[發明專利]一種選擇性金屬電沉積裝置及其應用

有效

• 申請號: 201310162627.2
• 申請日: 2013-05-03
• 公開（公告）號: CN103255452A
• 公開（公告）日: 2013-08-21
• 發明（設計）人: 譚俊;吳迪;蘭龍;高玉琳;蔡志海;鄭曉輝;曾其彬
• 申請（專利權）人: 中國人民解放軍裝甲兵工程學院
• 主分類號: C25D5/02
• 分類號: C25D5/02;C25D5/08;C25D5/20
• 代理公司: 北京思海天達知識產權代理有限公司 11203
• 代理人: 劉萍

1.一種金屬電沉積裝置，其特征在于：包括用于容納電解液的儲液槽和用于在電沉積過程中與陰極和陽極對應電連接的電源，超聲電源，由支架支撐的超聲輔助噴射裝置，三坐標數控平臺，三坐標數控平臺包括動作執行機構、支架和計算機；儲液槽外還設有為電解液提供噴射壓力的蠕動泵以及控制電解液流量的控制閥；儲液槽內設有保持電解液溫度的溫控器；超聲輔助噴射裝置底部有電解液噴嘴。

2.應用權利要求1所述的金屬電沉積裝置的方法，其特征在于：電鍍過程中，電鍍陰極為金屬板，陽極為超聲輔助噴射裝置，陰陽極之間為噴射出的電解液，電解液溫度控制在20℃～90℃，流過陰陽極之間的平均電流為0mA～100mA,噴嘴移動速度設定為0?～100mm·min^-1；電沉積時超聲頻率為20KHz～100KHz，超聲波功率為10～450W；電鍍時間1～120分鐘。