[發(fā)明專利]吸附裝置及可吸附軟性對(duì)象的真空吸附設(shè)備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310191668.4
• 申請日: 2013-05-22
• 公開（公告）號(hào): CN104179781A
• 公開（公告）日: 2014-12-03
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 徐志宏;蔡鴻儒
• 申請（專利權(quán)）人: 由田新技股份有限公司
• 主分類號(hào): F16B47/00
• 分類號(hào): F16B47/00
• 代理公司: 長沙正奇專利事務(wù)所有限責(zé)任公司 43113
• 代理人: 何為;李宇

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明有關(guān)于一種真空吸附設(shè)備，尤指一種可用于吸附軟性對(duì)象的真空吸附設(shè)備。

背景技術(shù)

有關(guān)于真空吸盤的技術(shù)主要可分為兩種，一種為接觸式真空吸盤，另一種為非接觸式真空吸盤。

普遍而言，較為常見且應(yīng)用層面較廣泛的是接觸式真空吸盤技術(shù)，其原理為透過氣體由入口處朝出口處的流動(dòng)所產(chǎn)生的負(fù)壓，用以直接施加于所欲吸附的對(duì)象而達(dá)到吸附對(duì)象的目的。由于負(fù)壓直接施加于該對(duì)象上，當(dāng)對(duì)象吸附于吸盤上時(shí)可于氣室內(nèi)形成類似真空的環(huán)境，令對(duì)象緊密的結(jié)合于吸盤上，因此，接觸式吸盤可負(fù)荷較為沉重的載物。然而，接觸式的真空吸盤于吸附對(duì)象時(shí)吸盤將會(huì)直接接觸對(duì)象表面，如應(yīng)用在高精密對(duì)象時(shí)可能會(huì)刮傷對(duì)象表面，因而降低生產(chǎn)的良品率，是以，接觸式吸盤并不適用于高精密度制程的使用。

為解決上述問題，現(xiàn)今應(yīng)用于高精密對(duì)象的移載作業(yè)通常采用非接觸式吸盤技術(shù)，其原理為透過吸盤于對(duì)象表面上所釋出的高速氣流，透過柏努利現(xiàn)象的原理，于高速氣流中產(chǎn)生低壓的類真空區(qū)域，藉以吸附料片。其中，吸附料片所產(chǎn)生的正向力將與對(duì)象的重量與氣流施加于對(duì)象的反向力抵銷，使得對(duì)象與吸盤間維持固定間距，而達(dá)到非接觸式目的。如中國臺(tái)灣第I331981號(hào)專利，揭露了一種非接觸式輸送裝置，其包括有一殼體，一內(nèi)構(gòu)件設(shè)置于該殼體內(nèi)部，空氣經(jīng)由該內(nèi)構(gòu)件導(dǎo)入環(huán)形通道，并由該環(huán)形通道以渦漩方式輸送至一環(huán)形槽并向外吹出以形成一吸附待測對(duì)象的真空區(qū)域，藉此以鄰近但不接觸的方式吸附一待測對(duì)象，又如中國臺(tái)灣第M344217號(hào)專利揭露一種非接觸型真空吸盤，其提供一種無排氣孔設(shè)計(jì)的吸盤本體，利用氣體由各該吸附底面及對(duì)象間噴出，以形成氣體薄膜，而使對(duì)象呈漂浮狀態(tài)而達(dá)到非接觸式吸附效果，皆屬相同原理的應(yīng)用。

然而，前述接觸式吸盤及非接觸式吸盤于使用上仍有許多缺失。舉接觸式吸盤為例，接觸式吸盤于吸附對(duì)象時(shí)，必須將吸盤貼附于對(duì)象表面上達(dá)到一氣密的效果，如果用于吸附多孔隙料片時(shí)，必須調(diào)整吸盤的位置始能達(dá)到吸附的目的，倘若于料片上密布有多個(gè)孔隙或溝槽時(shí)，甚至不能達(dá)到吸附效果。非接觸式吸盤雖可以達(dá)到吸附多孔隙料片的目的，然而，于固定料片、對(duì)象時(shí)，由于料片及對(duì)象漂浮于半空中，不能穩(wěn)定的固持，即便現(xiàn)今處理方式會(huì)用框架限制料片、對(duì)象的側(cè)緣，然而該框架尚需配合料片大小調(diào)整，操作上多有不便，且應(yīng)用于翻面機(jī)時(shí)，亦有可能因?yàn)榉鏁r(shí)所產(chǎn)生的加速度導(dǎo)致料片、對(duì)象碰撞吸盤，使得料片或?qū)ο笫軗p，這類缺失將使得非接觸式吸盤于使用上過于受限。

為避免碰撞的問題，于中國臺(tái)灣第I338084號(hào)專利揭露一種無碰撞非接觸式真空吸盤，其藉由一斥力產(chǎn)生部使料片于吸附時(shí)產(chǎn)生一正向氣流推抵料片避免料片碰撞吸盤。另外于中國臺(tái)灣第201240009號(hào)專利揭露一種非接觸式真空吸盤，該吸盤于吸附面上更設(shè)有至少一防撞墊，然而上列非接觸式真空吸盤仍然必須利用框架限制其位置，始能達(dá)到移載料片的目的，且于使用中，料片仍有可能因?yàn)橐戚d、翻面時(shí)所產(chǎn)生的振蕩與吸盤或是吸盤上的防撞墊碰撞，而有導(dǎo)致料片表面重復(fù)碰撞防撞墊因而造成料片表面受損的情況。再者，上述所有真空吸附裝置于吸附軟板時(shí)，皆有可能因受力不均而導(dǎo)致軟板下垂，使得軟板在移載時(shí)產(chǎn)生翹曲、皺褶，這些翹曲、皺褶將有可能造成檢測上的不便、甚至造成移載時(shí)軟板受損。

發(fā)明內(nèi)容

本發(fā)明目的在于提供一種用于吸附多孔隙對(duì)象并可避免對(duì)象于吸附時(shí)向下軟垂的真空吸附設(shè)備。

為解決上述問題，本發(fā)明提供一種可吸附軟性對(duì)象的真空吸附設(shè)備，包含有一移動(dòng)裝置，一平面吸板以及一吸附裝置。該移動(dòng)裝置包含有至少一連接臂，以及一連接于該連接臂以操作該連接臂移動(dòng)的驅(qū)動(dòng)裝置。該平面吸板連接于該連接臂，該平面吸板包含有一供該軟性對(duì)象靠置的吸附面，以及多數(shù)個(gè)設(shè)置于該吸附面上并提供負(fù)壓以吸附該軟性對(duì)象的真空氣孔。該吸附裝置包含有一裝設(shè)于該平面吸板上的吸盤本體，一設(shè)置于該吸盤本體底側(cè)并對(duì)應(yīng)于該吸附面的吸附底面，以及一設(shè)置于該吸附底面上的摩接片。該吸盤本體內(nèi)設(shè)置有一進(jìn)氣道，該吸附底面包含有一外環(huán)部及內(nèi)環(huán)部，該外環(huán)部及該內(nèi)環(huán)部之間包含有一由該吸附底面朝該進(jìn)氣道方向呈孔徑漸縮的環(huán)形流道，氣體經(jīng)由該進(jìn)氣道向該環(huán)形流道吹出時(shí)形成一真空區(qū)域，該摩接片設(shè)于該內(nèi)環(huán)部上。該軟性對(duì)象受該真空區(qū)域吸附時(shí)依靠于該摩接片并貼附于該吸附底面周側(cè)的吸附面上。

進(jìn)一步地，該真空區(qū)域的吸力與該氣體吹出的斥力相互平衡形成該對(duì)象與該外環(huán)部底側(cè)間的平衡間隙，該摩接片的底側(cè)與該外環(huán)部底側(cè)間的距離等于或大于該平衡間隙。

進(jìn)一步地，該移動(dòng)裝置可為移載裝置、翻面裝置、或旋轉(zhuǎn)裝置。