[發明專利]光信息記錄裝置

無效

• 申請號: 201310172903.3
• 申請日: 2013-05-10
• 公開（公告）號: CN103680528A
• 公開（公告）日: 2014-03-26
• 發明（設計）人: 藤田浩司
• 申請（專利權）人: 日立樂金資料儲存股份有限公司;日立民用電子株式會社
• 主分類號: G11B7/0065
• 分類號: G11B7/0065
• 代理公司: 北京尚誠知識產權代理有限公司 11322
• 代理人: 龍淳

1.一種光信息記錄裝置，使信號光與參考光發生干涉而形成干涉條紋記錄在記錄介質中，其特征在于，包括：

第一激光光源，出射第一激光；

信號光光學系統，從所述第一激光形成信號光并使其入射到記錄介質；

參考光光學系統，從所述第一激光形成參考光并使其入射到所述記錄介質；

第二激光光源，出射與所述第一激光不同波長的第二激光；

測量光光學系統，從所述第二激光形成測量光并使其入射到所述記錄介質；

受光部，接收入射到所述記錄介質的所述測量光的反射光；

檢測部，基于所述受光部的受光信號，檢測所述記錄介質在聚焦方向上的高度；

聚焦調整部，調整所述信號光光學系統的物鏡與所述記錄介質的相對距離；和

控制部，根據由所述檢測部檢測出的所述記錄介質的聚焦方向上的高度，對所述聚焦調整部進行控制，以調整所述信號光光學系統的物鏡與所述記錄介質的相對距離。

2.一種光信息記錄裝置，使信號光與參考光發生干涉而形成干涉條紋記錄在記錄介質中，其特征在于，包括：

第一激光光源，出射第一激光；

信號光光學系統，從所述第一激光形成信號光并使其入射到記錄介質；

參考光光學系統，從所述第一激光形成參考光并使其入射到所述記錄介質；

第二激光光源，出射與所述第一激光不同波長的第二激光；

第三激光光源，出射與所述第一激光不同波長的第三激光；

第一測量光光學系統，從所述第二激光形成第一測量光并使其入射到所述記錄介質；

第二測量光光學系統，從所述第三激光形成第二測量光并使其入射到所述記錄介質；

第一受光部，接收入射到所述記錄介質的所述第一測量光的反射光；

第二受光部，接收入射到所述記錄介質的所述第二測量光的反射光；

檢測部，基于所述第一受光部的受光信號和所述第二受光部的受光信號，檢測所述記錄介質的聚焦方向上的高度；

聚焦調整部，調整所述信號光光學系統的物鏡與所述記錄介質的相對距離；和

控制部，根據由所述檢測部檢測出的所述記錄介質在聚焦方向上的高度，對所述聚焦調整部進行控制，以調整所述信號光光學系統的物鏡與所述記錄介質的相對距離。

3.如權利要求1或2所述的光信息記錄裝置，其特征在于，還包括：

存儲部，用于存儲在所述記錄介質上記錄信息時的所述記錄介質的位置信息和關于由所述聚焦調整部進行了調整的所述距離的信息，

所述控制部根據從所述存儲部讀取的所述位置信息和關于所述距離的信息，對所述聚焦調整部進行控制，以調整所述信號光光學系統的物鏡與所述記錄介質的相對距離。

4.如權利要求3所述的光信息記錄裝置，其特征在于，還包括：

將所述記錄介質從所述光信息記錄裝置中排出的介質排出部，

所述控制部，在所述記錄介質被所述介質排出部從所述光信息記錄裝置排出后，使存儲在所述存儲部中的所述位置信息和關于所述距離的信息無效，根據由所述檢測部檢測出的所述記錄介質在聚焦方向上的高度，對所述聚焦調整部進行控制，以調整所述信號光光學系統的物鏡與所述記錄介質的相對距離。

5.如權利要求1所述的光信息記錄裝置，其特征在于：

所述測量光光學系統使所述測量光入射到所述信號光在所述記錄介質上的入射位置。

6.如權利要求2所述的光信息記錄裝置，其特征在于：

所述第一和第二測量光光學系統使所述第一和第二測量光入射到所述信號光在所述記錄介質上的入射位置。

7.如權利要求1所述的光信息記錄裝置，其特征在于：

所述測量光光學系統和所述信號光光學系統被獨立地配置，使得各光學系統的光路中所述測量光的光路和所述信號光的光路不重合。

8.如權利要求1或2所述的光信息記錄裝置，其特征在于：

所述聚焦調整部通過在聚焦高度方向上驅動所述記錄介質，來調整所述信號光光學系統的物鏡與所述記錄介質的相對距離。

9.如權利要求1或2所述的光信息記錄裝置，其特征在于：

所述檢測部基于在所述記錄介質的表面上反射的所述測量光的受光信號，檢測所述記錄介質在聚焦方向上的高度。

10.如權利要求1或2所述的光信息記錄裝置，其特征在于：

所述檢測部基于在相對于所述記錄介質的表面比記錄層更靠內側的層上反射的所述測量光的受光信號，檢測所述記錄介質在聚焦方向上的高度。