[發明專利]一種使深紫外光學薄膜具有光學穩定性的處理方法無效
| 申請號： | 201310134863.3 | 申請日： | 2013-04-18 |
| 公開（公告）號： | CN103235353A | 公開（公告）日： | 2013-08-07 |
| 發明（設計）人： | 金春水;常艷賀;李春;鄧文淵;靳京城 | 申請（專利權）人： | 中國科學院長春光學精密機械與物理研究所 |
| 主分類號： | G02B1/12 | 分類號： | G02B1/12 |
| 代理公司： | 長春菁華專利商標代理事務所 22210 | 代理人： | 張偉 |
| 地址： | 130033 吉*** | 國省代碼： | 吉林;22 |
| 權利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 深紫 光學薄膜 具有 光學 穩定性 處理 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種使深紫外光學薄膜具有光學穩定性的處理方法，其特征在于，該方法包括以下步驟：
步驟i：去除需要鍍膜的襯底表面的吸附物；
步驟ii：應用先進等離子體源對真空室中的襯底進行預處理，以清理襯底表面的附著物；
步驟iii：根據薄膜的膜系結構，在清洗后的襯底上，采用熱舟蒸發沉積工藝進行深紫外氟化物多層膜的制備，實現深紫外光學薄膜的設計光譜；
步驟iv：利用先進等離子體源，以異于步驟ii中的預處理的能量密度對沉積后的薄膜再次進行轟擊處理。
2.根據權利要求1所述的處理方法，其特征在于，所述步驟i中去除需要鍍膜的光學襯底表面的吸附物的步驟具體包括：超聲清洗、慢拉脫水和氮氣吹干。
3.根據權利要求1所述的處理方法，其特征在于，所述步驟iv中，以先進等離子體源對沉積后的薄膜再次進行轟擊處理時，
放電電流的調整范圍為：30-50A；
放電電壓的調整范圍為：80-120V。
4.根據權利要求1-3任意一項中所述的處理方法，其特征在于，所述步驟iii中的深紫外氟化物多層膜包括：LaF3、GdF3、MgF2和AlF3薄膜材料。
5.根據權利要求1-3任意一項中所述的處理方法，其特征在于，所述步驟iii中的深紫外氟化物多層膜包括：高反射膜、增透膜和偏振膜。
下載完整專利技術內容需要扣除積分，VIP會員可以免費下載。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息，商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于中國科學院長春光學精密機械與物理研究所，未經中國科學院長春光學精密機械與物理研究所許可，擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作，請聯系【客服】
本文鏈接：http://www.szxzyx.cn/pat/books/201310134863.3/1.html，轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇：一種汽輪發電機鐵心感應立式加熱工藝方法
- 下一篇：整合式電流傳感裝置
