[發明專利]用于在結構中提供軸向應力的檢測裝置在審
| 申請號: | 201310175342.2 | 申請日: | 2013-02-25 |
| 公開(公告)號: | CN103292933A | 公開(公告)日: | 2013-09-11 |
| 發明(設計)人: | R·W·奧斯本 | 申請(專利權)人: | 空中客車運營有限公司 |
| 主分類號: | G01L1/00 | 分類號: | G01L1/00 |
| 代理公司: | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038 | 代理人: | 白皎 |
| 地址: | 英國布*** | 國省代碼: | 英國;GB |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 結構 提供 軸向 應力 檢測 裝置 | ||
1.一種用于在結構中提供軸向應力的檢測裝置,該結構具有位于一側的第一表面和位于相對側的第二表面,其中,該檢測裝置包括:
第一組構件,所述第一組構件用于在所述結構上的多個第一位置處抵靠所述結構的第一表面;
第二組構件,所述第二組構件用于在所述結構上的多個第二位置處抵靠所述結構的第二表面,所述多個第一位置和多個第二位置限定不同的印跡;以及
力致動器,用于施加將所述第一組構件和第二組構件中的至少一組構件向所述第一組構件和第二組構件中的另一組構件驅動的力,
并且其中,每組構件包括至少三個構件,每組構件中的至少兩個構件沿所述結構與理論排列線對準,并且每組構件中的至少一個構件沿所述結構與所述理論排列線不對準,
使得當所述力致動器施加將所述第一組構件和第二組構件中的至少一組構件向所述第一組構件和第二組構件中的另一組構件驅動的力時,負載被施加在每個理論排列線上的不同位置處以及與每個理論排列線不對準的其他位置處,使得所述結構沿雙軸向彎曲,從而在所述結構中提供雙軸向應力。
2.根據權利要求1所述的檢測裝置,其中,每組構件包括四個構件,并且其中所述四個構件包括沿第一理論排列線排列的第一對構件和沿第二理論排列線排列的第二對構件,并且其中第一理論排列線和第二理論排列線彼此成一角度。
3.根據權利要求2所述的檢測裝置,其中,所述第一組構件中的第一對構件與第二組構件中的第一對構件沿同一第一理論排列線排列,并且其中第一組構件中的第二對構件與所述第二組構件中的第二對構件沿同一第二理論排列線排列。
4.根據權利要求2或權利要求3所述的檢測裝置,其中,所述第一對構件中的第一構件位于第二理論排列線的一側,所述第一對構件中的第二構件位于所述第二理論排列線的另一側,并且其中所述第二對構件中的第一構件位于第一理論排列線的一側,所述第二對構件中的第二構件位于所述第一理論排列線的另一側。
5.根據權利要求2-4中的任一項權利要求所述的檢測裝置,其中,所述第一理論排列線與所述第二理論排列線大致垂直。
6.根據權利要求2-5中的任一項權利要求所述的檢測裝置,其中,每個構件布置成提供與所述結構的接觸線,并且其中每個構件的接觸線大致垂直于其理論排列線。
7.根據權利要求2-6中的任一項權利要求所述的檢測裝置,其中,對于第一組構件,所述第一對構件和第二對構件中的構件的印跡布置成位于第一點周圍,而在第二組構件中,所述第一對構件和第二對構件中的構件的印跡布置成遠離該點。
8.根據權利要求2-6中的任一項權利要求所述的檢測裝置,其中,對于第一組構件,第一對構件中的構件的印跡布置成位于第一點周圍,而第二對構件中的構件的印跡布置成遠離該點,而在第二組構件中,第一對構件中的構件的印跡布置成遠離該點,第二對構件中的構件的印跡布置成位于所述第一點周圍。
9.一種采用根據權利要求1-8中的任一項的檢測裝置的檢測設備,其中,該檢測設備包括:
基座,以及
與基座附接的包括至少三個構件的一組構件,其中,該組構件中的至少一個構件沿基座與其他構件不對準。
10.根據權利要求9所述的檢測設備,其中,所述構件可移動地安裝在基座上,使得構件沿基座的位置是可調整的。
11.一種采用權利要求1-8中的任一項所述的檢測裝置或者權利要求9和10中的任一項所述的檢測設備進行檢測的結構,其中,該結構包括中央檢測部分以及遠離中央檢測部件延伸的至少三條腿部。
12.根據權利要求11所述的結構,其中,所述結構是十字形的。
13.根據權利要求11或12所述的結構,其中,所述結構是夾層板結構或工字梁結構。
14.一種用于在結構中提供軸向應力的方法,該結構具有位于第一側上的第一表面和位于相對側上的第二表面,其中,該方法包括以下各個步驟:
設置至少包括三個構件的第一組構件,用于在所述結構的多個第一位置處抵靠所述結構的第一表面,其中,所述第一組構件中的至少兩個構件沿所述結構與第一理論排列線對準,并且第一組構件中的至少一個構件沿所述結構與所述第一理論排列線不對準;
設置至少包括三個構件的第二組構件,用于在所述結構上的多個第二位置處抵靠結構的第二表面,所述多個第一位置和多個第二位置限定不同印跡,其中所述第二組構件中的至少兩個構件沿所述結構與第二理論排列線對準,所述第二組構件中的至少一個構件沿所述結構與所述第二理論排列線不對準;
將待檢測的所述結構置于所述第一組構件和所述第二組構件之間;
施加力以將第一組構件和第二組構件中的至少一組構件向第一組構件和第二組構件中的另一組構件驅動,使得負載被施加在每個理論排列線上的不同位置處并且在另一位置與每個理論排列線不對準,使得所述結構沿雙軸向彎曲,從而在所述結構中提供雙軸向應力。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于空中客車運營有限公司,未經空中客車運營有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201310175342.2/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:圖像形成裝置
- 下一篇:用于冷卻檢測器的冷卻壓敷裝置





