[發明專利]感放射線性組合物、顯示元件用層間絕緣膜以及其形成方法

在審

• 申請號: 201310131736.8
• 申請日: 2013-04-16
• 公開（公告）號: CN103376649A
• 公開（公告）日: 2013-10-30
• 發明（設計）人: 八代隆郎;松村信司;高瀬英明
• 申請（專利權）人: JSR株式會社
• 主分類號: G03F7/004
• 分類號: G03F7/004;G03F7/039;G03F7/029;G03F7/031;G03F7/00
• 代理公司: 北京同立鈞成知識產權代理有限公司 11205
• 代理人: 臧建明

1.一種感放射線性組合物，其特征在于含有：[A]具有含有酸解離性基的結構單元(I)、含有聚合性基的結構單元(II)及下述式(1)所表示的結構單元(III)的聚合物；以及

[B]感放射線性酸產生劑：

[化1]

式(1)中，R¹為氫原子或者甲基；R²為碳數6～30的烷基、烯基、炔基或酰氧基烷基或者碳數4～30的交聯環式烴基；其中，所述烷基、烯基、炔基、酰氧基烷基以及交聯環式烴基所具有的氫原子的一部分可經羥基或羧基取代。

2.根據權利要求1所述的感放射線性組合物，其特征在于：還含有[C]包含1個以上的(甲基)丙烯酰基且分子量1,000以下的化合物。

3.根據權利要求1所述的感放射線性組合物，其特征在于：所述結構單元(I)中的酸解離性基是由下述式(2)所表示：

[化2]

式(2)中，R³及R⁴分別獨立地為氫原子、烷基、脂環式烴基或者芳基；其中，這些烷基、脂環式烴基或者芳基所具有的氫原子的一部分或者全部可被取代；另外，不存在R³及R⁴均為氫原子的情況；R⁵為烷基、脂環式烴基、芳烷基、芳基或者-M(R⁶)₃所表示的基團；M為Si、Ge或者Sn；R⁶為烷基；其中，R⁵的烷基、脂環式烴基、芳烷基及芳基以及R⁶的烷基所具有的氫原子的一部分或者全部可被取代；R³與R⁵可相互鍵結而與R³所鍵結的碳原子以及R⁵所鍵結的氧原子一起形成環狀醚結構。

4.根據權利要求1所述的感放射線性組合物，其特征在于：所述結構單元(II)中的聚合性基為環氧基。

5.根據權利要求1所述的感放射線性組合物，其特征在于：所述[A]聚合物中的所述結構單元(III)的含有率為3質量％以上、50質量％以下。

6.根據權利要求2所述的感放射線性組合物，其特征在于：所述[C]化合物為具有源自碳數2～12的二醇結構的骨架、源自三羥甲基丙烷的骨架、源自季戊四醇的骨架或者源自二季戊四醇的骨架的化合物。

7.根據權利要求2所述的感放射線性組合物，其特征在于：所述[C]化合物的含量以固體成分換算為1質量％以上、50質量％以下。

8.根據權利要求1至7中任一項所述的感放射線性組合物，其特征在于：用于形成顯示元件用層間絕緣膜。

9.一種顯示元件用層間絕緣膜，其特征在于：由根據權利要求8所述的感放射線性組合物所形成。

10.一種顯示元件用層間絕緣膜的形成方法，其特征在于包括：

(1)使用根據權利要求8所述的感放射線性組合物，在基板上形成涂膜的步驟；

(2)對所述涂膜的至少一部分照射放射線的步驟；

(3)對照射了放射線的所述涂膜進行顯影的步驟；以及

(4)對進行了顯影的所述涂膜進行加熱的步驟。