[發(fā)明專利]大口徑光學(xué)零件的大氣等離子體加工方法無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310177080.3 | 申請(qǐng)日: | 2013-05-14 |
| 公開(公告)號(hào): | CN103231297A | 公開(公告)日: | 2013-08-07 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 王波;金會(huì)良;姚英學(xué);李娜;車琳;辛強(qiáng);金江;李鐸 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 哈爾濱工業(yè)大學(xué) |
| 主分類號(hào): | B24B13/00 | 分類號(hào): | B24B13/00 |
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| 地址: | 150000 黑龍*** | 國省代碼: | 黑龍江;23 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 口徑 光學(xué) 零件 大氣 等離子體 加工 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于光學(xué)加工領(lǐng)域。
背景技術(shù)
計(jì)算機(jī)控制光學(xué)表面成形技術(shù)CCOS?(Computer?Controlled?Optical?Surfacing),是20世紀(jì)70年代發(fā)展起來的一項(xiàng)光學(xué)加工技術(shù)。CCOS技術(shù)隨著計(jì)算機(jī)技術(shù)的發(fā)展進(jìn)一步完善,大大推動(dòng)了光學(xué)零件制造技術(shù)的發(fā)展,特別是在大口徑、高精度非球面的拋光加工中降低了對(duì)操作者經(jīng)驗(yàn)技術(shù)的要求,并提高了重復(fù)性。
目前,大口徑光學(xué)零件加工主要采用基于CCOS原理的拋光研磨頭或拋光頭的小工具拋光。拋光過程屬于接觸式加工,主要依靠微細(xì)磨粒的機(jī)械作用使加工材料發(fā)生塑性變形來實(shí)現(xiàn)去除加工,在小工具拋光頭和零件表面存在有一定的壓力,所以不可避免地在光學(xué)元件表面存在劃痕、位錯(cuò)、微裂紋、變質(zhì)層等表面和亞表面損傷現(xiàn)象,對(duì)光學(xué)系統(tǒng)的穩(wěn)定性和使用性能及壽命產(chǎn)生直接的影響。為了減小表面損傷層對(duì)光學(xué)零件的影響,機(jī)械拋光工藝對(duì)大口徑光學(xué)元件進(jìn)行多周期的微量去除,導(dǎo)致超精密拋光加工效率大大降低,其加工周期可能長達(dá)數(shù)月甚至數(shù)年。例如美國直徑為500mm的拋物面反射鏡,加工周期為3個(gè)月,直徑2.5m虎克望遠(yuǎn)鏡,加工周期為6年,帕洛瑪5m望遠(yuǎn)鏡先后花費(fèi)14年,傳統(tǒng)的機(jī)械拋光技術(shù)存在的低效率問題日益突出,已經(jīng)滿足不了光學(xué)領(lǐng)域?qū)Υ罂趶焦鈱W(xué)元件的大批量需求。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種大口徑光學(xué)零件的大氣等離子體加工方法,為了解決傳統(tǒng)的機(jī)械拋光技術(shù)存在的低加工效率而無法滿足光學(xué)領(lǐng)域?qū)Υ罂趶焦鈱W(xué)元件的大批量需求的問題。
所述的目的是通過以下方案實(shí)現(xiàn)的:所述的一種大口徑光學(xué)零件的大氣等離子體加工方法,它的步驟方法是:
步驟一:將大氣等離子旋轉(zhuǎn)電極設(shè)置在密封罩內(nèi),密封罩的下端有開口,使密封罩的內(nèi)腔通過氣管與混合等離子體氣源導(dǎo)氣連通,使大氣等離子旋轉(zhuǎn)電極與射頻電源的輸出端連接作為大氣等離子體放電的陽極;?
步驟二:將密封罩的上端絕緣連接在龍門加工機(jī)床的豎直運(yùn)動(dòng)工作平臺(tái)上,將待加工光學(xué)零件裝卡在龍門加工機(jī)床的水平運(yùn)動(dòng)工作平臺(tái)上;將龍門加工機(jī)床的工作平臺(tái)與射頻電源相連并接地作為大氣等離子體放電的陰極;
步驟三:使大氣等離子旋轉(zhuǎn)電極靠近待加工光學(xué)零件的待加工表面,并使它們之間保持一定的放電間隙,間隙范圍為:100μm~3mm;
步驟四:預(yù)熱射頻電源,預(yù)熱時(shí)間為5-10分鐘;然后打開混合等離子體氣源,混合等離子體氣源包含反應(yīng)氣體、等離子體激發(fā)氣體和輔助氣體,使等離子體激發(fā)氣體的流量為1升/分鐘~40升/分鐘,反應(yīng)氣體與等離子體激發(fā)氣體的流量比為1:10~1:1000;輔助氣體與反應(yīng)氣體的流量比為1:10~1:1;
步驟五:當(dāng)大氣等離子旋轉(zhuǎn)電極和待加工光學(xué)零件的待加工表面之間的區(qū)域內(nèi)充滿等離子體激發(fā)氣體、反應(yīng)氣體與輔助氣體的混合氣體后,啟動(dòng)射頻電源,逐步增加射頻電源的功率,使功率達(dá)到200W~500W,同時(shí)控制射頻電源的反射功率為零,在射頻電源工作的過程中持續(xù)穩(wěn)定的通入混合氣體,使大氣等離子旋轉(zhuǎn)電極和待加工光學(xué)零件的待加工表面之間的放電區(qū)域產(chǎn)生穩(wěn)定的等離子體放電;
步驟六:根據(jù)去除量的要求,控制大氣等離子旋轉(zhuǎn)電極的運(yùn)動(dòng)軌跡和在零件表面的駐留時(shí)間,用上述步驟產(chǎn)生的大氣等離子體對(duì)零件表面進(jìn)行加工;
步驟七:待加工完成后,關(guān)閉射頻電源的電源,關(guān)閉混合等離子體氣源,取出待加工光學(xué)零件,對(duì)加工去除深度進(jìn)行測量,以判斷是否達(dá)到加工要求。
本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比具有下列優(yōu)點(diǎn):
1.本發(fā)明的大口徑光學(xué)零件大氣等離子體加工方法采用了旋轉(zhuǎn)電極與加工零件之間的放電間隙產(chǎn)生等離子體,是非接觸式化學(xué)加工方法,避免了機(jī)械加工中產(chǎn)生的損傷層;
2.?在本發(fā)明的大口徑光學(xué)零件大氣等離子體加工方法中,高速旋轉(zhuǎn)的電極使進(jìn)入電極和零件之間放電區(qū)域的反應(yīng)氣體大大增加,使電離出活性離子的濃度增強(qiáng),大大提高大口徑光學(xué)零件的加工效率,縮短加工周期;
3.在本發(fā)明的大口徑光學(xué)零件大氣等離子體加工方法中,高速旋轉(zhuǎn)的電極有利于反應(yīng)產(chǎn)物及時(shí)脫離零件表面,提高表面質(zhì)量,同時(shí)高速旋轉(zhuǎn)的電極也降低了加工區(qū)域的溫度,具備冷卻作用;
4.在本發(fā)明的大口徑光學(xué)零件大氣等離子體加工方法中,屬于非接觸式的加工方法,在加工零件邊緣時(shí)去除函數(shù)也不會(huì)發(fā)生變化,不存在邊緣效應(yīng)問題,提高了加工精度和面形收斂速度;
5.本發(fā)明的大口徑光學(xué)零件大氣等離子體加工方法是在大氣環(huán)境下激發(fā)產(chǎn)生的等離子體,擺脫了真空等離子體加工對(duì)零件尺寸的限制,極大地降低了加工成本。
附圖說明
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