[發明專利]一種低溫高效制備大尺寸石墨烯的方法有效
| 申請號: | 201310146491.6 | 申請日: | 2013-04-24 |
| 公開(公告)號: | CN103183344A | 公開(公告)日: | 2013-07-03 |
| 發明(設計)人: | 亓鈞雷;張麗霞;曹健;梁松;馮吉才 | 申請(專利權)人: | 哈爾濱工業大學 |
| 主分類號: | C01B31/04 | 分類號: | C01B31/04 |
| 代理公司: | 哈爾濱市松花江專利商標事務所 23109 | 代理人: | 金永煥 |
| 地址: | 150001 黑龍*** | 國省代碼: | 黑龍江;23 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 低溫 高效 制備 尺寸 石墨 方法 | ||
1.一種低溫高效制備大尺寸石墨烯的方法,其特征在于它是按照以下步驟進行的:
一、將金屬基底放入等離子體增強化學氣相沉積設備,抽真空至5Pa,通入H2,H2流量為20sccm,工作壓強為200Pa,然后升溫,40分鐘內到達工作溫度500~700℃,保溫退火處理30分鐘;
二、退火處理結束后,繼續通入Ar和CH4氣體,調節H2、Ar和CH4的流量分別為40sccm、80sccm和1~8sccm,工作壓強為1000Pa,沉積系統射頻電源頻率為13.56MHz,射頻功率為200W,沉積時間為10~300秒;
三、沉積結束后,關閉射頻電源和加熱電源,停止通入CH4氣體,以Ar和H2為保護氣體,快速冷卻到室溫,冷卻的速率為10℃/s,在金屬基底表面均勻生長出石墨烯,即完成低溫高效制備大尺寸石墨烯;
其中步驟一中所用金屬基底為表面平整的鈷、鎳、銅或鉑的箔片或者薄膜,純度為99%~99.99%,厚度為100nm~125μm。
2.根據權利要求1所述的一種低溫高效制備大尺寸石墨烯的方法,其特征在于步驟一中所用金屬基底使用前需要依次在丙酮、無水乙醇和去離子水中進行超聲波清洗10~20分鐘。
3.根據權利要求1或2所述的一種低溫高效制備大尺寸石墨烯的方法,其特征在于步驟一工作溫度510~690℃。
4.根據權利要求1或2所述的一種低溫高效制備大尺寸石墨烯的方法,其特征在于步驟一工作溫度600℃。
5.根據權利要求4所述的一種低溫高效制備大尺寸石墨烯的方法,其特征在于步驟二中CH4的流量為4sccm。
6.根據權利要求5所述的一種低溫高效制備大尺寸石墨烯的方法,其特征在于步驟二中沉積時間為150秒。
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