[發(fā)明專利]集成有超薄碳層的法珀腔非線性光學(xué)器件及其制備方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310179237.6 | 申請(qǐng)日: | 2013-05-15 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN103293821A | 公開(kāi)(公告)日: | 2013-09-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王楓秋 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 王楓秋 |
| 主分類號(hào): | G02F1/355 | 分類號(hào): | G02F1/355 |
| 代理公司: | 南京理工大學(xué)專利中心 32203 | 代理人: | 唐代盛 |
| 地址: | 211100 江蘇省南京市*** | 國(guó)省代碼: | 江蘇;32 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 集成 超薄 法珀腔 非線性 光學(xué) 器件 及其 制備 方法 | ||
1.一種集成有超薄碳層的法珀腔非線性光學(xué)器件,其特征在于:包括第一光學(xué)反射元件、第二光學(xué)反射元件、間隔材料層和碳材料層;第一光學(xué)反射元件和第二光學(xué)反射元件存在空間間隔形成法布里-珀羅諧振腔;碳材料層位于第一光學(xué)反射元件和第二光學(xué)反射元件之間;間隔材料層位于第一光學(xué)反射元件與碳材料層之間,或位于第二光學(xué)反射元件與碳材料層之間,或位于第一光學(xué)反射元件與碳材料層之間以及第二光學(xué)反射元件與碳材料層之間。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的集成有超薄碳層的法珀腔非線性光學(xué)器件,其特征在于:第一光學(xué)反射元件材料為介質(zhì)多層反射膜或金屬納米薄膜,第二光學(xué)反射元件材料為介質(zhì)多層反射膜或金屬納米薄膜,碳材料層為石墨、單層石墨烯、多層石墨烯、單壁碳納米管、多壁碳納米管或無(wú)定型碳中的一種或多種碳材料依次疊加形成的復(fù)合結(jié)構(gòu),碳材料層厚度為0.3納米-1微米;間隔材料層材料為高聚物透明材料、透明氧化物陶瓷或透明非氧化物陶瓷,間隔材料層厚度為50納米-200微米。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的集成有超薄碳層的法珀腔非線性光學(xué)器件,其特征在于:介質(zhì)多層反射膜材料優(yōu)選硫化鋅、氟化鎂、氟化釔、氧化鉭、砷化鎵、砷化鋁、無(wú)定型硅、無(wú)定型鍺、氧化鉑、氧化鈦或氧化硅;金屬納米薄膜材料優(yōu)選金、銀或鋁;高聚物透明材料優(yōu)選聚乙烯醇、聚丙烯酸胺、聚甲基丙烯酸甲酯或纖維素;透明氧化物陶瓷優(yōu)選氧化鋁、氮氧化鋁,氧化鎂、氧化鈹、氧化釔或氧化釔-二氧化鋯;透明非氧化物陶瓷優(yōu)選砷化鎵、硫化鋅、硒化鋅、氟化鎂或氟化鈣。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的集成有超薄碳層的法珀腔非線性光學(xué)器件的制備方法,其特征在于:在第一光學(xué)反射元件上生長(zhǎng)或沉積間隔材料層作為基底,或?qū)⒌谝还鈱W(xué)反射元件作為基底;將碳材料層依次沉積到上述基底上或?qū)⑸L(zhǎng)好的單層或多層碳材料依次轉(zhuǎn)移到基底上;在碳材料層上再生長(zhǎng)或沉積間隔材料層,再在第二次生長(zhǎng)的間隔材料上生長(zhǎng)或沉積第二光學(xué)反射元件,或直接在碳材料層上生長(zhǎng)或沉積第二光學(xué)反射元件;至少含有一個(gè)間隔材料層。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的集成有超薄碳層的法珀腔非線性光學(xué)器件的制備方法,其特征在于:間隔材料的生長(zhǎng)或沉積方法為熱蒸鍍、電子束蒸鍍、脈沖激光沉積、分子束外延、原子層沉積或化學(xué)氣相沉積;光學(xué)反射元件的生長(zhǎng)或沉積方法優(yōu)選磁控濺射、脈沖激光沉積、分子束外延、原子層沉積或化學(xué)氣相沉積。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的集成有超薄碳層的法珀腔非線性光學(xué)器件的制備方法,其特征在于:第一光學(xué)反射元件材料優(yōu)選介質(zhì)多層反射膜或金屬納米薄膜,第二光學(xué)反射元件材料優(yōu)選介質(zhì)多層反射膜或金屬納米薄膜,碳材料層為石墨、單層石墨烯、多層石墨烯、單壁碳納米管、多壁碳納米管或無(wú)定型碳中的一種或多種碳材料依次疊加形成的復(fù)合結(jié)構(gòu),碳材料層厚度為0.3納米-1微米;間隔材料層厚度為50納米-200微米,間隔材料層材料為高聚物透明材料、透明氧化物陶瓷或透明非氧化物陶瓷。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的集成有超薄碳層的法珀腔非線性光學(xué)器件的制備方法,其特征在于:介質(zhì)多層反射膜材料優(yōu)選硫化鋅、氟化鎂、氟化釔、氧化鉭、砷化鎵、砷化鋁、無(wú)定型硅、無(wú)定型鍺、氧化鉑、氧化鈦或氧化硅;金屬納米薄膜材料優(yōu)選金、銀或鋁;高聚物透明材料優(yōu)選聚乙烯醇、聚丙烯酸胺、聚甲基丙烯酸甲酯或纖維素;透明氧化物陶瓷優(yōu)選氧化鋁、氮氧化鋁,氧化鎂、氧化鈹、氧化釔或氧化釔-二氧化鋯;透明非氧化物陶瓷優(yōu)選砷化鎵、硫化鋅、硒化鋅、氟化鎂或氟化鈣。
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