[發明專利]一種采用納米技術修復巖層環境污染的裝置及應用有效
| 申請號: | 201310168371.6 | 申請日: | 2013-05-08 |
| 公開(公告)號: | CN104140153A | 公開(公告)日: | 2014-11-12 |
| 發明(設計)人: | 趙學民 | 申請(專利權)人: | 趙學民 |
| 主分類號: | C02F1/70 | 分類號: | C02F1/70;C02F1/72;C02F1/00;C02F3/00;B09C1/08;B09C1/10 |
| 代理公司: | 上海三和萬國知識產權代理事務所(普通合伙) 31230 | 代理人: | 章鳴玉 |
| 地址: | 200063 上海*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 采用 納米技術 修復 巖層 環境污染 裝置 應用 | ||
1.一種采用納米技術修復巖層環境污染的裝置,包括注水井(1),其特征在于:
所述的注水井(1)的數量為1~4個,注水井的深度為5~15米,且注水井在沿著地下水流流動的方向上間隔5~10m處設置有抽水井(2);
所述的注水井(1)與抽水井(2)之間的地面上設置有一納米氣泡飽和溶液注入組件(A),該納米氣泡飽和溶液注入組件分別與的注水井與抽水井管路連接;
所述的注水井(1)與抽水井(2)內設置有濾網(B)。
2.如權利要求1所述的一種采用納米技術修復巖層環境污染的裝置,其特征在于,所述的納米氣泡飽和溶液注入組件(A)包括納米氣泡發生器(A1)、納米氣泡飽和溶液混成存儲器(A2)、注水管(A3)、飽和溶液注入泵(A4)、抽水管(A5)、抽水泵(A6)和排放管(A7),其中納米氣泡發生器與納米氣泡飽和溶液混成存儲器連接,納米氣泡發生器將產生的納米氣泡與納米氣泡飽和溶液混成存儲器的內的純凈水混合形成帶納米氣泡的飽和溶液,納米氣泡飽和溶液混成存儲器一端設置有注水管,注水管與注水井(1)管路連接,在注水管的管路上設置有飽和溶液注入泵,飽和溶液注入泵將帶納米氣泡的飽和溶液通過注水管從納米氣泡飽和溶液混成存儲器注入注水井,而納米氣泡飽和溶液混成存儲器的另一端設置有抽水管,抽水管與抽水井(2)管路連接,在抽水管的管路上設置有抽水泵,抽水泵將抽水井中的水抽出,其中一部分的水通過抽水管循環注入納米氣泡飽和溶液混成存儲器,而另一部分的水則通過與抽水泵連接的排放管直接排放至地表。
3.如權利要求2所述的一種采用納米技術修復巖層環境污染的裝置,其特征在于,所述的納米氣泡發生器(A1)所產生的納米氣泡直徑大小為50~300納米。
4.如權利要求1所述的一種采用納米技術修復巖層環境污染的裝置,其特征在于,所述的濾網(B)的呈覆蓋式的設置在注水井(1)與抽水井(2)的底部井壁上,該濾網設置在注水井與抽水井內的高度與注水井與抽水井內的地下水流的深度相等。
5.一種采用納米技術修復巖層環境污染的裝置的應用,基于上述權利要求1至權利要求3所述的一種采用納米技術修復巖層環境污染的裝置,其具體如下所述:
1)在注水井(1)的沿著地下水流流動的方向上間隔5~10m處設置有抽水井(2);
2)使用水位監控裝置確認注水井(1)和抽水井(2)內的地下水深度,并分別在各自的底部井壁上呈覆蓋式的設置濾網(B),該濾網的高度與注水井與抽水井內的地下水流的深度相等;
3)在注水井和抽水井的地表面設置納米氣泡飽和溶液注入組件(A),該組件的注水管(A3)和抽水管(A5)的一端分別與納米氣泡飽和溶液混成存儲器(A2)連接,另一端則分別置入注水井(1)和抽水井(2)內;
4)啟動納米氣泡飽和溶液注入組件(A)的納米氣泡發生器(A1),使其產生納米氣泡,并將該納米氣泡注入納米氣泡飽和溶液混成存儲器(A2)內的純凈水,使其混合形成帶納米氣泡的飽和溶液,然后通過啟動飽和溶液注入泵(A4)將帶納米氣泡的飽和溶液注入注水井(1),與注水井內的受污染的地下水混合,通過納米氣泡的飽和溶液與地下水的污染物反應并將其分解;
5)啟動納米氣泡飽和溶液注入組件(A)的抽水泵(A6)將抽水井(2)的被帶納米氣泡的飽和溶液處理過并被濾網(B)過濾過的地下水抽水,其中一部分水通過抽水管(A5)再次進入納米氣泡飽和溶液混成存儲器(A2),而另一部分則通過排放管(A7)直接排入地表層。
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