[發(fā)明專利]控制印在襯底上的圖案的印刷的方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310130296.4
• 申請日: 2013-04-15
• 公開（公告）號: CN103481690B
• 公開（公告）日: 2017-03-01
• 發(fā)明（設(shè)計）人: E·M·博斯科羅;T·瓦塞斯;A·羅馬內(nèi)羅
• 申請（專利權(quán)）人: 應(yīng)用材料意大利有限公司
• 主分類號: B41M1/18
• 分類號: B41M1/18;B41M1/26;B41F17/00;B41F33/16
• 代理公司: 上海專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司31100
• 代理人: 陸嘉,徐偉

1.一種控制印在襯底（250），諸如形成光生伏打電池或生帶類型電路的晶圓上的圖案的印刷的方法，所述方法包含以下步驟：

在所述襯底（250）的表面（251）上印刷多個印痕（302）來限定所述圖案；和

通過光學(xué)捕獲驗證所述襯底上的所述印痕的所述印刷，其中所述驗證步驟包含以下步驟：

通過檢查單元（200）在印刷之前完成獲取所述襯底或參考襯底的所述表面（251）的第一參考光學(xué)圖像（301、1301）；

處理所述第一圖像（301、1301），其中，處理單元或控制器（101）確定所述第一圖像的參考幾何坐標(biāo)（X1、Y1；X2、Y2；X3、Y3；X4、Y4）并存儲所述幾何坐標(biāo)；

在所述印刷之后，通過所述檢查單元獲取所述襯底的所述表面的第二圖像（303、1303），所述印痕（302）印刷在所述表面上；

通過所述處理單元或控制器（101）處理所述第二圖像（303、1303），所述處理單元或控制器（101）將所述第一圖像（301、1301）的所述參考幾何坐標(biāo)關(guān)聯(lián)到所述第二圖像（303、1303）；

所述處理單元或控制器（101）逐點減去所述第一圖像（301、1301）與所述第二圖像（303、1303）之間的著色來獲得第三圖像（307），所述第一圖像與所述第二圖像之間的差異顯示在所述第三圖像（307）中。

2.如權(quán)利要求1所述的方法，其特征在于，在所述第一圖像和第二圖像的所述處理步驟期間，所述處理單元或控制器（101）將所述第一圖像（301、1301）和所述第二圖像（303、1303）兩者再分成相同多個基礎(chǔ)圖像單元，并且，在所述減去步驟期間，所述第一圖像的所述基礎(chǔ)單元中的每一基礎(chǔ)單元從所述第二圖像的相應(yīng)基礎(chǔ)單元中減去。

3.如權(quán)利要求1或2所述的方法，其特征在于，在所述獲取步驟中，獲取與所述襯底（250）的所述表面（251）有關(guān)的所述第一圖像，在所述印刷步驟中，所述印痕（302）印刷在所述表面（251）上。

4.如權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，所述第二圖像至少由對應(yīng)于所述襯底（250）的非印刷表面的第一區(qū)域（305）和由對應(yīng)于沉積在所述襯底（250）上的所述印痕（302）的多個第二區(qū)域（306）限定，所述至少第一區(qū)域（305）和所述多個第二區(qū)域（306）具有彼此相似的色彩明暗。

5.如權(quán)利要求3所述的方法，其特征在于，所述第三圖像（307）由對應(yīng)于所述襯底（250）的非印刷表面的至少一第三區(qū)域（308）和由對應(yīng)于沉積在所述襯底（250）上的所述印痕（302）的多個第四區(qū)域（309）限定，所述第三區(qū)域（308）和所述多個第四區(qū)域（309）彼此是可區(qū)分的。

6.如權(quán)利要求5所述的方法，其特征在于，在所述獲取步驟中，所述處理單元或控制器（101）確定所述第四區(qū)域（309）的輪廓（310）并確定可與所述輪廓（310）相關(guān)聯(lián)的坐標(biāo)對，以便評估由所述印痕（302）相對于所述參考幾何坐標(biāo)（X1、Y1；X2、Y2；X3、Y3；X4、Y4）采取的位置。

7.如權(quán)利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述獲取步驟提供來獲取與參考襯底的所述表面有關(guān)的所述第一圖像，印痕已沉積在所述表面上。

8.如權(quán)利要求7所述的方法，其特征在于，在所述第三圖像（309）中，只顯示所述襯底（250）的所述表面（251）中存在印刷缺陷（318）的區(qū)域。

9.如權(quán)利要求1或2所述的方法，其特征在于，在所述印刷步驟和所述驗證步驟之前，提供校準(zhǔn)，在所述校準(zhǔn)中確定絕對笛卡爾參考系（X、Y），以便評估至少所述參考幾何坐標(biāo)（X1、Y1；X2、Y2；X3、Y3；X4、Y4）。

10.如權(quán)利要求9所述的方法，其特征在于，所述校準(zhǔn)提供來通過所述檢查單元（200）檢測與校準(zhǔn)襯底（313）有關(guān)的樣本圖像，參考部件（315、316）傳遞到所述校準(zhǔn)襯底（313）上。

11.如權(quán)利要求10所述的方法，其特征在于，所述參考部件包含多個球狀物（315），所述球狀物（315）在預(yù)定位置中并根據(jù)矩陣配置形成。

12.如權(quán)利要求10所述的方法，其特征在于，所述參考部件包含成形部件（316），所述成形部件（316）形成在所述校準(zhǔn)襯底（313）的中心位置并具備相對于彼此正交安置的兩條邊。

13.一種控制印在襯底（250）（例如，形成光生伏打電池或生帶類型電路的晶圓）上的圖案的印刷的裝置，所述裝置包含：

印刷站（131），所述印刷站（131）適用于在所述襯底（250）的表面（251）上沉積多個印痕（302）來限定所述圖案；和

光學(xué)檢查單元，所述光學(xué)檢查單元獲取所述表面的圖像，所述印痕印刷在所述表面上，

其中所述檢查單元（200）配置為檢測所述襯底或參考襯底的所述表面（251）的至少一第一參考光學(xué)圖像和所述襯底的所述表面的至少一第二圖像（303、1303），所述印痕（302）已印刷在所述表面上，

所述裝置進(jìn)一步包含具備處理器的處理單元或控制器（101），所述處理器配置為處理所述第一圖像（301、1301）并將參考幾何坐標(biāo)關(guān)聯(lián)到所述第一圖像，并且處理所述第二圖像（303、1303）以將所述參考幾何坐標(biāo)關(guān)聯(lián)到所述第二圖像（303、1303），

所述處理器進(jìn)一步配置為通過各自著色的點狀減法來比較所述第一圖像與所述第二圖像，以便獲得第三圖像（307），所述第一圖像與所述第二圖像之間的差異顯示在所述第三圖像（307）中，所述控制器（101）還包含存儲器來存儲至少所述第一圖像（301、1301）。