[發明專利]光學元件結構及用于其的光學元件制造工藝

有效

• 申請號: 201310141615.1
• 申請日: 2013-04-22
• 公開（公告）號: CN103941313A
• 公開（公告）日: 2014-07-23
• 發明（設計）人: 曾俊豪;郭英顥;陳海清;包天一
• 申請（專利權）人: 臺灣積體電路制造股份有限公司
• 主分類號: G02B3/00
• 分類號: G02B3/00;G02B6/122;G02B6/13;G02B1/10
• 代理公司: 北京德恒律治知識產權代理有限公司 11409
• 代理人: 章社杲;孫征

1.一種光學元件制造方法，包括：

提供其上形成有一組塊體的襯底，每個塊體都具有可控的縱橫比；以及

通過沉積方案在所述一組塊體和所述襯底上方形成上覆涂層以根據所述縱橫比形成光學元件。

2.根據權利要求1所述的方法，其中，所述光學元件是微透鏡和波導中的一種。

3.根據權利要求1所述的方法，其中，所述沉積方案是選自由旋涂方案、原子層沉積方案和基于汽相的沉積方案所組成的組中的一種。

4.根據權利要求1所述的方法，其中，提供步驟進一步包括實施光刻工藝和蝕刻工藝中的一種以在所述襯底上形成所述一組塊體。

5.根據權利要求1所述的方法，其中，所述上覆涂層進一步包括選自由微透鏡材料、濾色器材料和波導材料所組成的組中的一種材料。

6.根據權利要求1所述的方法，其中，所述襯底進一步包括選自由覆蓋層、印刷電路板、平面鏡、凸塊下金屬化層、玻璃、樹脂、半導體晶圓和濾色器所組成的組中的一種。

7.根據權利要求1所述的方法，其中，所述一組塊體進一步包括選自由烯丙基樹脂、丙烯酸樹脂、環氧樹脂、苯并環丁烯、含氟聚酰亞胺、SiO_xN_y和旋涂介電材料所組成的組中的一種材料。

8.根據權利要求1所述的方法，其中，所述一組塊體具有密度參數，所述沉積方案具有旋涂速度參數，所述上覆涂層具有相對于所述一組塊體的粘性參數和界面性能參數。

9.一種光學元件結構，包括：

襯底；

一組塊體，形成在所述襯底上；以及

彎曲層，形成在所述一組塊體和所述襯底上方。

10.一種光學元件結構，包括：

襯底；

突出物，形成在所述襯底上；以及

上覆涂層，形成在所述突出物和所述襯底上方以形成所述光學元件結構。