[發明專利]一種真空鍍膜裝置

無效

• 申請號: 201310157047.4
• 申請日: 2013-05-02
• 公開（公告）號: CN104131254A
• 公開（公告）日: 2014-11-05
• 發明（設計）人: 程齊
• 申請（專利權）人: 上海偉陽紙業有限公司
• 主分類號: C23C14/26
• 分類號: C23C14/26;C23C14/56
• 代理公司: 無
• 代理人: 無

1.一種真空鍍膜裝置，包括真空室，其特征在于：所述真空室上設有真空泵，真空室內設有放卷滾筒、收卷滾筒以及冷卻滾筒，放卷滾筒與收卷滾筒水平平行布置，冷卻滾筒設置在放卷滾筒與收卷滾筒之間中間位置的正下方，真空室的內底部上設有坩堝，坩堝布置在冷卻滾筒的正下方，坩堝與冷卻滾筒之間設有隔熱膜，坩堝連接有加熱器，放卷滾筒與冷卻滾筒通過第一傳動輥連接，收卷滾筒與冷卻滾筒通過第二傳動輥連接。

2.根據權利要求1所述的真空鍍膜裝置，其特征在于：所述真空泵連接有用于控制真空泵的紅外控制器。

3.根據權利要求1所述的真空鍍膜裝置，其特征在于：所述真空室為球形形狀。

4.根據權利要求1所述的真空鍍膜裝置，其特征在于：所述第一傳動輥與放卷滾筒通過第一張緊輥連接。

5.根據權利要求1所述的真空鍍膜裝置，其特征在于：所述第二傳動輥與收卷滾筒通過第二張緊輥連接。