[發明專利]大氣等離子體成形電極加工微結構密封環類零件的裝置

無效

• 申請號: 201310177052.1
• 申請日: 2013-05-14
• 公開（公告）號: CN103258708A
• 公開（公告）日: 2013-08-21
• 發明（設計）人: 王波;辛強;姚英學;金會良;丁飛;李娜;金江;李鐸
• 申請（專利權）人: 哈爾濱工業大學
• 主分類號: H01J37/32
• 分類號: H01J37/32
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.大氣等離子體成形電極加工微結構密封環類零件的裝置，其特征在于它由等離子體成形電極（1）、五軸聯動機床（2）、射頻電源（3）、密閉工作艙（5）、混合等離子體氣源（6）組成：

等離子體成形電極（1）的上端面絕緣連接在五軸聯動機床（2）的豎直運動工作軸（2-1）上，使等離子體成形電極（1）與射頻電源（3）的輸出端連接作為大氣等離子體放電的陽極；將待加工碳化硅密封環類零件（4）裝卡在地電極（2-3）上，地電極固定在五軸聯動機床（2）的工作平臺（2-2）上；將地電極（2-3）接地作為大氣等離子體放電的陰極；將五軸聯動機床（2）設置在密閉工作艙（5）中，使密閉工作艙（5）內的等離子體成形電極（1）的導氣孔通過氣管（5-1）與混合等離子體氣源（6）導氣連通；等離子體成形電極（1）的下端面成形工作表面具有與待加工碳化硅密封環類零件（4）期望的微結構面型相補償的微結構，對零件直接進行成形加工；等離子體成形電極（1）部分要求在徑向覆蓋住待加工碳化硅密封環類零件（4），等離子體成形電極（1）的下端所有轉折部分倒圓角過渡，避免尖端放電，保證等離子體的放電均勻；使等離子體成形電極（1）靠近待加工碳化硅密封環類零件（4）的待加工表面，并使它們之間保持一定的放電間隙，放電距離范圍為1mm-5mm。

2.根據權利要求1所述的大氣等離子體成形電極加工微結構密封環類零件的裝置，其特征在于所述等離子體成形電極（1）的材質為鋁。

3.根據權利要求1所述的大氣等離子體成形電極加工微結構密封環類零件的裝置，其特征在于所述混合等離子體氣源（6）中的大氣等離子體激發氣體可以為氦氣、氬氣等惰性氣體；反應氣體可以為六氟化硫、四氟化碳、三氟化氮等；輔助氣體可以為氧氣、氫氣、氮氣等。