還包括兩布氣管，兩所述布氣管分別設(shè)置于兩所述旋轉(zhuǎn)異形靶陰極機構(gòu)的兩側(cè)，且所述布氣管的軸向與所述支撐桿的軸向一致，所述布氣管的中心處設(shè)置有進氣口，所述布氣管上還間隔地開設(shè)有若干布氣孔，且沿所述進氣口至所述布氣管兩端的方向上，相鄰兩所述布氣孔間的孔間距逐漸變小。

10.如權(quán)利要求7所述的磁控濺射鍍膜裝置，其特征在于：還包括兩沿所述支撐桿的軸向設(shè)置的屏蔽板，兩所述屏蔽板分別設(shè)置于兩所述旋轉(zhuǎn)異形靶陰極機構(gòu)的兩側(cè)。

11.如權(quán)利要求7所述的磁控濺射鍍膜裝置，其特征在于：所述旋轉(zhuǎn)陰極腔體的一端還設(shè)置有支撐座，所述支撐桿的一端固定連接于所述支撐座上。

12.如權(quán)利要求11所述的磁控濺射鍍膜裝置，其特征在于：還包括旋轉(zhuǎn)頭，所述旋轉(zhuǎn)頭轉(zhuǎn)動地設(shè)置于所述支撐座上，且所述旋轉(zhuǎn)頭的一端與所述靶管的一端固定連接，所述旋轉(zhuǎn)頭的另一端與所述驅(qū)動機構(gòu)相連接，且所述旋轉(zhuǎn)頭與所述支撐座之間通過磁流體密封。

13.如權(quán)利要求12所述的磁控濺射鍍膜裝置，其特征在于：所述旋轉(zhuǎn)陰極腔體的另一端還設(shè)置有支撐塊，所述靶管的另一端通過軸承連接于所述支撐塊上。

14.如權(quán)利要求12所述的磁控濺射鍍膜裝置，其特征在于：所述驅(qū)動機構(gòu)的輸出軸通過帶輪與所述旋轉(zhuǎn)頭連接，用于驅(qū)動所述旋轉(zhuǎn)頭轉(zhuǎn)動。

15.如權(quán)利要求7所述的磁控濺射鍍膜裝置，其特征在于：所述旋轉(zhuǎn)陰極腔體外還設(shè)置有冷卻水管，所述冷卻水管與所述冷卻水通道相連通。

16.如權(quán)利要求7所述的磁控濺射鍍膜裝置，其特征在于：所述旋轉(zhuǎn)陰極腔體外還設(shè)置有控制面板。