[發(fā)明專利]成像裝置和電子設備

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201310129518.0
• 申請日: 2013-04-15
• 公開（公告）號: CN103454768B
• 公開（公告）日: 2016-10-26
• 發(fā)明（設計）人: 平井由樹雄;吉川浩寧;上村拓也;神頭信之
• 申請（專利權）人: 富士通株式會社
• 主分類號: G06K9/00
• 分類號: G06K9/00
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 李春暉;王娜麗

1.一種包括多個光源的成像裝置，其特征在于設置有：

照射光學系統(tǒng)，其形成光導并且具有第一表面和與所述第一表面相反的第二表面，其中所述照射光學系統(tǒng)反射并漫射由所述第一表面接收到的來自所述多個光源的光，并且用來自所述第二表面的光照射目標物；以及

成像光學系統(tǒng)，其設置在所述照射光學系統(tǒng)的內側上，并且接收從所述目標物反射的光，并且將與所述目標物的至少一部分相對應的圖像成像在成像元件上，

其中所述第二表面具有凹面形狀。

2.根據權利要求1所述的成像裝置，其特征在于，所述第二表面的凹面形狀在朝向所述第一表面的方向上且從所述成像光學系統(tǒng)向所述照射光學系統(tǒng)的外圍方向傾斜。

3.根據權利要求1或2所述的成像裝置，其特征在于，所述照射光學系統(tǒng)的所述第一表面包括凹槽，所述多個光源設置在所述凹槽下。

4.根據權利要求1至3中任一項所述的成像裝置，其特征在于，所述照射光學系統(tǒng)包括：

第一照射光學元件，在所述第一照射光學元件的所述第一表面的凹槽下設置有所述多個光源；以及

第二照射光學元件，其設置在所述第一照射光學元件上并且形成所述第二表面。

5.根據權利要求3或4所述的成像裝置，其特征在于：

所述凹槽的上邊緣的曲率半徑小于所述上邊緣的寬度，并且大于等于所述上邊緣的寬度的1/2；并且

所述凹槽的深度小于等于所述照射光學系統(tǒng)的厚度的1/2，并且大于所述凹槽的上邊緣的曲率半徑。

6.根據權利要求3至5中任一項所述的成像裝置，其特征在于設置有：

填充所述凹槽的樹脂，其中所述樹脂是透明的，并且所述樹脂的折射率低于形成所述照射光學元件的材料的折射率。

7.根據權利要求4所述的成像裝置，其特征在于設置有：

第一漫射表面，其設置在所述第二表面上；以及

第二漫射表面，其設置在所述第一照射光學元件和所述第二照射光學元件之間。

8.根據權利要求1至4中任一項所述的成像裝置，其特征在于：

所述成像光學系統(tǒng)具有圓柱形形狀；并且

所述照射光學系統(tǒng)具有圍繞所述成像光學系統(tǒng)的外圍的環(huán)形形狀。

9.一種電子設備，包括容納處理器的主體，所述電子設備的特征在于所述主體包括根據權利要求1至8中任一項所述的成像裝置。

10.一種形成光導的照射光學系統(tǒng)的部件，所述部件反射并漫射由第一表面接收到的來自多個光源的光，并且用來自與所述第一表面相反的第二表面的光照射目標物，其特征在于：

從所述目標物反射的光進入所述照射光學系統(tǒng)的內側的空間；并且

所述第二表面具有凹面形狀。

11.根據權利要求10所述的照射光學系統(tǒng)的部件，其特征在于，所述第二表面的凹面形狀在朝向所述第一表面的方向上并且從所述部件的內側向外側傾斜。

12.根據權利要求10或11所述的照射光學系統(tǒng)的部件，其特征在于，設置有：

第一照射光學元件，在所述第一照射光學元件的第一表面的凹槽下設置有所述多個光源；以及

第二照射光學元件，其設置在所述第一照射光學元件上并且形成所述第二表面。

13.根據權利要求12所述的照射光學系統(tǒng)的部件，其特征在于設置有：

第一漫射表面，其設置在所述第二表面上；以及

第二漫射表面，其設置在所述第一照射光學元件和所述第二照射光學元件之間。

14.根據權利要求12或13所述的照射光學系統(tǒng)的部件，其特征在于，所述第二照射光學元件具有環(huán)形形狀。

15.根據權利要求12或13所述的照射光學系統(tǒng)的部件，其特征在于，所述第二照射光學元件包括多個弓形構件。