[發(fā)明專利]一種制備摻氮二氧化鈦多孔膜的方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201310127166.5
• 申請(qǐng)日: 2013-04-12
• 公開（公告）號(hào): CN103194731A
• 公開（公告）日: 2013-07-10
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 覃勇;陳朝秋;王桂振;段菲菲;陳彩營(yíng)
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 中國(guó)科學(xué)院山西煤炭化學(xué)研究所
• 主分類號(hào): C23C16/40
• 分類號(hào): C23C16/40;C23C16/44
• 代理公司: 太原市科瑞達(dá)專利代理有限公司 14101
• 代理人: 劉寶賢

1.?一種制備摻氮二氧化鈦多孔膜的方法，其特征在于包括如下步驟：

（1）將基底材料放入原子層沉積設(shè)備的反應(yīng)腔，使用惰性氣體氮?dú)獯祾?－10?min，然后進(jìn)行沉積；

設(shè)定的MLD?沉積參數(shù)為：

反應(yīng)溫度80－400?oC；

反應(yīng)源：采用TiCl₄或Ti(OCH(CH₃)₂)₄為鈦源，乙醇胺和丙二酰氯為有機(jī)前體，Ti(OCH(CH₃)₂)₄源溫為60?^oC，乙醇胺源溫為80^?oC，TiCl₄和丙二酰氯源溫都為室溫；

載氣：10－100?sccm的高純氮?dú)猓?/p>

脈沖、憋氣和吹掃時(shí)間：首先將TiCl₄或Ti(OCH(CH₃)₂)₄蒸汽脈沖送入沉積室，脈沖時(shí)間為0.01－0.5?s，憋氣時(shí)間為5－10?s，吹掃時(shí)間為10－120?s；然后將乙醇胺蒸汽脈沖送入沉積室，脈沖時(shí)間為0.1－1?s，憋氣時(shí)間為5－10?s，吹掃時(shí)間為60－150?s；接著將丙二酰氯蒸汽脈沖送入沉積室，脈沖時(shí)間為0.1－1?s，憋氣時(shí)間為5－10?s，吹掃時(shí)間為60－150?s；最后再次將乙醇胺蒸汽脈沖送入沉積室，脈沖時(shí)間為0.1－1?s，憋氣時(shí)間為5－10?s，吹掃時(shí)間為60－150?s，此即完成一次沉積循環(huán)，重復(fù)此沉積循環(huán)即在基底材料表面得到不同厚度的含鈦有機(jī)-無機(jī)復(fù)合膜；

（2）將步驟（1）得到的表面沉積了含鈦有機(jī)-無機(jī)復(fù)合膜的基底材料在空氣，氧氣或惰性氣氛中在350－800?^oC高溫處理1－2?h，除去含鈦有機(jī)-無機(jī)復(fù)合膜中有機(jī)組分,得到在基底材料表面沉積有摻氮二氧化鈦多孔膜的復(fù)合材料。

2.如權(quán)利要求1所述的一種制備摻氮二氧化鈦多孔膜的方法，其特征在于將步驟（2）得到的復(fù)合材料進(jìn)行處理，除去基底材料，得到摻氮二氧化鈦多孔材料。

3.如權(quán)利要求2所述的一種制備摻氮二氧化鈦多孔膜的方法，其特征在于復(fù)合材料進(jìn)行處理采用剝離、焙燒、酸洗或堿洗。

4.如權(quán)利要求1所述的一種制備摻氮二氧化鈦多孔膜的方法，其特征在于所述的基底材料是表面有羥基或缺陷位的材料。

5.如權(quán)利要求4所述的一種制備摻氮二氧化鈦多孔膜的方法，其特征在于所述表面有羥基或缺陷位的材料是硅片、多孔氧化鋁膜、氧化銅納米線或碳納米螺旋。