[發(fā)明專利]硅片清洗裝置及方法

在審

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201310170180.3
• 申請(qǐng)日: 2013-05-10
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN104138870A
• 公開(kāi)（公告）日: 2014-11-12
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 王堅(jiān);楊貴璞;王暉
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 盛美半導(dǎo)體設(shè)備(上海)有限公司
• 主分類號(hào): B08B3/12
• 分類號(hào): B08B3/12;B08B3/10
• 代理公司: 上海專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 31100
• 代理人: 陸嘉

1.一種硅片清洗裝置，其特征在于，包括：

外置槽，所述外置槽開(kāi)設(shè)有排液口；

內(nèi)置槽，所述內(nèi)置槽套設(shè)于外置槽內(nèi)，內(nèi)置槽的側(cè)壁開(kāi)設(shè)有進(jìn)液口及出液口，出液口位于內(nèi)置槽側(cè)壁接近底部的位置；

超/兆聲波換能器，所述超/兆聲波換能器設(shè)置于內(nèi)置槽的底部；

超/兆聲波發(fā)生器，所述超/兆聲波發(fā)生器與超/兆聲波換能器相連接；

硅片夾，所述硅片夾夾持硅片，所述硅片的待清洗面朝向超/兆聲波換能器；及

螺桿，所述螺桿與硅片夾相連接，螺桿帶動(dòng)硅片夾上下移動(dòng)和旋轉(zhuǎn)。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硅片清洗裝置，其特征在于，還包括供應(yīng)桶、供應(yīng)泵及排液管，所述供應(yīng)桶通過(guò)管道分別與外置槽的排液口和內(nèi)置槽的出液口相連接，所述供應(yīng)泵的輸入端與供應(yīng)桶相連接，供應(yīng)泵的輸出端與內(nèi)置槽的進(jìn)液口相連接，所述排液管與連接供應(yīng)桶及外置槽的排液口和內(nèi)置槽的出液口的管道相連接，排液管上設(shè)置有排液閥。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的硅片清洗裝置，其特征在于，還包括加熱裝置，所述加熱裝置設(shè)置在供應(yīng)泵的輸出端與內(nèi)置槽的進(jìn)液口之間。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的硅片清洗裝置，其特征在于，還包括過(guò)濾裝置，所述過(guò)濾裝置設(shè)置在供應(yīng)泵的輸出端與內(nèi)置槽的進(jìn)液口之間。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的硅片清洗裝置，其特征在于，所述硅片的待清洗面與超/兆聲波換能器平行或呈一定角度。

6.一種硅片清洗方法，其特征在于，包括步驟：

將清洗液輸送至內(nèi)置槽，清洗液在內(nèi)置槽和外置槽之間循環(huán)流動(dòng)；

將硅片夾持于硅片夾上；

將硅片浸入內(nèi)置槽的清洗液中，硅片的待清洗面朝向超/兆聲波換能器；

打開(kāi)超/兆聲波發(fā)生器，超/兆聲波換能器振動(dòng)，同時(shí)使硅片夾上下移動(dòng)并旋轉(zhuǎn)；及

關(guān)閉超/兆聲波發(fā)生器，取出硅片。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的硅片清洗方法，其特征在于，所述硅片的待清洗面與超/兆聲波換能器平行或呈一定角度。

8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的硅片清洗方法，其特征在于，所述清洗液輸送至內(nèi)置槽之前，對(duì)清洗液進(jìn)行加熱處理。

9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的硅片清洗方法，其特征在于，所述清洗液輸送至內(nèi)置槽之前，對(duì)清洗液進(jìn)行過(guò)濾處理。

10.根據(jù)權(quán)利要求6所述的硅片清洗方法，其特征在于，所述清洗液循環(huán)使用一時(shí)間段后，將一定量的清洗液排掉，同時(shí)向內(nèi)置槽供應(yīng)新鮮的清洗液。