[發(fā)明專利]電光調(diào)制器在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310168510.5 | 申請(qǐng)日: | 2013-05-09 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN104142585A | 公開(kāi)(公告)日: | 2014-11-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 黃新舜 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 鴻富錦精密工業(yè)(深圳)有限公司;鴻海精密工業(yè)股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | G02F1/035 | 分類號(hào): | G02F1/035 |
| 代理公司: | 無(wú) | 代理人: | 無(wú) |
| 地址: | 518109 廣東省深圳市*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書(shū): | 查看更多 | 說(shuō)明書(shū): | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 電光 調(diào)制器 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及高速光通訊系統(tǒng),特別涉及一種電光調(diào)制器。
背景技術(shù)
現(xiàn)有的一種電光調(diào)制器利用電光效應(yīng)通過(guò)調(diào)制電場(chǎng)改變光波導(dǎo)的兩個(gè)分支之一的折射率,從而改變?cè)谄渲袀鬏數(shù)墓獠ǖ南辔?,使之與光波導(dǎo)另外一個(gè)分支中傳輸?shù)墓獠ㄩg存在相位差。如此,光波導(dǎo)兩個(gè)分支中傳輸?shù)墓獠ㄖ匦聲?huì)聚后將發(fā)生干涉,輸出的光能量取決于相位差,也即是由調(diào)制電場(chǎng)決定,從而實(shí)現(xiàn)調(diào)制。然而,隨著信息技術(shù)的高速發(fā)展,信息傳輸速率(頻寬)已經(jīng)成為技術(shù)發(fā)展主要考慮的方向。目前的電光調(diào)制器通常是對(duì)包含橫電波(transverse?electric?wave)及橫磁波(transverse?magnetic?wave)的光波進(jìn)行籠統(tǒng)傳輸及調(diào)制,或僅對(duì)橫電波進(jìn)行傳輸及調(diào)制,或僅對(duì)橫磁波進(jìn)行傳輸及調(diào)制,其調(diào)制效率較低,導(dǎo)致電光調(diào)制器的信息傳輸速率也較低。
發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此,有必要提供一種能提高信息傳輸速率的電光調(diào)制器。
一種電光調(diào)制器,其包括一個(gè)基底、一個(gè)光波導(dǎo)、一個(gè)第一調(diào)制電極組件以及一個(gè)第二調(diào)制電極組件。該基底包括一個(gè)頂面,該光波導(dǎo)自該頂面向該基底內(nèi)部擴(kuò)散而成。該光波導(dǎo)包括一個(gè)Y型入射部、一個(gè)Y型出射部、一個(gè)僅用于傳輸橫電波的第一連接部以及一個(gè)僅用于傳輸橫磁波的第二連接部。該第一連接部連接該Y型入射部及該Y型出射部并包括一個(gè)第一分支以及一個(gè)第二分支。該第二連接部連接該Y型入射部及該Y型出射部并包括一個(gè)第三分支以及一個(gè)第四分支。該第一調(diào)制電極組件包括一個(gè)第一地電極、一個(gè)第一調(diào)制電極以及一個(gè)第二調(diào)制電極。該第一地電極位于該第一分支與該第二分支之間,該第一調(diào)制電極位于該第一分支背離該第一地電極的一側(cè),該第二調(diào)制電極位于該第二分支背離該第一地電極的一側(cè)。該第二調(diào)制電極組件包括一個(gè)第二地電極以及一個(gè)第三調(diào)制電極。該第二地電極覆蓋該第三分支,該第三調(diào)制電極覆蓋該第四分支。
相較于現(xiàn)有技術(shù),本發(fā)明提供的電光調(diào)制器利用該第一連接部?jī)H傳輸橫電波,該第二連接部?jī)H傳輸橫磁波,并利用該第一調(diào)制電極組件及該第二調(diào)制電極組件對(duì)該橫電波及該橫磁波分別調(diào)制,提高了調(diào)制效率,進(jìn)而提高了電光調(diào)制器的信息傳輸速率。
附圖說(shuō)明
圖1為本發(fā)明實(shí)施方式提供的電光調(diào)制器的立體示意圖。
圖2是圖1中電光調(diào)制器沿線II-II的剖面示意圖。
主要元件符號(hào)說(shuō)明
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G02F 用于控制光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過(guò)改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來(lái)修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學(xué);光學(xué)
G02F1-00 控制來(lái)自獨(dú)立光源的光的強(qiáng)度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學(xué)
G02F1-01 .對(duì)強(qiáng)度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





