[發明專利]一種無乳劑太陽能網板的制作工藝

在審

• 申請號: 201310154938.4
• 申請日: 2013-04-28
• 公開（公告）號: CN104118194A
• 公開（公告）日: 2014-10-29
• 發明（設計）人: 魏志凌;高小平;潘世珎;張成巖
• 申請（專利權）人: 昆山允升吉光電科技有限公司
• 主分類號: B41C1/14
• 分類號: B41C1/14
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種無乳劑太陽能網板的制作工藝，其特征在于，包括如下步驟：

S1、一次處理：前處理芯模→一次貼膜→一次曝光→一次顯影，經所述一次處理的顯影工序后，所述一次貼的膜在所述芯模上形成預設的顯影圖案一，所述預設的顯影圖案一與所述無乳劑太陽能網板的漏漿區域相適應；?

S2、一次電鑄：將經過所述步驟S1一次處理工序后的所述芯模放進電鑄溶液里進行電鑄，電鑄后形成第一電鑄層，所述第一電鑄層與經過所述步驟S1一次顯影工序形成的預設的顯影圖案一互補；?

S3、二次處理：將經過所述步驟S2中所述的一次電鑄工序后的芯模進行二次貼膜→二次曝光→二次顯影，經所述二次顯影工序后，所述二次貼的膜在所述第一電鑄層表面形成預設的顯影圖案二；

S4、二次電鑄：將經過所述二次處理工序的芯模放入電鑄槽溶液中進行二次電鑄，經所述二次電鑄工序后形成第二電鑄層，所述第二電鑄層主體為網格結構，所述第一電鑄層通過所述第二電鑄層結合形成一個整體；

S5、后處理：經過步驟S4二次電鑄的芯模進行第二層電鑄層褪膜→剝離等工序，經所述剝離工序后得到所述的無乳劑太陽能網板。

2.???根據權利要求1所述的無乳劑太陽能網板的制作工藝，其特征在于，在所述步驟S3中所述二次處理之前還包括第一電鑄層褪膜→后續處理工序，所述第一電鑄層褪膜工序利用超聲水洗進行褪膜處理，所述后續處理工序包括噴砂、清洗工序。

3.???根據權利要求1、2所述的無乳劑太陽能網板的制作工藝，其特征在于，所述步驟S1中所述的一次貼膜工序是將所述膜壓貼或涂覆到經所述前處理的芯模表面，所述的膜厚度與所述第一電鑄層的厚度相當，為8～30μm；所述步驟S3中所述的二次貼膜工序是將膜壓貼或涂覆到經所述后續處理工序后芯模的表面，所述二次貼膜的所述膜厚度與所述第二電鑄層的厚度相當，為10～45μm。

4.根據權利要求3所述的無乳劑太陽能網板的制作工藝，其特征在于，所述步驟S1中所述的一次貼膜工序中所述膜的厚度為10～25μm，所述步驟S3中所述的二次貼膜工序中所述膜的厚度為15～30μm。

5.根據權利要求1所述的無乳劑太陽能網板的制作工藝，其特征在于，所述步驟S1中所述的一次曝光工序是將經所述一次貼膜后的芯模在貼有所述膜的一面通過曝光機曝光，在所述膜上形成預設的曝光圖案一；所述步驟S3中所述的二次曝光工序是將經所述二次貼膜后的芯模在貼有所述膜的一面通過曝光機曝光，在所述膜上形成預設的曝光圖案二。

6.根據權利要求1所述的無乳劑太陽能網板的制作工藝，其特征在于，經所述步驟S2中所述的一次電鑄工序后，所述第一電鑄層的厚度與所述一次貼膜工序中所述膜的厚度一致，為8～30μm；經所述步驟S4中所述的二次電鑄工序后，所述第二電鑄層的厚度與所述二次貼膜工序中所述膜的厚度一致，為10～45μm。

7.根據權利要求6所述的無乳劑太陽能網板的制作工藝，其特征在于，所述第一電鑄層的厚度為10～25μm；所述第二電鑄層的厚度為15～30μm。

8.根據權利要求1所述的無乳劑太陽能網板的制作工藝，其特征在于，所述一次電鑄工序的電鑄參數如下：

氨基磺酸鎳??????????????50～80g/L

七水合氯化鎳為??????????10～20g/L

硼酸????????????????????30～50?g/L

電鑄時間????????????????24～90min　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　。

9.根據權利要求1所述的無乳劑太陽能網板的制作工藝，其特征在于，所述二次電鑄工序的電鑄參數為：

氨基磺酸鎳??????????????50～80g/L

七水合氯化鎳為??????????10～20g/L

硼酸????????????????????30～50?g/L

電鑄時間????????????????30～135min????????????????????????????????????。