[發明專利]基于信號頻率的二維自參考干涉對準系統及對準方法

有效

• 申請號: 201310130173.0
• 申請日: 2013-04-16
• 公開（公告）號: CN104111594A
• 公開（公告）日: 2014-10-22
• 發明（設計）人: 李運鋒
• 申請（專利權）人: 上海微電子裝備有限公司
• 主分類號: G03F9/00
• 分類號: G03F9/00;G03F7/20
• 代理公司: 北京連和連知識產權代理有限公司 11278
• 代理人: 王光輝

1.一種基于信號頻率的二維自參考干涉對準系統，包括：

激光光源模塊，用于提供所需的照明光束；

光學模塊，用于將照明光束照射到對準標記上并進行掃描，形成光學信號；

電子采集模塊，用于將所述光學信號進行處理，獲得光強信號；

軟件模塊，用于對光強信號進行處理，進一步獲得對準信號；

其特征在于，所述對準標記為180度旋轉對稱結構的二維光柵標記，在所述對準標記的X方向上各級對準信號的對準頻率和Y方向上對應的各級對準信號的對準頻率不同，根據所述對準頻率，可以從中提取出X向對準信號和Y向對準信號，從而實現兩個方向的同時對準。

2.如權利要求1所述的基于信號頻率的二維自參考干涉對準系統，其特征在于，所述對準標記在X方向和Y方向上均為周期性結構。

3.如權利要求2所述的基于信號頻率的二維自參考干涉對準系統，其特征在于，所述對準標記在X方向和Y方向的線寬相同，在X方向和Y方向上的標記掃描速度不同。

4.如權利要求2所述的基于信號頻率的二維自參考干涉對準系統，其特征在于，所述對準標記在X方向和Y方向的線寬不同，在X方向和Y方向上的標記掃描速度相同。

5.如權利要求2所述的基于信號頻率的二維自參考干涉對準系統，其特征在于，所述對準標記在X方向和Y方向的線寬不同，在X方向和Y方向上的標記掃描速度不同。

6.如權利要求3或5所述的基于信號頻率的二維自參考干涉對準系統，其特征在于，所述二維光柵標記在X方向上的長度大于在Y方向上的長度，X方向上的標記掃描速度大于Y方向上的掃描速度。

7.如權利要求1所述的基于信號頻率的二維自參考干涉對準系統，其特征在于，所述用于對準的各級對準信號僅為奇次級對準信號。

8.如權利要求1所述的基于信號頻率的二維自參考干涉對準系統，其特征在于，所述軟件模塊通過信號處理的方法，分離出同一通道中的X向各級對準信號和Y向各級對準信號。

9.基于權利要求1所述的信號頻率的二維自參考干涉對準系統的對準方法，其特征在于包括如下步驟：

（1）光學模塊對對準標記衍射光束進行光學處理，形成光學信號；

（2）電子采集模塊處理所述光學信號，獲得光強信號；

（3）軟件模塊處理所述光強信號，結合工件臺位置數據獲得所述對準標記在X向和Y向的各級對準信號；

（4）擬合處理，獲得各級次信號的一系列峰值位置，進一步確定所述對準標記位置。