[發(fā)明專利]半導(dǎo)體層疊板和垂直腔面發(fā)射激光器有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310187942.0 | 申請(qǐng)日: | 2013-03-13 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN103311805A | 公開(kāi)(公告)日: | 2013-09-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 原敬 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 株式會(huì)社理光 |
| 主分類號(hào): | H01S5/183 | 分類號(hào): | H01S5/183;H01S5/343 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務(wù)所 11105 | 代理人: | 張祥 |
| 地址: | 日本*** | 國(guó)省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 半導(dǎo)體 層疊 垂直 發(fā)射 激光器 | ||
1.一種半導(dǎo)體層疊板,包括:
半導(dǎo)體分布布拉格反射鏡(DBR),其形成在基底上;以及
諧振器層,其通過(guò)交替層疊寬能帶半導(dǎo)體層和有源層形成在半導(dǎo)體分布布拉格反射鏡上,
其中每一個(gè)有源層都包含一個(gè)多量子阱(MQW)層和兩個(gè)分隔層,所述多量子阱層的每個(gè)表面上形成一個(gè)分隔層,
其中所述多量子阱層通過(guò)交替層疊勢(shì)壘層和量子阱層形成,
其中形成n層寬能帶半導(dǎo)體層,且從基底數(shù)第m層寬能帶半導(dǎo)體層的能隙Egm,以及從基底數(shù)第m-1層寬能帶半導(dǎo)體層的能隙Egm-1滿足Egm-1<Egm,其中n和m均為大于或等于2的整數(shù),且1<m≤n。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體層疊板,
其中所述寬能帶半導(dǎo)體層由包含磷化銦鋁鎵的材料形成,第m層寬能帶半導(dǎo)體層的鋁的成分比例Xm和第m-1層寬能帶半導(dǎo)體層的鋁的成分比例Xm-1滿足Xm-1<Xm。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體層疊板,
其中所述寬能帶半導(dǎo)體層由包含砷磷化鋁鎵銦的材料形成,第m層寬能帶半導(dǎo)體層的鋁的成分比例Xm和第m-1層寬能帶半導(dǎo)體層的鋁的成分比例Xm-1滿足Xm-1<Xm。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的半導(dǎo)體層疊板,
其中如果所述寬能帶半導(dǎo)體層由包含磷化銦鋁鎵的材料形成,則所述寬能帶半導(dǎo)體層具有規(guī)定成分的銦和磷,而如果所述寬能帶半導(dǎo)體層由包含砷磷化鋁鎵銦的材料形成,則所述寬能帶半導(dǎo)體層具有規(guī)定成分的銦、磷和砷。
5.根據(jù)權(quán)利要求1到4所述的半導(dǎo)體層疊板,
其中如果所述量子阱層具有壓縮畸變,則所述寬能帶半導(dǎo)體層具有拉伸畸變,而如果所述量子阱層具有拉伸畸變,則所述寬能帶半導(dǎo)體層具有壓縮畸變。
6.根據(jù)權(quán)利要求1到5所述的半導(dǎo)體層疊板,
其中從基底數(shù)起的第1層到第n-1層寬能帶半導(dǎo)體層中的每一個(gè),其中心都位于駐波的節(jié)點(diǎn)處,
其中從基底數(shù)起的第n層寬能帶半導(dǎo)體層的一個(gè)附著于有源層上的表面位于所述駐波的節(jié)點(diǎn)處,且其另一個(gè)表面位于所述駐波的波腹點(diǎn)上。
7.根據(jù)權(quán)利要求1到6所述的半導(dǎo)體層疊板,
其中所述分隔層由砷化鎵形成。
8.根據(jù)權(quán)利要求1到7所述的半導(dǎo)體層疊板,
其中第m-1層和第m層寬能帶半導(dǎo)體層之間的間距比第m層和第m+1層寬能帶半導(dǎo)體層之間的間距寬。
9.一種垂直腔面發(fā)射激光器,包括:
根據(jù)權(quán)利要求1到8所述的半導(dǎo)體層疊板;
布置在所述諧振器層上的外部反射鏡;以及
激發(fā)光源,來(lái)自其的比所述諧振器層發(fā)射出的光線波長(zhǎng)更短的光線照射到所述諧振器層上。
10.一種垂直腔面發(fā)射激光器,包括:
根據(jù)權(quán)利要求1到8所述的半導(dǎo)體層疊板;以及
上層半導(dǎo)體分布布拉格反射鏡,其形成于諧振器層上,
其中半導(dǎo)體層疊板上的半導(dǎo)體分布布拉格反射鏡是下層半導(dǎo)體分布布拉格反射鏡,
其中通過(guò)注入電流到諧振器層中而發(fā)射激光。
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