[發明專利]一種暴露高活性晶面的釩酸鉍光催化劑及其制備方法無效
| 申請號： | 201310152630.6 | 申請日： | 2013-04-27 |
| 公開（公告）號： | CN103240074A | 公開（公告）日： | 2013-08-14 |
| 發明（設計）人： | 鞏金龍;李長江;王勝平;張鵬;張冀杰;王拓 | 申請（專利權）人： | 天津大學 |
| 主分類號： | B01J23/22 | 分類號： | B01J23/22;B01J35/10;C01G31/00 |
| 代理公司： | 天津市北洋有限責任專利代理事務所 12201 | 代理人： | 琪琛 |
| 地址： | 300072*** | 國省代碼： | 天津;12 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 暴露 活性 釩酸鉍 光催化劑 及其 制備 方法 | ||
1.一種暴露高活性晶面的釩酸鉍光催化劑，其特征在于，其納米顆粒形狀為四方切角雙錐體形，選擇性暴露出{010}晶面，晶相為單斜白鎢礦相，粒徑為500nm-3um。
2.一種如權利要求1所述暴露高活性晶面的釩酸鉍光催化劑的制備方法，其特征在于，該方法按照以下步驟進行：
（1）將Bi(NO3)3·5H2O溶于1～4M的稀硝酸溶液中，攪拌使其完全溶解，然后緩慢加入0.45～0.65g的十二烷基磺酸鈉，攪拌混勻，記為溶液A；
（2）取與步驟（1）中所述Bi(NO3)3·5H2O等摩爾量的NH4VO3溶于1～4M的稀氨水溶液中，攪拌使其完全溶解，記為溶液B；
（3）將步驟（1）所述的溶液A緩慢加入到步驟（2）所述的溶液B中，攪拌使其混勻，用氨水溶液緩慢調節pH至6.5～8，繼續攪拌30～120min得到均勻混合液；
（4）將步驟（3）得到的混合液轉移到晶化釜中，160～200℃下晶化12～48h，自然冷卻到室溫；
（5）離心后分別用去離子水和無水乙醇洗滌晶化后的催化劑，并在60～100℃下干燥6～12h，得到釩酸鉍納米顆粒。
3.根據權利要求2所述的一種暴露高活性晶面的釩酸鉍光催化劑的制備方法，其特征在于，步驟（1）中將Bi(NO3)3·5H2O溶于稀硝酸溶液的攪拌時間為10～60min。
4.根據權利要求2所述的一種暴露高活性晶面的釩酸鉍光催化劑的制備方法，其特征在于，步驟（2）中將NH4VO3溶于稀氨水溶液的攪拌時間為10～60min。
5.根據權利要求2所述的一種暴露高活性晶面的釩酸鉍光催化劑的制備方法，其特征在于，步驟（3）中的pH為6.9～7.2。
6.根據權利要求2所述的一種暴露高活性晶面的釩酸鉍光催化劑的制備方法，其特征在于，步驟（4）中的晶化溫度為170-190℃。
7.根據權利要求2所述的一種暴露高活性晶面的釩酸鉍光催化劑的制備方法，其特征在于，步驟（4）中的晶化時間為24～36h。
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