[發明專利]氧化鋁在陶瓷產品且特別是面磚的制造中作為遮光劑的用途

有效

• 申請號: 201310190397.0
• 申請日: 2013-05-21
• 公開（公告）號: CN103508737B
• 公開（公告）日: 2017-05-17
• 發明（設計）人: 納塔莉·馬丁內斯;埃里克·帕潘
• 申請（專利權）人: 阿爾特奧加爾達訥公司
• 主分類號: C04B35/63
• 分類號: C04B35/63;C04B41/86
• 代理公司: 隆天知識產權代理有限公司72003
• 代理人: 吳小瑛,鄒宗亮

1.氧化鋁Al₂O₃顆粒在經受陶瓷產品制造中的燒結操作的組合物中的用途，以便在所述陶瓷產品中獲得遮光效果，其特征在于所用的氧化鋁Al₂O₃顆粒由氧化鋁組成并且表現出小于96％的α-氧化鋁重量百分比，以及通過Brunauer，Emmett和Teller(BET)技術在氮氣下測得的大于或等于1平方米/克的比表面積；并且其特征在于使用所述氧化鋁顆粒以便在獲得的陶瓷產品上獲得遮光效果，所述遮光效果是指CIELAB標準(Commission Internationale de l’Eclairage,1976)中定義的L*值大于76。

2.如權利要求1所述的用途，其特征在于所用的氧化鋁Al₂O₃包含20至96重量％的α-氧化鋁。

3.如權利要求1所述的用途，其特征在于所用的氧化鋁Al₂O₃包含50至90重量％的α-氧化鋁。

4.如前述權利要求之一所述的用途，其特征在于所用的氧化鋁Al₂O₃顆粒表現出1至80平方米/克的通過BET技術在氮氣下測得的比表面積。

5.如權利要求4所述的用途，其特征在于所用的氧化鋁Al₂O₃顆粒表現出3至15平方米/克的通過BET技術在氮氣下測得的比表面積。

6.如權利要求1-3和5中任一項所述的用途，其特征在于采用Mie理論通過激光衍射由所述顆粒的體積粒徑分布獲得的所用的氧化鋁顆粒的D90小于45微米。

7.如權利要求1-3和5中任一項所述的用途，其特征在于采用Mie理論通過激光衍射由所述顆粒的體積粒徑分布獲得的所用的氧化鋁顆粒的D50小于10微米。

8.如權利要求1-3和5中任一項所述的用途，其特征在于采用Mie理論通過激光衍射由所述顆粒的體積粒徑分布獲得的所用的氧化鋁顆粒的D90小于25微米，采用Mie理論通過激光衍射由所述顆粒的體積粒徑分布獲得的所用的氧化鋁顆粒的D50小于5微米。

9.如權利要求1-3和5中任一項所述的用途，其特征在于所述陶瓷產品選自面磚、浴室組件和陶瓷餐具。

10.如權利要求1-3和5中任一項所述的用途，其特征在于所述陶瓷產品是面磚，所述面磚選自炻器、瓷炻器和瓷磚。

11.如權利要求1-3和5中任一項所述的用途，其特征在于使用所述氧化鋁Al₂O₃顆粒以便在面磚磚體中獲得遮光效果。

12.如權利要求1-3和5中任一項所述的用途，其特征在于在經受面磚磚體制造中的燒結操作的組合物中，所述氧化鋁Al₂O₃顆粒作為與粘土、長石和石英的混合物使用。

13.如權利要求1-3和5中任一項所述的用途，其特征在于在經受面磚磚體制造中的燒結操作的組合物中，所述氧化鋁Al₂O₃顆粒作為與粘土、長石、石英和高嶺土的混合物使用。

14.如權利要求13所述的用途，其特征在于相對于組合物的總重量以重量％表示，所述組合物包含30至40％的粘土、45至60％的長石、3至15％的石英和5至20％的高嶺土。

15.如權利要求1-3、5和14中任一項所述的用途，其特征在于使用所述氧化鋁Al₂O₃顆粒以便在面磚的釉底料和/或面磚的釉料中獲得遮光效果。

16.如權利要求15所述的用途，其特征在于在經受面磚的釉底料和/或面磚的釉料制造中的燒結操作的組合物中，所述氧化鋁Al₂O₃顆粒作為與粘土、長石、玻璃料和高嶺土的混合物使用。

17.如權利要求1-3、5、14和16中任一項所述的用途，其特征在于所用的氧化鋁顆粒占經受燒結操作的組合物的超過5重量％。