[發明專利]色譜質譜分析用數據處理系統有效
| 申請號: | 201310150866.6 | 申請日: | 2013-04-26 |
| 公開(公告)號: | CN103376299A | 公開(公告)日: | 2013-10-30 |
| 發明(設計)人: | 川瀨智裕 | 申請(專利權)人: | 株式會社島津制作所 |
| 主分類號: | G01N30/86 | 分類號: | G01N30/86 |
| 代理公司: | 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 劉新宇 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 色譜 譜分析 數據處理系統 | ||
1.一種色譜質譜分析用數據處理系統,用于通過對色譜四極型質譜儀重復收集到的數據進行處理來創建色譜圖,其中所述色譜四極型質譜儀能夠針對與時間軸上連續地或不連續地設置的多個時間范圍相對應的各區段設置質譜測量條件,所述色譜質譜分析用數據處理系統包括:
a)存儲器,用于針對各區段存儲被指定為質譜測量條件的參數值;
b)判斷器,用于從所述存儲器檢索針對連續配置的兩個區段中的各區段的預定的參數值,并且判斷檢索到的參數值是否一致;以及
c)色譜圖創建處理器,用于在所述判斷器判斷為檢索到的參數值一致的情況下,通過將基于相應的測量條件下針對所述兩個區段中的各區段所收集到的數據的部分色譜圖相連結來創建色譜圖。
2.根據權利要求1所述的色譜質譜分析用數據處理系統,其中,
所述存儲器針對各區段保持被指定為質譜測量條件的測量模式和參數值,
所述判斷器判斷針對所述兩個區段的測量模式和預定的參數值是否一致,以及
在測量模式一致并且參數值也一致的情況下,所述色譜圖創建處理器將所述部分色譜圖相連結。
3.根據權利要求1所述的色譜質譜分析用數據處理系統,其中,還包括指定部,所述指定部用于使得操作員能夠指定需要顯示色譜圖的質量電荷比、質量電荷比范圍或目標化合物,
其中,所述判斷器判斷所顯示的經由所述指定部針對所述兩個區段所指定的質量電荷比、質量電荷比范圍或目標化合物是否一致,并且判斷與所述兩個區段相對應的預定的參數值是否一致,以及
在參數值一致并且所顯示的質量電荷比、質量電荷比范圍或目標化合物也一致的情況下,所述色譜圖創建處理器將所述部分色譜圖相連結。
4.根據權利要求1至3中任一項所述的色譜質譜分析用數據處理系統,其中,
所述色譜四極型質譜儀是包括由碰撞池分離開的第一四極濾質器和第二四極濾質器的色譜串聯四極型質譜儀,以及
所述參數值是所述第一四極濾質器和所述第二四極濾質器其中的一個濾質器在Q1SIM模式、Q3SIM模式和MRM模式其中一個模式下所選擇的離子的質量電荷比的值,其中:在所述Q1SIM模式中,所述第一四極濾質器根據離子的質量電荷比來選擇離子,而不進行所述碰撞池內的離子解離以及所述第二四極濾質器的離子選擇;在所述Q3SIM模式中,不進行所述第一四極濾質器的離子選擇以及所述碰撞池內的離子解離,而所述第二四極濾質器根據離子的質量電荷比來選擇離子;以及在所述MRM模式中,所述第一四極濾質器根據離子的質量電荷比來選擇離子,使所選擇的離子在所述碰撞池內發生解離,并且所述第一四極濾質器和/或所述第二四極濾質器根據離子的質量電荷比來選擇通過解離所產生的產物離子。
5.根據權利要求1至3中任一項所述的色譜質譜分析用數據處理系統,其中,
所述色譜四極型質譜儀是包括由碰撞池分離開的第一四極濾質器和第二四極濾質器的色譜串聯四極型質譜儀,以及
所述參數值是所述第二四極濾質器在前體離子掃描模式中要選擇的離子的質量電荷比的值。
6.根據權利要求1至3中任一項所述的色譜質譜分析用數據處理系統,其中,
所述色譜四極型質譜儀是包括由碰撞池分離開的第一四極濾質器和第二四極濾質器的色譜串聯四極型質譜儀,以及
所述參數值是所述第一四極濾質器在產物離子掃描模式中要選擇的離子的質量電荷比的值。
7.根據權利要求1至3中任一項所述的色譜質譜分析用數據處理系統,其中,
所述色譜四極型質譜儀是包括由碰撞池分離開的第一四極濾質器和第二四極濾質器的色譜串聯四極型質譜儀,以及
所述參數值是中性丟失掃描模式中、與所述第一四極濾質器所選擇的離子的質量電荷比和所述第二四極濾質器所選擇的離子的質量電荷比之間的差相對應的中性丟失值。
8.根據權利要求1至3中任一項所述的色譜質譜分析用數據處理系統,其中,
預定的所述參數值是所述色譜四極型質譜儀中所包括的四極質譜儀在包括預定的質量電荷比范圍的質量掃描的測量模式中要掃描的質量電荷比范圍。
9.根據權利要求1至3中任一項所述的色譜質譜分析用數據處理系統,其中,
預定的所述參數值是SIM模式中的目標離子的質量電荷比,其中在所述SIM模式中,在所述色譜四極型質譜儀中所包括的四極質譜儀中對所選擇的一個質量電荷比或順次選擇的多個質量電荷比進行測量。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于株式會社島津制作所,未經株式會社島津制作所許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201310150866.6/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:光纖
- 下一篇:MEMS正交消除和信號解調





