[發明專利]通用型彈簧端面打磨裝置無效
| 申請號: | 201310179415.5 | 申請日: | 2013-05-15 |
| 公開(公告)號: | CN103240650A | 公開(公告)日: | 2013-08-14 |
| 發明(設計)人: | 項勇;嚴元齊 | 申請(專利權)人: | 成都晨暉彈簧制造有限公司 |
| 主分類號: | B24B7/16 | 分類號: | B24B7/16;B24B41/06 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 610000 四川省成都*** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 通用型 彈簧 端面 打磨 裝置 | ||
技術領域
????本發明涉及一種彈簧加工設備,尤其涉及通用型彈簧端面打磨裝置。
背景技術
由于剛生產出來的彈簧切斷后,端面一般都具有毛刺,需要進行打磨,有時候彈簧端面還需要根據設計要求打磨平齊。
目前,部分大型彈簧端面四周毛刺采用手動打磨方式,需要兩個人同時操作,一個人手持砂輪機打磨,一個人不停轉動彈簧,這種打磨方式存在一定的安全隱患、而且操作者勞動強度大、打磨效率低。
目前也有部分機械打磨裝置,但這類打磨裝置的彈簧卡具位置固定,不利于彈簧的方便裝卸,裝卸時非常浪費人力。
發明內容
本發明要解決的技術問題就在于:針對現有技術存在的技術問題,本發明提供一種彈簧裝卸方便、結構簡單緊湊、低成本的彈簧打磨裝置。
為實現上述目的,本發明的通用型彈簧端面打磨裝置,包括支架、彈簧卡具、旋轉打磨盤、托盤和一對滑軌,其中:上述托盤設置在滑軌上,托盤底部設置有與滑軌配合的滑槽;上述彈簧卡具設置在托盤上;上述旋轉打磨盤包括砂輪和控制砂輪轉動的電機;上述支架包括下支撐板、上支撐板;上述彈簧卡具包括固定在下支撐板上的固定裝置和固定在上支撐板上的壓緊裝置。
進一步,上述支架還包括導桿,上支撐板通過緊固件固定在導桿上。?
優選的,上述滑軌為三角形滑軌,上述滑槽為三角形凹槽。
優選的,上述固定裝置為兩個平板,兩個平板構成一個“V”形凹槽,上述壓緊裝置為一個平板。
優選的,上述固定裝置為2個輥筒,上述壓緊裝置為一個輥筒,固定裝置還連接到一個電機上。
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本發明具有以下優點:
1、本發明的通用型彈簧端面打磨裝置采用機械方式打磨彈簧,降低了操作人員操作風險,同時提高了彈簧打磨效率;
2、本發明的通用型彈簧端面打磨裝置中,彈簧卡具通過托盤安裝在滑軌上,可在滑軌上移動,便于彈簧的拆卸。
3、本發明的固定裝置和壓緊裝置配合固定彈簧,可適用不同尺寸的彈簧,兼容性較好。
附圖說明
圖1是本發明的結構示意圖;
圖2是實施例2的結構示意圖。
圖例說明:1、固定裝置;?2、壓緊裝置;?3、砂輪;?4、電機;?5、支架;51、下支撐板;?52、上支撐板;?53、導桿;?6、托盤;??7、滑軌。
具體實施方式
以下將結合說明書附圖和具體實施例對本發明做進一步詳細說明。
實施例1
通用型彈簧端面打磨裝置,包括支架5、彈簧卡具、旋轉打磨盤、托盤6和一對滑軌7,其中:上述托盤6設置在滑軌7上,托盤6底部設置有與滑軌7配合的滑槽;上述彈簧卡具設置在托盤6上;上述旋轉打磨盤包括砂輪3和控制砂輪3轉動的電機4;上述支架5包括下支撐板51、上支撐板52;上述彈簧卡具包括固定在下支撐板51上的固定裝置1和固定在上支撐板52上的壓緊裝置2。
上述支架5還包括導桿53,上支撐板52可以在導桿53上移動,并通過緊固件固定在導桿53上。導桿53上設置有螺紋,緊固件螺紋連接在導桿上,緊固件例如但不限于螺母。
本實施例中,上支撐板52可以通過緊固件調整其在導桿53上的安裝位置,從而帶動壓緊裝置2的放置位置。當需要放入彈簧時,松開緊固件,將上支撐板52上移;彈簧放在固定裝置1以后,將壓緊裝置2下調至完全固定彈簧后,用緊固件固定好上支撐板52。
上述滑軌7為三角形滑軌,上述滑槽為三角形凹槽。
上述固定裝置1為兩個平板,兩個平板構成一個“V”形凹槽,砂輪3固定在“V”形凹槽一端槽口處,砂輪3的徑向與滑軌7方向一致;上述壓緊裝置2為一個平板。
本實施例中的彈簧卡具通過托盤6安裝在滑軌7上,可在滑軌7上移動,便于彈簧的裝卸。此外,由于壓緊裝置2的位置可以調整,該彈簧卡具可以適用于不同大小的彈簧,兼容性好。
實施例2
如圖2所示,本實施例與實施例1基本相同,區別僅在于,上述固定裝置1為2個輥筒,上述壓緊裝置2為一個輥筒,作為固定裝置12個輥筒的還連接到一個電機上。3個輥筒可沿其軸線轉動,以轉動彈簧,變化彈簧端面的打磨位置。本實施例中,電機控制砂輪、輥筒轉動技術為本領域常規技術,在此不再贅述。
以上僅是本發明的優選實施方式,本發明的保護范圍并不僅局限于上述實施例,凡屬于本發明思路下的技術方案均屬于本發明的保護范圍。應當指出,對于本技術領域的普通技術人員來說,在不脫離本發明原理前提下的若干改進和潤飾,應視為本發明的保護范圍。
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