[發(fā)明專利]殘余應(yīng)力原位檢測(cè)系統(tǒng)及其檢測(cè)方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201310139687.2
• 申請(qǐng)日: 2013-04-22
• 公開（公告）號(hào): CN103278513A
• 公開（公告）日: 2013-09-04
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 齊凱;王新華;劉柏清;謝超;江愛華;咼中樑;劉金;鄧賢遠(yuǎn)
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 廣州市特種機(jī)電設(shè)備檢測(cè)研究院
• 主分類號(hào): G01N23/00
• 分類號(hào): G01N23/00;G01L1/25
• 代理公司: 北京五洲洋和知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 11387
• 代理人: 劉春成;張向琨

1.一種殘余應(yīng)力原位檢測(cè)系統(tǒng)，其特征在于，包括：

X射線殘余應(yīng)力分析儀與工件施力試驗(yàn)臺(tái)，

所述X射線殘余應(yīng)力分析儀具備X射線發(fā)射槍，所述X射線殘余應(yīng)力分析儀通過所述X射線發(fā)射槍對(duì)受檢工件上的檢測(cè)點(diǎn)進(jìn)行殘余應(yīng)力的檢測(cè)，

所述工件施力試驗(yàn)臺(tái)具備臺(tái)架、工件支架、施力壓頭和驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，

所述工件支架固定于所述臺(tái)架，所述工件支架支撐所述受檢工件，所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)與所述施力壓頭連接，提供所述施力壓頭所需的動(dòng)力，

所述施力壓頭能夠上下移動(dòng)向所述受檢工件施加作用力，

所述施力壓頭向所述受檢工件施加的作用力的大小及施力時(shí)間可變。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的殘余應(yīng)力原位檢測(cè)系統(tǒng)，其特征在于：

具備至少一個(gè)X射線發(fā)射槍。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的殘余應(yīng)力原位檢測(cè)系統(tǒng)，其特征在于：所述工件支架能夠支撐所述受檢工件的兩端。

4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的殘余應(yīng)力原位檢測(cè)系統(tǒng)，其特征在于：所述工件支架只固定支撐所述受檢工件的一端。

5.一種基于殘余應(yīng)力原位檢測(cè)系統(tǒng)的殘余應(yīng)力原位檢測(cè)方法，其中，

所述殘余應(yīng)力原位檢測(cè)系統(tǒng)包括X射線殘余應(yīng)力分析儀與工件施力試驗(yàn)臺(tái)，

所述X射線殘余應(yīng)力分析儀具備X射線發(fā)射槍，所述X射線殘余應(yīng)力分析儀通過所述X射線發(fā)射槍對(duì)受檢工件上的檢測(cè)點(diǎn)進(jìn)行殘余應(yīng)力的檢測(cè)，

所述工件施力試驗(yàn)臺(tái)具備臺(tái)架、工件支架、施力壓頭和驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)，

所述工件支架固定于所述臺(tái)架，所述工件支架支撐所述受檢工件，所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)與所述施力壓頭連接，提供所述施力壓頭所需的動(dòng)力，

所述施力壓頭向所述受檢工件施加作用力，

所述施力壓頭對(duì)所述受檢工件的施力大小及施力時(shí)間可變，

該殘余應(yīng)力原位檢測(cè)方法包括下述步驟：

將所述受檢工件的兩端支撐于所述工件支架，

在所述受檢工件上選擇檢測(cè)點(diǎn)，將所述X射線發(fā)射槍置于所述檢測(cè)點(diǎn)的上方，

所述驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)對(duì)所述施力壓頭提供動(dòng)力，所述施力壓頭向下接觸所述受檢工件，對(duì)所述受檢工件施力，所述施力壓頭接觸所述受檢工件上避開所述工件支架對(duì)所述受檢工件的支撐點(diǎn)的位置，

在所述施力壓頭施力后，所述X射線發(fā)射槍檢測(cè)所述檢測(cè)點(diǎn)處的殘余應(yīng)力。

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的基于殘余應(yīng)力原位檢測(cè)系統(tǒng)的殘余應(yīng)力原位檢測(cè)方法，其特征在于：

改變所述施力壓頭對(duì)所述受檢工件的施力的大小，不移動(dòng)所述X射線發(fā)射槍，繼續(xù)檢測(cè)同一檢測(cè)點(diǎn)處的殘余應(yīng)力。

7.根據(jù)權(quán)利要求5或6所述的基于殘余應(yīng)力原位檢測(cè)系統(tǒng)的殘余應(yīng)力原位檢測(cè)方法，其特征在于：

改變所述施力壓頭對(duì)所述受檢工件的施力時(shí)間，不移動(dòng)所述X射線發(fā)射槍，繼續(xù)檢測(cè)所述檢測(cè)點(diǎn)處的殘余應(yīng)力。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的基于殘余應(yīng)力原位檢測(cè)系統(tǒng)的殘余應(yīng)力原位檢測(cè)方法，其特征在于：

改變所述檢測(cè)點(diǎn)的位置，檢測(cè)所述受檢工件上不同位置的殘余應(yīng)力。

9.根據(jù)權(quán)利要求5所述的基于殘余應(yīng)力原位檢測(cè)系統(tǒng)的殘余應(yīng)力原位檢測(cè)方法，其特征在于：

所述殘余應(yīng)力原位檢測(cè)系統(tǒng)具備多個(gè)所述X射線發(fā)射槍，利用該多個(gè)X射線發(fā)射槍，檢測(cè)所述受檢工件上多個(gè)位置處的殘余應(yīng)力。

10.根據(jù)權(quán)利要求5所述的基于殘余應(yīng)力原位檢測(cè)系統(tǒng)的殘余應(yīng)力原位檢測(cè)方法，其特征在于：

使用兩個(gè)所述X射線發(fā)射槍，分別從上表面和下表面，檢測(cè)所述受檢工件上同一個(gè)檢測(cè)點(diǎn)的殘余應(yīng)力。