[發(fā)明專利]測距裝置、測距方法和成像系統(tǒng)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310134170.4
• 申請日: 2013-04-18
• 公開（公告）號: CN103379277A
• 公開（公告）日: 2013-10-30
• 發(fā)明（設計）人: 池本圣雄
• 申請（專利權(quán)）人: 佳能株式會社
• 主分類號: H04N5/232
• 分類號: H04N5/232;H04N5/335
• 代理公司: 中國國際貿(mào)易促進委員會專利商標事務所 11038
• 代理人: 李穎

1.一種測距裝置，包括：

成像光學系統(tǒng)，被布置為形成對象的圖像；

成像單元，包括被布置為獲取第一圖像和第二圖像的像素組，所述第一圖像和第二圖像是由分別主要通過成像光學系統(tǒng)的出射光瞳的第一光瞳區(qū)域和第二光瞳區(qū)域的光束形成的；和

計算單元，

其中，所述計算單元被配置為：通過用校正的第一圖像修正函數(shù)對第一圖像執(zhí)行卷積積分來創(chuàng)建第三圖像，并且通過用校正的第二圖像修正函數(shù)對第二圖像執(zhí)行卷積積分來創(chuàng)建第四圖像，并且通過比較第三圖像和第四圖像來計算到對象的距離，

其中，通過使各質(zhì)心位置分別與最接近質(zhì)心位置的采樣點一致，形成校正的第一圖像修正函數(shù)和第二圖像修正函數(shù)，所述各質(zhì)心位置是基于各第一圖像修正函數(shù)和第二圖像修正函數(shù)的采樣點的數(shù)據(jù)而計算的，各第一圖像修正函數(shù)和第二圖像修正函數(shù)的采樣點與像素組的像素布置對應，以及

其中，以最接近質(zhì)心位置的采樣點為基準點，執(zhí)行卷積積分。

2.根據(jù)權(quán)利要求1的測距裝置，其中，通過用一維函數(shù)在各第一圖像修正函數(shù)和第二圖像修正函數(shù)的采樣點的數(shù)據(jù)之間內(nèi)插，并且通過使用在以質(zhì)心位置與基準點之間的差值從各采樣點偏移的位置處被用一維函數(shù)內(nèi)插的值，獲取校正的第一圖像修正函數(shù)和第二圖像修正函數(shù)。

3.根據(jù)權(quán)利要求1的測距裝置，其中，通過將由下式表達的預定值加到各第一圖像修正函數(shù)和第二圖像修正函數(shù)的采樣點的數(shù)據(jù)上，獲取校正的第一圖像修正函數(shù)和第二圖像修正函數(shù)：

δL=Σi=1n(xiLi)-(g+δx)Σi=1n(Li)(g+δx)n-Σi=1n(xi)]]>

這里，

δL：預定值

i：與圖像修正函數(shù)的采樣點對應的序號

n：用于測距的采樣點的數(shù)量

xi：采樣點的坐標

Li：圖像修正函數(shù)的采樣點的數(shù)據(jù)

g：基于圖像修正函數(shù)的采樣點的數(shù)據(jù)計算的質(zhì)心位置

δx：質(zhì)心位置g與基準點之間的間隙量。

4.根據(jù)權(quán)利要求1的測距裝置，其中，所述計算單元被配置為：通過比較第一圖像和第二圖像來計算到對象的距離，并基于計算的距離信息來形成校正的第一圖像修正函數(shù)和第二圖像修正函數(shù)。

5.根據(jù)權(quán)利要求1的測距裝置，其中，第一圖像修正函數(shù)是與第二圖像對應的線擴展函數(shù)，并且，第二圖像修正函數(shù)是與第一圖像對應的線擴展函數(shù)。

6.根據(jù)權(quán)利要求1的測距裝置，其中，第一圖像修正函數(shù)是與第一圖像對應的線擴展函數(shù)的反函數(shù)，并且，

第二圖像修正函數(shù)是與第二圖像對應的線擴展函數(shù)的反函數(shù)。