[發明專利]一種有機電致發光器件及其制備方法無效
| 申請號: | 201310186424.7 | 申請日: | 2013-05-20 |
| 公開(公告)號: | CN104167500A | 公開(公告)日: | 2014-11-26 |
| 發明(設計)人: | 周明杰;鐘鐵濤;張娟娟;王平 | 申請(專利權)人: | 海洋王照明科技股份有限公司;深圳市海洋王照明技術有限公司;深圳市海洋王照明工程有限公司 |
| 主分類號: | H01L51/52 | 分類號: | H01L51/52;H01L51/54;H01L51/56 |
| 代理公司: | 廣州三環專利代理有限公司 44202 | 代理人: | 郝傳鑫;熊永強 |
| 地址: | 518000 廣東省深*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 有機 電致發光 器件 及其 制備 方法 | ||
技術領域
本發明涉及有機電致發光領域,尤其涉及一種有機電致發光器件及其制備方法。
背景技術
有機電致發光器件(OLED)是一種以有機材料為發光材料,能把施加的電能轉化為光能的能量轉化裝置。它具有超輕薄、自發光、響應快、低功耗等突出性能,在顯示、照明等領域有著極為廣泛的應用前景。
有機電致發光器件的結構為三明治結構,在陰極和陽極之間夾有有機發光層。OLED的發光層中的有機物質對大氣中的污染物、氧氣以及潮氣十分敏感,若長期接觸會降低有機電致發光器件的發光性能并縮短其使用壽命,而OLED的陰極材料多為化學性質較活潑的金屬,極易在空氣中或其他含有氧、水汽的氣氛中受到侵蝕。因此,常常需要對OLED進行封裝保護處理,使發光器件與外界環境隔離,以防止水分、有害氣體等的侵入,進而提高OLED的穩定性和使用壽命。
對于柔性OLED產品來說,若使用傳統的OLED封裝技術,在器件背部加上封裝蓋板,會產生重量大、造價高、機械強度差等問題,限制了柔性OLED產品的性能發揮。目前,多數柔性OLED的防水氧能力不強,且使用壽命較短,制備工藝復雜、成本高。
發明內容
為了解決上述問題,本發明旨在提供一種具有封裝層結構的有機電致發光器件,該封裝層結構可有效地防止外部水、氧等活性物質對有機電致發光器件的侵蝕,可延長有機電致發光器件的使用壽命。本發明還提供了一種有機電致發光器件的制備方法,該制備方法工藝簡單,原料廉價,易于大面積制備。
第一方面,本發明提供了一種有機電致發光器件,包括依次層疊的陽極導電基板、發光功能層、陰極和封裝層,所述封裝層為由封裝層單元重疊形成的復合結構,所述封裝層單元為依次層疊的第一有機阻擋層、第一無機阻擋層、第二有機阻擋層和第二無機阻擋層;
所述第一無機阻擋層的材質為碲化銻、碲化鉍、碲化鎘、碲化銦、碲化錫和碲化鉛中的一種,氮化硅、氮化鋁、氮化硼、氮化鉿、氮化鉭和氮化鈦中的一種,以及銀、鋁、鎳、金、銅和鉑中的一種混合形成的混合物,所述氮化硅、氮化鋁、氮化硼、氮化鉿、氮化鉭或氮化鈦占第一無機阻擋層總質量的10~40%,所述銀、鋁、鎳、金、銅或鉑占第一無機阻擋層總質量的10~30%;
所述第二無機阻擋層的材質為氧化鋁鎂、氧化鈦鉍、氧化鎳鉻、氧化鉻鈷、氧化镥鐵和氧化鋁釔中的一種與氮化硅、氮化鋁、氮化硼、氮化鉿、氮化鉭和氮化鈦中的一種,以及銀、鋁、鎳、金、銅和鉑中的一種混合形成的混合物,所述氮化硅、氮化鋁、氮化硼、氮化鉿、氮化鉭或氮化鈦占第二無機阻擋層總質量的10~40%,所述銀、鋁、鎳、金、銅或鉑占第二無機阻擋層總質量的10~30%
所述第一有機阻擋層和第二有機阻擋層的材質均為客體材料和主體材料按照物質的量比2:3~3:2混合形成的混合物,所述客體材料為N,N'-二苯基-N,N'-二(3-甲基苯基)-4,4'-聯苯二胺、N,N'-二苯基-N,N'-二(1-萘基)-1,1'-聯苯-4,4'-二胺、1,1-二[4-[N,N′-二(p-甲苯基)氨基]苯基]環己烷、3-叔丁基-9,10-二(2-萘)蒽、4,4',4''-三(咔唑-9-基)三苯胺或9,9'-(1,3-苯基)二-9H-咔唑;所述主體材料為4,7-二苯基-1,10-菲羅啉、2,9-二甲基-4,7-二苯基-1,10-菲羅啉、1,3,5-三(1-苯基-1H-苯并咪唑-2-基)苯、8-羥基喹啉鋁、雙(2-甲基-8-羥基喹啉-N1,O8)-(1,1'-聯苯-4-羥基)鋁或3-(聯苯-4-基)-5-(4-叔丁基苯基)-4-苯基-4H-1,2,4-三唑。
優選地,陽極導電基板的材質為導電玻璃基板或導電有機薄膜基板。更優選地,陽極導電基板為銦錫氧化物(ITO)。
優選地,陽極導電基板的厚度為100nm。
發光功能層設置在陽極導電基板上。
優選地,發光功能層包括依次層疊的空穴注入層、空穴傳輸層、發光層、電子傳輸層和電子注入層。
優選地,空穴注入層的材質為MoO3與NPB按照質量比3:7混合形成的混合物。
優選地,空穴注入層的厚度為10nm。
優選地,空穴傳輸層的材質為4,4',4''-三(咔唑-9-基)三苯胺(TCTA)。
優選地,空穴傳輸層的厚度為30nm。
優選地,發光層的材質為三(2-苯基吡啶)合銥(Ir(ppy)3)與1,3,5-三(1-苯基-1H-苯并咪唑-2-基)苯(TPBi)按照質量比5:95混合形成的混合物。
優選地,發光層的厚度為20nm。
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