[發(fā)明專利]半導(dǎo)體紫外光源器件有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310168605.7 | 申請日: | 2013-05-09 |
| 公開(公告)號: | CN103311388A | 公開(公告)日: | 2013-09-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 張劍平;高英 | 申請(專利權(quán))人: | 青島杰生電氣有限公司 |
| 主分類號: | H01L33/06 | 分類號: | H01L33/06 |
| 代理公司: | 青島聯(lián)智專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 37101 | 代理人: | 劉曉 |
| 地址: | 266101 山東省青島市*** | 國省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 半導(dǎo)體 紫外 光源 器件 | ||
1.一種半導(dǎo)體紫外光源器件,所述器件的外延結(jié)構(gòu)包括:至少一個N-型層、至少一個P-型層和至少一個發(fā)光區(qū),所述發(fā)光區(qū)在所述N-型層和所述P-型層之間且包含至少一個量子阱,所述量子阱至少被量子壘所包裹,其特征在于:所述器件的外延結(jié)構(gòu)還至少包含一正離子區(qū)于所述發(fā)光區(qū)一側(cè);一負(fù)離子區(qū)于所述發(fā)光區(qū)另一側(cè),所述正離子區(qū)與負(fù)離子區(qū)產(chǎn)生的外加電場抵消或減小量子阱中的極化電場。
2.如權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體紫外光源器件,其特征在于,所述正離子區(qū)是重?fù)焦杌蜴N的AlInGaN或AlGaN外延區(qū)。
3.如權(quán)利要求2所述的半導(dǎo)體紫外光源器件,其特征在于,所述正離子區(qū)是重?fù)焦杌蜴N的異質(zhì)結(jié)構(gòu)外延區(qū)。
4.如權(quán)利要求3所述的半導(dǎo)體紫外光源器件,其特征在于:所述重?fù)焦杌蜴N是在異質(zhì)結(jié)構(gòu)的寬能帶區(qū)域進(jìn)行,?且所述異質(zhì)結(jié)的寬能帶區(qū)與所述異質(zhì)結(jié)的窄能帶區(qū)的Al組份差至少是10%。
5.如權(quán)利要求3所述的半導(dǎo)體紫外光源器件,其特征在于,所述正離子區(qū)是重?fù)焦杌蜴N的超晶格外延區(qū)。
6.如權(quán)利要求5所述的半導(dǎo)體紫外光源器件,其特征在于:所述重?fù)焦杌蜴N是在超晶格的寬能帶區(qū)域進(jìn)行,且所述超晶格的寬能帶區(qū)與所述超晶格的窄能帶區(qū)的Al組份差至少是10%。
7.如權(quán)利要求1-6所述的半導(dǎo)體紫外光源器件,其特征在于:所述重?fù)焦杌蜴N的摻雜濃度是5×1018?cm-3至2×1019?cm-3。
8.如權(quán)利要求1-6所述的半導(dǎo)體紫外光源器件,其特征在于:所述重?fù)焦杌蛘哝N的正離子區(qū)的厚度是10?nm至200?nm。
9.如權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體紫外光源器件,其特征在于,所述負(fù)離子區(qū)是重?fù)芥V的AlInGaN或AlGaN外延區(qū)。
10.如權(quán)利要求9所述的半導(dǎo)體紫外光源器件,其特征在于,所述負(fù)離子區(qū)是重?fù)芥V的異質(zhì)結(jié)構(gòu)外延區(qū)。
11.如權(quán)利要求10所述的半導(dǎo)體紫外光源器件,其特征在于:所述重?fù)芥V是在異質(zhì)結(jié)構(gòu)的寬能帶區(qū)域進(jìn)行,且所述異質(zhì)結(jié)的寬能帶區(qū)與所述異質(zhì)結(jié)的窄能帶區(qū)的Al組份差至少是10%。
12.如權(quán)利要求10所述的半導(dǎo)體紫外光源器件,其特征在于,所述負(fù)離子區(qū)是重?fù)芥V的超晶格外延區(qū)。
13.如權(quán)利要求12所述的半導(dǎo)體紫外光源器件,其特征在于:所述重?fù)芥V是在超晶格的寬能帶區(qū)域進(jìn)行,且所述超晶格的寬能帶區(qū)與所述超晶格的窄能帶區(qū)的Al組份差至少是10%。
14.如權(quán)利要求9-13所述的半導(dǎo)體紫外光源器件,其特征在于:所述重?fù)芥V的摻雜濃度是2×1019?cm-3至5×1020?cm-3。
15.如權(quán)利要求9-13所述的半導(dǎo)體紫外光源器件,其特征在于:所述重?fù)芥V的負(fù)離子區(qū)的厚度是?10?nm至100?nm。
16.如權(quán)利要求1所述的半導(dǎo)體紫外光源器件,其特征在于:所述量子阱和所述量子壘的Al組份在外延生長方向上存在組份梯度,所述量子阱和所述量子壘在外延生長方向上的Al組份梯度方向相反。
17.如權(quán)利要求16所述的半導(dǎo)體紫外光源器件,其特征在于:所述量子阱含的Al組份沿外延生長方向增加,所述量子壘的Al組份沿外延生長方向減少。
18.如權(quán)利要求16或17所述的半導(dǎo)體紫外光源器件,其特征在于:所述量子阱含有1%-70%的Al組份,所述量子壘含有5%-85%的Al組份。
19.如權(quán)利要求18所述的半導(dǎo)體紫外光源器件,其特征在于:所述量子阱含的鋁組份沿外延生長方向線性增加,梯度范圍在0.6%/納米至12%/納米,所述量子壘的鋁組份沿外延生長方向線性減少,梯度范圍在-0.1%/納米至-2%/納米。
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