[發明專利]適用于大口徑非球面光學零件的大氣等離子體加工裝置無效
| 申請號： | 201310177069.7 | 申請日： | 2013-05-14 |
| 公開（公告）號： | CN103227093A | 公開（公告）日： | 2013-07-31 |
| 發明（設計）人： | 王波;金會良;姚英學;李娜;車琳;辛強;金江;李鐸 | 申請（專利權）人： | 哈爾濱工業大學 |
| 主分類號： | H01J37/32 | 分類號： | H01J37/32 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 150000 黑龍*** | 國省代碼： | 黑龍江;23 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 適用于 口徑 球面 光學 零件 大氣 等離子體 加工 裝置 | ||
1.適用于大口徑非球面光學零件的大氣等離子體加工裝置，其特征在于它由旋轉電極（1）、密封罩（2）、混合等離子體氣源（3）、射頻電源（4）、龍門加工機床（5）組成；
旋轉電極（1）設置在密封罩（2）內，密封罩（2）的下端有開口（2-1），密封罩（2）的內腔通過氣管（2-2）與混合等離子體氣源（3）導氣連通，旋轉電極（1）與射頻電源（4）的輸出端連接作為大氣等離子體放電的陽極；密封罩（2）的上端絕緣連接在龍門加工機床（5）的豎直運動工作平臺（5-2）上，將待加工光學零件（6）裝卡在龍門加工機床（5）的水平運動工作平臺（5-1）上；將龍門加工機床（5）的工作平臺（5-1）與射頻電源（4）相連并接地作為大氣等離子體放電的陰極；旋轉電極（1）與待加工光學零件（6）的待加工表面之間設置有放電間隙，放電間隙的間隙范圍為：100μm～3mm；合等離子體氣源（3）包含反應氣體、等離子體激發氣體和輔助氣體，所述反應氣體與等離子體激發氣體的流量比為1：10~1：1000，輔助氣體與反應氣體的流量比為1：10~1：1。
2.根據權利要求1所述的適用于大口徑非球面光學零件的大氣等離子體加工裝置，其特征在于所述的龍門加工機床（5）的豎直運動工作平臺（5-2）由一個豎直運動模塊和小范圍擺動模塊組成；豎直運動模塊的運動行程范圍為：0-200mm，擺動模塊的擺動范圍為：-45°~?+45°。
3.根據權利要求1所述的適用于大口徑非球面光學零件的大氣等離子體加工裝置，其特征在于所述混合等離子體氣源（3）中的等離子體激發氣體為氦氣或氬氣；反應氣體為六氟化硫、四氟化碳或三氟化氮；輔助氣體為氧氣、氫氣或氮氣。
4.根據權利要求1所述的適用于大口徑非球面光學零件的大氣等離子體加工裝置，其特征在于所述大氣等離子旋轉電極（1）為輪型電極、球型電極、圓柱型電極或片狀電極；所述大氣等離子旋轉電極（1）的材質為鋁，并在表面鍍有一層厚度為1-3μm的氧化膜。
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