[發明專利]GaInP/GaAs/InGaAsP/InGaAs四結級聯太陽電池的制作方法有效
| 申請號: | 201310151500.0 | 申請日: | 2013-04-27 |
| 公開(公告)號: | CN103219414A | 公開(公告)日: | 2013-07-24 |
| 發明(設計)人: | 趙勇明;董建榮;李奎龍;孫玉潤;曾徐路;于淑珍;趙春雨;楊輝 | 申請(專利權)人: | 中國科學院蘇州納米技術與納米仿生研究所 |
| 主分類號: | H01L31/0725 | 分類號: | H01L31/0725;H01L31/0735;H01L31/0304 |
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| 地址: | 215123 江蘇省蘇州*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | gainp gaas ingaasp ingaas 級聯 太陽電池 制作方法 | ||
1.一種GaInP/GaAs/InGaAsP/InGaAs四結級聯太陽電池的制作方法,其特征在于:采用GaAs作為支撐襯底,在其中一面鍵合一層InP,通過雙面生長技術,分別在GaAs襯底上生長與GaAs?晶格匹配的GaInP/GaAs雙結電池以及在InP層上生長與InP晶格匹配的InGaAsP/InGaAs雙結電池,所述InP的厚度為0.5~10μm。
2.根據權利要求1所述的GaInP/GaAs/InGaAsP/InGaAs四結級聯太陽電池的制作方法,其特征在于:所述的制作方法具體包括:
1)采用P++雙面拋光GaAs襯底,在其中一面鍵合0.5~10μm的N++?InP層,GaAs襯底與InP層間的接觸形成隧道結;
2)在GaAs襯底上依次生長GaAs緩沖層、GaAs電池、第二隧道結、GaInP電池和GaAs接觸層;
3)在InP層上依次生長InP緩沖層、InGaAsP電池、第一隧道結、InGaAs電池和InGaAs接觸層;
4)分別制作正、負電極和減反膜,最終形成太陽能電池。
3.一種權利要求1或2所述方法制作的GaInP/GaAs/InGaAsP/InGaAs四結級聯太陽電池。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





