[發(fā)明專利]非制冷焦平面熱像儀盤式斬波器逐列推掃調(diào)制方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310138301.6
• 申請日: 2013-04-19
• 公開（公告）號: CN103245418A
• 公開（公告）日: 2013-08-14
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 程有度;李龍;孫光英;李立華;王敏;姜煒波;趙薇薇;楊登全;楊東
• 申請（專利權(quán)）人: 昆明物理研究所
• 主分類號: G01J5/02
• 分類號: G01J5/02;G02B26/04
• 代理公司: 昆明今威專利商標(biāo)代理有限公司 53115
• 代理人: 賽曉剛

1.非制冷焦平面熱像儀盤式斬波器逐列推掃調(diào)制方法，其特征在于：非制冷焦平面熱像儀內(nèi)的探測器光敏面⑷固定不動，斬波器的調(diào)制盤在勻速旋轉(zhuǎn)調(diào)制過程中，對于調(diào)制盤的曝光扇葉⑴或調(diào)制盤的遮擋扇葉⑵的任意一條扇葉邊緣⑶，在其掃過探測器光敏面中心（O₂）的時刻，該條扇葉邊緣⑶與探測器光敏面⑷的兩個長對邊同時相交。

2.按照權(quán)利要求1所述的盤式斬波器逐列推掃調(diào)制方法，其特征在于：該條扇葉邊緣⑶接近平行于探測器光敏面⑷的短邊、沿探測器光敏面⑷的長邊方向逐列推掃調(diào)制。

3.按照權(quán)利要求1所述的盤式斬波器逐列推掃調(diào)制方法，其特征在于：當(dāng)調(diào)制盤的扇葉邊緣⑶的曲線類型給定后，盤式斬波器的設(shè)計優(yōu)化技術(shù)特征為探測器光敏面⑷要盡量遠(yuǎn)離調(diào)制盤圓心（O₁）而與調(diào)制盤的外圓內(nèi)接；斬波器調(diào)制盤旋轉(zhuǎn)到亮場同步時刻時，斬波器調(diào)制盤的曝光扇葉⑴的兩條扇葉邊緣⑶盡量平行地掃過探測器光敏面⑷的兩條短邊的中點（A₁）和（A₂）。

4.按照權(quán)利要求3所述的盤式斬波器逐列推掃調(diào)制方法，其特征在于：調(diào)制盤的扇葉邊緣⑶為直邊，盤式斬波器的設(shè)計優(yōu)化技術(shù)特征為長方形探測器光敏面⑷要盡量遠(yuǎn)離調(diào)制盤圓心（O₁）而與調(diào)制盤的外圓內(nèi)接于（B₁）和（B₂）；斬波器調(diào)制盤旋轉(zhuǎn)到亮場同步時刻時，斬波器調(diào)制盤的曝光扇葉⑴的兩條扇葉邊緣⑶盡量平行地掃過探測器光敏面⑷的兩條短邊的中點（A₁）和（A₂）。

5.按照權(quán)利要求3所述的盤式斬波器逐列推掃調(diào)制方法，其特征在于：調(diào)制盤的扇葉邊緣⑶為阿基米德螺旋線，盤式斬波器的設(shè)計優(yōu)化技術(shù)特征為長方形探測器光敏面⑷要盡量遠(yuǎn)離調(diào)制盤圓心（O₁）而與調(diào)制盤的外圓內(nèi)接于（B₁），調(diào)制盤的曝光扇葉⑴的兩條扇葉邊緣⑶分別與探測器光敏面⑷的兩個短邊相切，距調(diào)制盤圓心（O₁）遠(yuǎn)的切點位于探測器光敏面⑷遠(yuǎn)短邊的中點（A₁），距調(diào)制盤圓心（O₁）近的切點接近于探測器光敏面⑷近短邊的中點（A₂）；斬波器調(diào)制盤旋轉(zhuǎn)到亮場同步時刻時，斬波器調(diào)制盤的曝光扇葉⑴的兩條扇葉邊緣⑶盡量平行地掃過探測器光敏面⑷的兩條短邊的中點（A₁）和（A₂）。

6.按照權(quán)利要求3所述的盤式斬波器逐列推掃調(diào)制方法，其特征在于：調(diào)制盤的扇葉邊緣⑶為漸開線，盤式斬波器的設(shè)計優(yōu)化技術(shù)特征為長方形探測器光敏面⑷要盡量遠(yuǎn)離調(diào)制盤圓心（O₁）而與調(diào)制盤的外圓內(nèi)接于（B₁），調(diào)制盤的曝光扇葉⑴的兩條扇葉邊緣⑶分別與探測器光敏面⑷的兩個短邊相切于探測器光敏面⑷兩個短邊的中點（A₁）和（A₂）；斬波器調(diào)制盤旋轉(zhuǎn)到亮場同步時刻時，斬波器調(diào)制盤的曝光扇葉⑴的兩條扇葉邊緣⑶盡量平行地掃過探測器光敏面⑷的兩條短邊的中點（A₁）和（A₂）。