[發(fā)明專利]應用于薄膜器件工藝的水基有機納米墨水及制備和應用有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201310146699.8 | 申請日: | 2013-04-24 |
| 公開(公告)號: | CN103214900A | 公開(公告)日: | 2013-07-24 |
| 發(fā)明(設計)人: | 解令海;黃維;林宗瓊;楊蘇慧;梁瑾;儀明東;常永正;張廣維 | 申請(專利權)人: | 南京郵電大學 |
| 主分類號: | C09D11/00 | 分類號: | C09D11/00;C09D11/02 |
| 代理公司: | 南京經緯專利商標代理有限公司 32200 | 代理人: | 葉連生 |
| 地址: | 210003 江蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 應用于 薄膜 器件 工藝 有機 納米 墨水 制備 應用 | ||
1.一種應用于薄膜器件工藝的水基有機納米墨水,其特征在于該水基有機納米墨水由有機納米片、表面活性劑、助劑和水組成;其中組成比例為:
有機納米片占總質量的?0.05%到50%;
表面活性劑占總質量的?0.01%到20%;
助劑占總質量的?0.01%到5%;
水占總質量的?49%到99%。
2.如權利要求1所述的應用于薄膜器件工藝的水基有機納米墨水,其特征在于所述的有機納米片由螺環(huán)芳烴半導體組成,有機納米片厚度在5納米至100?納米之間,有機納米片面積大于1?平方微米,表面光滑平整,邊緣整齊的晶體結構,形狀為菱形、正方形、矩形、六邊形和納米帶的二維或準二維形貌。
3.如權利要求2所述的應用于薄膜器件工藝的水基有機納米墨水,其特征在于所述的螺環(huán)芳烴半導體是含芳烴基團的螺環(huán)類化合物。
4.如權利要求1所述的應用于薄膜器件工藝的水基有機納米墨水,其特征在于所述的表面活性劑包括:十六烷基三甲基溴化銨CTAB、十二烷基三甲基溴化銨DTAB、甲基三辛基氯化銨Aliquat?336、陽離子聚丙烯酰胺CPAM?、二乙醇胺、三乙醇胺和N-烷基多胺;非離子表面活性劑如聚環(huán)氧乙烷-聚環(huán)氧丙烷-聚環(huán)氧乙烷三嵌段共聚物P123、辛基酚聚氧乙烯醚、蔗糖脂肪酸單酯和尼納樂Nin01;陰離子表面活性劑包括:陰離子聚丙烯酰胺APAM、十二烷基苯磺酸鈉SDS、十六烷基苯磺酸鈉。
5.如權利要求1所述的應用于薄膜器件工藝的水基有機納米墨水,其特征在于所述的助劑是位阻胺、金屬配合物、無機鹽或pH值調節(jié)劑。
6.一種如權利要求1所述的應用于薄膜器件工藝的水基有機納米墨水的制備方法,其特征在于首先制備有機納米片,該有機納米片經過重沉淀方法合成;采用0.01到100?毫摩爾/毫升濃度的螺環(huán)芳烴分子溶解于有機溶劑中,然后將上述溶液快速打入表面活性劑的水溶液中,快速攪拌3分鐘到10小時后,靜置生長時間1小時到7天之間;經離心清洗過程,得到水基分散超薄有機納米片,最后加入離子水稀釋后即得到特定濃度的水基有機納米墨水。
7.一種如權利要求1所述的應用于薄膜器件工藝的水基有機納米墨水在水基光電薄膜的加工工藝中的應用,其特征在于該水基有機納米墨水應用具體包括滴膜工藝、旋涂成膜工藝、噴涂成膜工藝、噴墨打印成膜工藝、卷對卷成膜工藝、絲網印刷成膜工藝、刮刀涂覆成膜工藝和線棒涂層技術。
8.一種如權利要求1所述的應用于薄膜器件工藝的水基有機納米墨水在有機光電子薄膜器件中的應用,其特征在于應用具體包括有機電致發(fā)光器件、有機電存儲器件、太陽能電池、有機光開關器件和光探測器件、有機場效應晶體管和有機激光器件。
9.如權利要求8所述應用于薄膜器件工藝的水基有機納米墨水在有機光電子薄膜器件中的應用,其特征在于所述的有機電存儲器件,其結構為:硅電極-水基加工薄膜-金電極,器件表現(xiàn)為一次寫入多次讀取特性或閃存特性,開關比大于104,開啟電壓小于5伏。
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