[發明專利]紅外探測器及其制作方法有效
| 申請號: | 201310118672.8 | 申請日: | 2013-04-08 |
| 公開(公告)號: | CN104103697A | 公開(公告)日: | 2014-10-15 |
| 發明(設計)人: | 邊歷峰;任昕;楊曉杰;黃宏娟 | 申請(專利權)人: | 中國科學院蘇州納米技術與納米仿生研究所 |
| 主分類號: | H01L31/0224 | 分類號: | H01L31/0224;H01L31/09;H01L31/18 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 215123 江蘇省蘇州*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 紅外探測器 及其 制作方法 | ||
1.一種紅外探測器,其特征在于:包括半絕緣砷化鎵單晶襯底以及依次形成于所述半絕緣砷化鎵單晶襯底上的n+下電極接觸層、暗電流阻擋層、量子點有源區、n+中間電極接觸層和p+上電極接觸層,所述的n+下電極接觸層、n+中間電極接觸層和p+上電極接觸層上分別形成有下電極、中間電極和上電極,所述n+中間電極接觸層的厚度小于空穴載流子的擴散長度。
2.根據權利要求1所述的紅外探測器,其特征在于:所述的量子點有源區包括砷化鎵勢壘層和自組織形成的銦鎵砷量子點層。
3.根據權利要求2所述的紅外探測器,其特征在于:所述的銦鎵砷(InyGa1-yAs)量子點層中摻雜有硅元素,其中0.3≤y<1,該量子點超晶格周期數至少為1。
4.根據權利要求1所述的紅外探測器,其特征在于:所述的p+上電極接觸層為p型AlxGa1-xAs外延層,其中0.1≤x<1,受主元素鈹或者碳的摻雜濃度在1.0×1018cm-3~20.0×1018cm-3之間。
5.根據權利要求1所述的紅外探測器,其特征在于:所述空穴載流子的擴散長度Lh是工作溫度T的函數,滿足Lh=Lo*exp(T/To),其中經驗常數Lo=60nm,特征溫度To=87K。
6.根據權利要求1所述的紅外探測器,其特征在于:所述的上電極呈方框形,其電極材料采用鈦/金,鈦/鉑/金或者金/鋅合金。
7.根據權利要求1所述的紅外探測器,其特征在于:所述的n+下電極接觸層是摻雜硅元素的n+砷化鎵外延層,其厚度小于空穴載流子的擴散長度。
8.根據權利要求1所述的紅外探測器,其特征在于:所述的暗電流阻擋層為AlxGa1-xAs外延層,其中0.1≤x<1。
9.一種權利要求1至8任一所述的紅外探測器的制作方法,其特征在于,包括:在半絕緣砷化鎵單晶襯底上依次生長n+下電極接觸層、暗電流阻擋層、量子點有源區、n+中間電極接觸層和p+上電極接觸層,在n+下電極接觸層、n+中間電極接觸層和p+上電極接觸層上分別制作下電極、中間電極和上電極。
10.根據權利要求9所述的紅外探測器的制作方法,其特征在于:所述n+下電極接觸層、暗電流阻擋層、量子點有源區、n+中間電極接觸層和p+上電極接觸層均采用分子束外延方法或者金屬有機物化學氣相沉積方法連續生長獲得。
11.根據權利要求9所述的紅外探測器的制作方法,其特征在于:在沉積上電極材料時,加熱到100~350℃,在沉積中間電極和下電極材料時,加熱到80~140℃。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于中國科學院蘇州納米技術與納米仿生研究所,未經中國科學院蘇州納米技術與納米仿生研究所許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201310118672.8/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:一種高效光電系統
- 下一篇:一種U形溝槽的功率器件及其制造方法
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





