[發(fā)明專利]制造具有波長轉(zhuǎn)換層的發(fā)光二極管晶粒的系統(tǒng)及方法無效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201310146566.0 | 申請(qǐng)日: | 2013-04-24 |
| 公開(公告)號(hào): | CN103427004A | 公開(公告)日: | 2013-12-04 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 顏睿康;陳德朔 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 旭明光電股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01L33/50 | 分類號(hào): | H01L33/50 |
| 代理公司: | 北京科龍寰宇知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11139 | 代理人: | 孫皓晨 |
| 地址: | 中國臺(tái)*** | 國省代碼: | 中國臺(tái)灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 制造 具有 波長 轉(zhuǎn)換 發(fā)光二極管 晶粒 系統(tǒng) 方法 | ||
1.一種制造發(fā)光二極管晶粒的系統(tǒng),其特征在于,包括:
一發(fā)光二極管晶粒;
一波長轉(zhuǎn)換層,用于附著到該發(fā)光二極管晶粒,該發(fā)光二極管晶粒包含在一基板上,該基板位于一粘附層上,該粘附層用于依據(jù)曝光于一物理能量以降低粘著性;
一固化設(shè)備,用于降低該粘著層的粘著性,以幫助該波長轉(zhuǎn)換層從該基板上移除;以及
一附著設(shè)備,用于將該波長轉(zhuǎn)換層從該基板移除并將該波長轉(zhuǎn)換層附著到該發(fā)光二極管晶粒。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制造發(fā)光二極管晶粒的系統(tǒng),其特征在于,該波長轉(zhuǎn)換層具有一第一圓周形狀,其與在該發(fā)光二極管晶粒上的一區(qū)域的一第二圓周形狀相符合。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制造發(fā)光二極管晶粒的系統(tǒng),其特征在于,該波長轉(zhuǎn)換層包括一個(gè)或一個(gè)以上特征,該一個(gè)或一個(gè)以上特征與在發(fā)光二極管晶粒上的一個(gè)或一個(gè)以上相對(duì)應(yīng)特征校準(zhǔn)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制造發(fā)光二極管晶粒的系統(tǒng),其特征在于,該物理能量包括紫外線輻射,且該固化設(shè)備包括一紫外線輻射固化裝置。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的制造發(fā)光二極管晶粒的系統(tǒng),其特征在于,該物理能量包括熱能,且該固化設(shè)備包括一熱壓固化設(shè)備。
6.一種制造發(fā)光二極管晶粒的系統(tǒng),其特征在于,包括:
一發(fā)光二極管晶粒;
多個(gè)波長轉(zhuǎn)換層,位于一基板上,該基板位于一粘附層上,該粘附層用于依據(jù)曝光于一電磁輻射以降低粘著性,每一波長轉(zhuǎn)換層用于附著在該發(fā)光二極管晶粒上并具有一第一圓周形狀;
一固化設(shè)備,用于將一物理能量提供在該固化設(shè)備的一選定區(qū)域的該粘著層上,以降低該粘著層的粘著性,該選定區(qū)域具有一第二圓周形狀,該第二圓周形狀相對(duì)應(yīng)該第一圓周形狀;以及
一附著設(shè)備,用于將該等波長轉(zhuǎn)換層一次一個(gè)從該基板上移除,并將該等波長轉(zhuǎn)換層附著到該發(fā)光二極管晶粒。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的制造發(fā)光二極管晶粒的系統(tǒng),其特征在于,該物理能量選自下列輻射之一:紫外線、紅外線、放射性以及熱。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的制造發(fā)光二極管晶粒的系統(tǒng),其特征在于,每一波長轉(zhuǎn)換層包括一個(gè)或多個(gè)特征,該特征選自以下其中之一:挖空、開孔以及狹縫。
9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的制造發(fā)光二極管晶粒的系統(tǒng),其特征在于,該物理能量包括紫外線輻射,且該固化設(shè)備包括一紫外線輻射固化裝置。
10.根據(jù)權(quán)利要求6所述的制造發(fā)光二極管晶粒的系統(tǒng),其特征在于,該物理能量包括熱能,且該固化設(shè)備包括一熱壓固化設(shè)備。
11.根據(jù)權(quán)利要求6所述的制造發(fā)光二極管晶粒的系統(tǒng),其特征在于,該等波長轉(zhuǎn)換層包括一基底材料以及混合到該基材料中的一熒光混合物。
12.根據(jù)權(quán)利要求6所述的制造發(fā)光二極管晶粒的系統(tǒng),其特征在于,該等波長轉(zhuǎn)換層包括一基底材料以及沉積在該基底材料上的一熒光混合物。
13.根據(jù)權(quán)利要求6所述的制造發(fā)光二極管晶粒的系統(tǒng),其特征在于,該發(fā)光二極管晶粒包括一直下式發(fā)光二極管晶粒。
14.根據(jù)權(quán)利要求6所述的制造發(fā)光二極管晶粒的系統(tǒng),其特征在于,該發(fā)光二極管晶粒包括一平面式發(fā)光二極管晶粒。
15.一種制造發(fā)光二極管晶粒的方法,其特征在于,包括以下步驟:
S1:提供具有一所欲構(gòu)造的一發(fā)光二極管晶粒;
S2:提供包含在一基板上的一波長轉(zhuǎn)換層,該基板在一粘著層上,該粘著層用于依據(jù)曝光在一物理能量以降低粘著性;
S3:將在該基板上的該粘著層曝光在該物理能量,以降低該粘著層的粘著性,并幫助該波長轉(zhuǎn)換層從該基板移除;
S4:將該波長轉(zhuǎn)換層從該基板上移除;以及
S5:將該波長轉(zhuǎn)換層附著到該發(fā)光二極管晶粒。
16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的制造發(fā)光二極管晶粒的方法,其特征在于,步驟S1包括在該粘著層上的一基板上提供多個(gè)波長轉(zhuǎn)換層,且步驟S3包括將該粘著層的一選定區(qū)域曝光,而該粘著層的該選定區(qū)域具有一圓周形狀,該圓周形狀相對(duì)應(yīng)該發(fā)光二極管晶粒的一圓周形狀。
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